从含镍和钴的氢氧化物制造含镍和钴的溶液的制造方法

    公开(公告)号:CN113474069A

    公开(公告)日:2021-10-01

    申请号:CN202080013276.7

    申请日:2020-03-16

    Abstract: 本发明提供一种制造成本得以有效抑制的由氢氧化物制造同时含有钴和镍且高纯度的溶液的制造方法。含钴和镍的溶液的制造方法由以下工序构成:水洗工序,将粗镍氢氧化物和粗钴氢氧化物中的至少一者作为起始物质,由该起始物质得到水洗后粗氢氧化物,所述粗镍氢氧化物和粗钴氢氧化物均含有钴和镍以及作为杂质的所述钴和镍以外的元素,所述粗镍氢氧化物包含的镍比钴多,所述粗钴氢氧化物包含的钴比镍多;浸出工序,由所述水洗后粗氢氧化物得到浸出后液;中和工序,对所述浸出后液进行中和处理、固液分离处理,去除含有作为杂质的铁、硅、铝、铬中的一种以上的中和后残渣,得到中和后液;以及萃取工序,对所述中和后液进行溶剂萃取,得到同时含有钴和镍且减少了杂质的萃取后液。

    钪回收方法
    23.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108463567B

    公开(公告)日:2020-05-19

    申请号:CN201780006619.5

    申请日:2017-01-11

    Abstract: 本发明提供一种能够从氧化镍矿中简便且高效地回收高纯度的钪的钪回收方法。本发明的钪回收方法包括:第一中和工序,使含有钪的溶液通过离子交换树脂,在从该离子交换树脂洗脱的洗脱液中添加中和剂,实施中和处理,通过固液分离而得到一次中和沉淀物和一次中和滤液;第二中和工序,在一次中和滤液中再次添加中和剂,实施中和处理,通过固液分离而得到二次中和沉淀物和二次中和滤液;氢氧化物溶解工序,在二次中和沉淀物中添加酸,得到氢氧化物溶解液;溶剂萃取工序,将氢氧化物溶解液进行溶剂萃取;以及钪回收工序,从在溶剂萃取工序中分离出的萃余液中回收氧化钪。

    金属电沉积用的阴极板及其制造方法

    公开(公告)号:CN110546310A

    公开(公告)日:2019-12-06

    申请号:CN201880026566.8

    申请日:2018-03-29

    Abstract: 本发明提供一种金属板上的非导电膜不易脱落而能重复使用而且即使在非导电膜脱落的情况下也能容易地维护的金属电沉积用的阴极板及其制造方法。本发明的阴极板(1)具有:排列有复数个圆盘状的凸起部(2a)的金属板(2);和在金属板(2)的凸起部(2a)以外的平坦部(2b)上形成的非导电膜(3),对于凸起部(2a),其侧面具有由大致垂直的部分(2d)和倾斜部(2e)构成的形状。另外,凸起部(2a)的高度L1为50μm以上且1000μm以下,将从在外侧与凸起部的外周缘相距20μm的位置X垂直向下的垂线与侧面的交点设为Y时,从X到Y的长度L2为40μm以上且0.8×L1μm以下。

    钪纯化方法
    27.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108699628A

    公开(公告)日:2018-10-23

    申请号:CN201780014827.X

    申请日:2017-03-01

    Abstract: 从含有钪和钍的氧化镍矿的硫酸浸出液中将钪和钍分离时,使钪回收的对象成为一个系统,能够实现工序的简化以及高收率。本发明的方法包括:萃取工序(S1),使用包含酰胺衍生物的钪萃取剂,对将含有钪和钍的氧化镍矿用硫酸处理而得到的酸性溶液(萃取初始液)进行溶剂萃取,分离为含有钪和钍的萃取后有机(第一有机相)和含有杂质的萃取后液(第一水相);以及洗涤工序(S2),在所述萃取后有机(第一有机相)中加入硫酸,分离为含有钍的洗涤后有机(第二有机相)和含有钪的洗涤后液(第二水相)。此时,在萃取工序(S1)中,将pH调节为1.0以上且3.0以下,在洗涤工序(S2)中,将pH调节为1.0以上且2.5以下。

    钪回收方法
    28.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108603246A

    公开(公告)日:2018-09-28

    申请号:CN201780009549.9

    申请日:2017-01-31

    Abstract: 从镍氧化物矿简便且高效地回收高纯度的钪。本发明的方法包括:吸附工序(S21),将含钪溶液通入离子交换树脂,使钪吸附于离子交换树脂;洗脱工序(S23),从离子交换树脂洗脱钪,得到洗脱后液;杂质萃取工序(S3),在洗脱工序(S23)之后,对含有钪的溶液实施使用了胺系杂质萃取剂的第一溶剂萃取,分离成含有钪的第一水相和含有杂质的第一有机相;钪萃取工序(S4),对第一水相实施使用了含酰胺衍生物的钪萃取剂的第二溶剂萃取,得到含有钪的第二有机相。杂质萃取工序(S3)和钪萃取工序(S4)的先后顺序没有特别的限定,可以是钪萃取工序(S4)在先而杂质萃取工序(S3)在后。

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