公开(公告)号：CN112044284A

公开(公告)日：2020-12-08

申请号：CN201910492158.8

申请日：2019-06-06

Applicant: 中国矿业大学(北京)

Inventor： 程宏飞 ,  徐培杰

IPC: B01D71/02 ,  B01D69/02 ,  C01B33/40 ,  G01N27/26

Abstract: 本文涉及纳米组装综合利用技术领域，尤其涉及一种埃洛石离子通道功能膜材料的制备方法及应用。所述的制备方法包括以下步骤：1)用六偏磷酸钠对埃洛石纳米管进行改性；2)将改性的埃洛石纳米管溶于水中；3)将改性埃洛石纳米管分散液进行超声处理；4)将超声处理后的改性埃洛石纳米管分散液置于带有垂直放置的铝箔的U型槽中烘干，得到所述的埃洛石离子通道功能膜材料。本发明的功能膜材料由经过六偏磷酸钠改性后的埃洛石纳米管大规模定向后层层堆叠而成，形成丰富的沿同一方向延伸的离子通道，管内径和管与管之间形成纳米尺度的通道，由于管内腔及外部通道中带有负电，允许阳离子通过，表现出强烈的表面电荷控制的离子输运行为。

公开(公告)号：CN105271301A

公开(公告)日：2016-01-27

申请号：CN201510795951.7

申请日：2015-11-18

Applicant: 中国矿业大学(北京)

Inventor： 程宏飞 ,  周熠 ,  徐培杰

IPC: C01B39/52

Abstract: 本发明公开了一种煤系高岭土插层复合物制备钠沸石的方法，属于煤系高岭土领域。本发明包括以下步骤：将煤系高岭土粉碎；将质量分数为30％的醋酸钾溶液与粉碎后的高岭土按质量比为10:1混合，在室温下磁力搅拌3～4天；将搅拌后的产物进行过滤、洗涤、离心处理；将离心后的产物放在电热鼓风干燥箱干燥24h；将风干后的产物放入马弗炉中升温到800℃恒温4h后在自然条件下冷却，钠沸石存在于热解产物中。本发明制作工艺简单、操作方便且容易控制，通过醋酸钾与高岭土的复合物高温相变，从而制备钠沸石。本发明相对于现有的钠沸石制作工艺相对简单、工艺流程明显简化，且容易控制，生成的钠沸石质量远高于现有的钠沸石制作工艺。

公开(公告)号：CN103288096B

公开(公告)日：2015-08-12

申请号：CN201210054079.7

申请日：2012-03-02

Applicant: 中国矿业大学(北京)

Inventor： 程宏飞 ,  刘钦甫 ,  张志亮

IPC: C01B33/40

Abstract: 本发明属于煤系高岭岩综合利用领域，具体涉及一种降低煅烧温度的煤系高岭岩煅烧方法，所述煅烧方法包括以下步骤：将煤系高岭岩粉碎；将粉碎后的煤系高岭岩与水和钾盐混合，得到插层复合物浆料；所述插层复合物浆料进行离心分离，得到插层复合物粘料与插层剂溶液；将所述插层复合物粘料放入煅烧炉中，升温至350-450℃，恒温2-2.5h后，再升温至600-700℃并恒温0.5-1h；洗涤、过滤；将过滤后的煤系高岭岩再制成浆料，进行喷雾干燥，得到成品超细煅烧高岭土。本发明提供的煅烧方法降低了能耗，煅烧后的高岭石具有较高的活性。

公开(公告)号：CN103359754A

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：CN201310289337.4

申请日：2013-07-10

Applicant: 中国矿业大学(北京)

Inventor： 刘钦甫 ,  李晓光 ,  程宏飞 ,  郭鹏

IPC: C01B33/44

Abstract: 本发明提出了一种高岭土-胺复合物的制备方法，合成步骤如下，选择200-325目高岭土，提纯去除杂质；将高岭土和插层剂按照质量比1:2与配制好的插层剂溶液混合，在液态条件下对高岭土进行直接插层；插层剂选自下列一种或几种：水合肼、甲酰胺、乙酰胺、甲基甲酰胺、丙烯酰胺、醋酸钾、二甲基亚砜、尿素、氯化钾；再以液态醇对直接插层高岭土反复淋洗十次，每次为10-48小时，制得高岭土-醇复合物；将高岭土-醇嫁接体在湿润状态下加入胺溶液，磁力搅拌40小时。离心取出沉淀物，干燥，使其析出过量胺，即得高岭土-胺嫁接体。其层间距可随着插入胺分子大小不同而变化，可达到近6.0nm。此种复合物对高岭土的纳米化研究具有重要意义。

公开(公告)号：CN103359753A

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：CN201310280849.4

申请日：2013-07-05

Applicant: 中国矿业大学(北京)

Inventor： 刘钦甫 ,  李晓光 ,  程宏飞 ,  郭鹏

IPC: C01B33/44

Abstract: 本发明涉及一种制备高岭土-硅烷有机插层复合物的方法。将硅烷嫁接入高岭土层间，形成高岭土-层间硅烷嵌合插层体，其特征在于其层间距d(001)在2.0nm到5.9nm之间。本发明方法是将硅烷以化学键合作用方式嫁接入层内，且嫁接率高，不同于以往简单的表面吸附的改性过程。可以将硅烷的多个功能基团与高岭土的特有功能特性相互结合补偿，形成具有更好分散性、吸附性、表面活性的复合物，甚至与有机母质在原位发生结合而使片层剥离，达到纳米尺度上的充填。本发明在纳米复合材料、橡胶塑料填充材料领域具有较大的应用前景。