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公开(公告)号：CN109388023B
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN201810899848.0
申请日：2018-08-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明为感光性树脂组合物、感光性树脂涂层、感光性干膜、层合体和图案形成方法。将包含(A)包含具有式(a1)的重复单元和具有式(b1)的重复单元的有机硅树脂、(B)填料和(C)光致产酸剂的感光性树脂组合物涂布至基底上，以形成感光性树脂涂层，所述感光性树脂涂层可以被加工成厚膜形式的精细图案，具有改进的膜性质如耐开裂性并且可靠地作为保护膜。
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公开(公告)号：CN108388082B
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN201810104013.1
申请日：2018-02-02
Applicant: 信越化学工业株式会社(JP)
IPC: G03F7/075
Abstract: 本发明为感光性树脂组合物、感光性干膜、感光性树脂涂层和图案形成方法。将包括(A)有机硅改性的聚苯并噁唑树脂和(B)在曝光至波长190至500nm的辐射时分解产生酸的光致产酸剂的感光性树脂组合物涂布至基材上，以形成厚涂层，将该涂层曝光至辐射，烘焙，并显影以形成图案。所述树脂涂层能够形成精细图案并且具有改进的耐开裂性和其它膜性质，和可靠性。
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公开(公告)号：CN109976091A
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201811598408.8
申请日：2018-12-26
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及光敏树脂组合物、图案形成方法和光电半导体器件的制造，其提供了一种光敏树脂组合物，其包含具有式(A1)的双端脂环式环氧基改性的有机硅树脂和光致产酸剂。在式(A1)中，R1至R4是C1‑C20一价烃基，n是1‑600的整数。该组合物能够使用大幅变化波长的辐射来进行图案形成，并且图案化的膜具有高透明性、耐光性和耐热性。
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公开(公告)号：CN109388023A
公开(公告)日：2019-02-26
申请号：CN201810899848.0
申请日：2018-08-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明为感光性树脂组合物、感光性树脂涂层、感光性干膜、层合体和图案形成方法。将包含(A)包含具有式(a1)的重复单元和具有式(b1)的重复单元的有机硅树脂、(B)填料和(C)光致产酸剂的感光性树脂组合物涂布至基底上，以形成感光性树脂涂层，所述感光性树脂涂层可以被加工成厚膜形式的精细图案，具有改进的膜性质如耐开裂性并且可靠地作为保护膜。
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公开(公告)号：CN119987132A
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202411591406.1
申请日：2024-11-08
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 丸山仁
Abstract: 本发明提供一种光敏树脂组合物、光敏树脂覆膜、光敏干膜及使用该光敏树脂组合物、光敏树脂覆膜、光敏干膜的图案形成方法，所述光敏树脂组合物能够在无铜变色的状态下容易地形成为厚膜且微细的图案，并且能够形成抗铜迁移性、对基材的密合性、可靠性优异的树脂覆膜。所述光敏树脂组合物的特征在于，包含(A)具有酸交联性基团的硅树脂、(B)噁唑啉化合物或其衍生物及(C)光致产酸剂。
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公开(公告)号：CN117120927A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202280027009.4
申请日：2022-03-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 提供包含(A)含有酸交联性基团的有机硅树脂、(B)由下述式(B1)或(B2)表示的脂环式环氧化合物、和(C)光致产酸剂的感光性树脂组合物。(式中，R11～R46各自独立地为氢原子或碳数1～8的饱和烃基。)
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公开(公告)号：CN116710846A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202280010886.0
申请日：2022-01-05
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/075
Abstract: 本发明提供感光性树脂组合物，其包含：(A)具有环氧基和/或酚性羟基的有机硅树脂、(B)由下述式(B)所表示的光致产酸剂、和(C)羧酸季铵化合物。
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