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公开(公告)号：CN103358746A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201310112098.5
申请日：2013-04-02
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/529 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5245 , B41M5/5254 , B41M5/5263
Abstract: 本发明涉及记录介质。一种记录介质，其包括支承体和墨接受层。所述墨接受层包括无机颗粒、粘结剂、聚(二烯丙基二甲基胺盐酸盐)、具有磺酰基的阳离子性聚合物和多价金属。
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公开(公告)号：CN103085521A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201210418338.X
申请日：2012-10-26
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5227 , B41M5/5254 , B41M2205/42
Abstract: 本发明涉及一种记录介质，其依次包括支持体、第一墨接收层和第二墨接收层，其中该第一墨接收层包含选自氧化铝、氧化铝水合物和气相法二氧化硅的至少一种、聚乙烯醇和硼酸，其中第一墨接收层中的硼酸的含量与第一墨接收层中的聚乙烯醇的含量的质量比为2.0质量%以上且7.0质量%以下，其中该第二墨接收层包含气相法二氧化硅、聚乙烯醇和硼酸，其中第二墨接收层中的硼酸的含量与第二墨接收层中的聚乙烯醇的含量的质量比为10.0质量%以上且30.0质量%以下。
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公开(公告)号：CN103085521B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201210418338.X
申请日：2012-10-26
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5227 , B41M5/5254 , B41M2205/42
Abstract: 本发明涉及一种记录介质，其依次包括支持体、第一墨接收层和第二墨接收层，其中该第一墨接收层包含选自氧化铝、氧化铝水合物和气相法二氧化硅的至少一种、聚乙烯醇和硼酸，其中第一墨接收层中的硼酸的含量与第一墨接收层中的聚乙烯醇的含量的质量比为2.0质量%以上且7.0质量%以下，其中该第二墨接收层包含气相法二氧化硅、聚乙烯醇和硼酸，其中第二墨接收层中的硼酸的含量与第二墨接收层中的聚乙烯醇的含量的质量比为10.0质量%以上且30.0质量%以下。
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公开(公告)号：CN104339910A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201410384073.5
申请日：2014-08-06
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/5218 , B41M5/502 , B41M5/52 , B41M5/5227
Abstract: 本发明涉及一种记录介质。一种记录介质，其具有基材和墨接收层，其中所述墨接收层含有胶体二氧化硅、锆化合物、铵盐和羟基羧酸，并且包含于所述墨接收层中的所述胶体二氧化硅的90％以上存在于距离所述记录介质的最外表面沿深度方向0nm以上且300nm以下的区域。
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公开(公告)号：CN104228387A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201410282900.X
申请日：2014-06-23
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/5218 , B41M5/502 , B41M5/504 , B41M5/506 , B41M5/508 , B41M5/52 , B41M5/5254
Abstract: 本发明涉及一种记录介质。记录介质包括基材和墨接收层。所述墨接收层包含氧化铝颗粒、二氧化硅颗粒和粘结剂。当从表面侧向基材侧进行蚀刻时，通过X射线光电子光谱法进行的记录介质的组成分析提供，在0分钟的蚀刻时间时Si元素的存在量相对于Al元素与Si元素的合计存在量的比例为10原子％-90原子％，和在5分钟的蚀刻时间时Si元素的存在量相对于Al元素与Si元素的合计存在量的比例为50原子％以上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103129200B
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201210465892.3
申请日：2012-11-16
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/00
CPC classification number: B41M5/508 , B41M5/502 , B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5254 , B41M2205/42
Abstract: 本发明涉及记录介质。所述记录介质依次包括支持体、第一墨接收层和第二墨接收层，其中第一墨接收层中硼酸的含量相对于第一墨接收层中聚乙烯醇的含量为2.0质量%以上且7.0质量%以下，第二墨接收层中硼酸的含量相对于第二墨接收层中聚乙烯醇的含量为10.0质量%以上且30.0质量%以下，记录介质的最外表面层具有相对于无机颜料的含量为0.5质量%以上且5.0质量%以下的颗粒含量，所述颗粒具有1.0μm以上且20.0μm以下的平均二次粒径。
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公开(公告)号：CN102785500B
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201210153337.7
申请日：2012-05-17
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/52
CPC classification number: B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5227 , B41M5/5245 , B41M5/5254 , B41M5/5281
Abstract: 本发明涉及一种喷墨记录介质。喷墨记录介质包括支持体和墨接收层，所述墨接收层设置在所述支持体上并且包含氧化铝颜料和碳数为1以上至4以下的烷基磺酸。所述墨接收层进一步包含高分子化合物、水溶性锆化合物和硼酸或硼酸盐。所述高分子化合物是通过将生成物的至少一个氨基用酸阳离子化而获得的高分子化合物，所述生成物通过至少3种化合物的反应获得，所述3种化合物即，(i)包含2个以上活性氢原子的含硫有机化合物，(ii)包含2个以上异氰酸酯基的多异氰酸酯化合物，和(iii)包含2个以上活性氢原子的胺化合物。
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公开(公告)号：CN103568617A
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201310344109.2
申请日：2013-08-08
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/502 , B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M2205/42
Abstract: 本发明涉及记录介质。一种记录介质依次包括支持体、包含第一无机颗粒和第一粘结剂的第一墨接收层、包含第二无机颗粒和第二粘结剂的第二墨接收层以及作为最外表面层并包含第三无机颗粒、第三粘结剂和不同于所述第三无机颗粒且具有1.0至20.0μm的平均二次粒径的颗粒的第三墨接收层。所述第一粘结剂的含量与所述第一无机颗粒的含量的质量比大于第二粘结剂的含量与第二无机颗粒的含量的质量比。所述具有特定平均二次粒径的颗粒的含量相对于所述第三无机颗粒的含量为0.5质量%以上。
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公开(公告)号：CN103507465A
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN201310258431.3
申请日：2013-06-26
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41M5/502 , B41M5/508 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5254
Abstract: 公开一种记录介质和图像记录方法。记录介质包括基材和墨接收层。所述墨接收层包含无机颗粒。所述记录介质的表面的根据JIS B0601:2001的算术平均粗糙度为0.8μm以上。所述记录介质的表面包含具有宽度为30μm以下和长度为500μm以下的开口部。基于每1mm2记录介质的表面，所述开口部的个数为5个以上且30个以下。
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