公开(公告)号：CN1960698A

公开(公告)日：2007-05-09

申请号：CN200580017743.9

申请日：2005-05-31

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 涩谷彰 ,  加藤咏子 ,  蒲池元昭 ,  青木裕史

IPC: A61K8/44 ,  A61Q19/00

CPC classification number: A61K8/365 ,  A61K8/44 ,  A61K8/676 ,  A61K8/678 ,  A61K31/195 ,  A61Q19/06

Abstract: 本发明提供了含有肉碱衍生物的减肥皮外制剂和化妆品，其具有优异的皮肤亲合力和经皮吸收性且能够增强脂肪新陈代谢，且其可以通过作为解脂剂起作用以增强全部或局部皮下脂肪组织的脂肪新陈代谢来治疗、降低或抑制肥胖。该减肥皮外制剂含有特定的肉碱衍生物(如环肉碱(cylcarnitine)和醇肉碱脂)与优选的其它减肥和护肤成分。

公开(公告)号：CN113906064A

公开(公告)日：2022-01-07

申请号：CN202080039256.7

申请日：2020-10-23

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 金子周 ,  小川真广 ,  涩谷彰

IPC: C08F236/18 ,  C08F236/08 ,  C08F2/26 ,  C08L11/02 ,  A41D19/015

Abstract: 本发明的一实施方式涉及氯丁二烯共聚物胶乳、氯丁二烯共聚物胶乳的制造方法、氯丁二烯共聚物胶乳组合物、氯丁二烯共聚物橡胶成型物或浸渍制品，该氯丁二烯共聚物胶乳含有源自2‑氯‑1,3‑丁二烯(氯丁二烯)的单体单元和源自2‑甲基‑1,3‑丁二烯的单体单元，其中，上述氯丁二烯共聚物中不溶于四氢呋喃的成分为20质量％以下，上述氯丁二烯共聚物中源自2‑甲基‑1,3‑丁二烯的单体单元的比例为10～27mol％。

公开(公告)号：CN109415299B

公开(公告)日：2021-10-08

申请号：CN201780038018.2

申请日：2017-07-11

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 青木隆典 ,  涩谷彰 ,  小林孝充 ,  宫田英雄 ,  冢本真也 ,  桑岛学 ,  村井元纪

IPC: C07C227/26 ,  C07C229/08 ,  C07B61/00

Abstract: 本发明提供下述甘氨酸的制造方法：在由氨基乙腈合成甘氨酸时，与以往相比能够以高收率获得甘氨酸。一种甘氨酸的制造方法，其特征在于，使氨基乙腈与水在铈化合物的存在下，此外，进一步添加氨而使其反应，从而获得甘氨酸。

公开(公告)号：CN101669887B

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：CN200910171912.4

申请日：2005-12-20

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 涩谷彰 ,  青木英雅 ,  斋藤信 ,  蒲池元昭 ,  土屋笃史 ,  冈村彰郎

IPC: A61K8/49 ,  A61K8/64 ,  A61K8/86 ,  A61Q5/04

CPC classification number: A61K8/4933 ,  A61Q5/04

Abstract: 本发明提供了一种即使在中性到弱酸性的pH范围内也能够烫发的毛发处理剂，其对皮肤几乎不造成刺激，并且该毛发处理剂中令人不愉快的气味被掩蔽。毛发处理剂含有至少一种式(2)表示的化合物。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物和至少一种选自巯基乙酸、硫羟乳酸、半胱氨酸、乙酰基半胱氨酸、半胱胺、酰基半胱胺、它们的盐和它们的酯衍生物的化合物(ii)。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物、表面活性剂和水，并且被乳化。毛发处理剂含有式(2)的化合物和特定的香料。其中X是选自由-O-、-S-、-NH-和-NR1-组成的组的结构；R1是1-6个碳原子的烷基；Y是氧原子或硫原子；在式(1)中，Z是具有至少一个巯基的二价有机残基；在式(2)中，R是任选地具有巯基的二价有机残基，R2是氢原子或1-6个碳原子的烷基。

公开(公告)号：CN101669887A

公开(公告)日：2010-03-17

申请号：CN200910171912.4

申请日：2005-12-20

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 涩谷彰 ,  青木英雅 ,  斋藤信 ,  蒲池元昭 ,  土屋笃史 ,  冈村彰郎

IPC: A61K8/49 ,  A61K8/64 ,  A61K8/86 ,  A61Q5/04

CPC classification number: A61K8/4933 ,  A61Q5/04

Abstract: 本发明提供了一种即使在中性到弱酸性的pH范围内也能够烫发的毛发处理剂，其对皮肤几乎不造成刺激，并且该毛发处理剂中令人不愉快的气味被掩蔽。毛发处理剂含有至少一种式(2)表示的化合物。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物和至少一种选自巯基乙酸、硫羟乳酸、半胱氨酸、乙酰基半胱氨酸、半胱胺、酰基半胱胺、它们的盐和它们的酯衍生物的化合物(ii)。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物、表面活性剂和水，并且被乳化。毛发处理剂含有式(2)的化合物和特定的香料。其中X是选自由-O-、-S-、-NH-和-NR 1 -组成的组的结构；R 1 是1-6个碳原子的烷基；Y是氧原子或硫原子；在式(1)中，Z是具有至少一个巯基的二价有机残基；在式(2)中，R是任选地具有巯基的二价有机残基，R 2 是氢原子或1-6个碳原子的烷基。

公开(公告)号：CN101184528A

公开(公告)日：2008-05-21

申请号：CN200680018526.6

申请日：2006-05-25

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 涩谷彰 ,  万谷慎一 ,  斋藤信

IPC: A61Q5/04 ,  A61K8/49

CPC classification number: A61Q5/04 ,  A61K8/4933

Abstract: 本发明公开了一种烫发剂，该烫发试剂即使在对皮肤刺激不明显的中性至弱酸性pH范围内也能够实现烫发。该烫发剂包含至少一种由式(1)表示的杂环巯基化合物：其中R1和R2彼此独立地代表氢原子或任选取代的具有1－5个碳原子的烷基；X代表－O－、－S－、－NH－或－NR3－；R3代表具有1－5个碳原子的烷基；n为0－2的整数；而且，当n为2时，基团SH可以与具有2个碳原子的亚烷基中的任一碳原子连接。

公开(公告)号：CN101115529A

公开(公告)日：2008-01-30

申请号：CN200680004281.1

申请日：2006-02-03

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 涩谷彰 ,  斋藤信

IPC: A61Q5/04 ,  A61K8/46

CPC classification number: A61K8/46 ,  A61Q5/04

Abstract: 本发明公开的头发松弛剂包含至少一种特定的巯基化合物如3－巯基丙酸2－甲氧基乙基酯、2－巯基－4－丁内酯和2－巯基－4－丁内酰胺。所述头发松弛剂能够在从弱酸性到弱碱性的宽pH值范围内显示成形和松弛头发的优异效果。尤其，所述头发松弛剂在弱酸性到中性pH范围内显示出更优异的头发成形和松弛特性。因此，所述头发松弛剂能够显著地减少对头发和皮肤的损伤并且能够可靠地进行拉直、变直和卷曲和其它头发处理。