半导体集成电路装置
    21.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1497725A

    公开(公告)日:2004-05-19

    申请号:CN200310102465.X

    申请日:2003-10-21

    Abstract: 一种半导体集成电路装置,可控制MOSFET的衬底电压,以使MOSFET的亚阈值区域或饱和区域的某任意栅极电压值的漏极电流消除温度依存性、工艺偏差依存性,谋求动作稳定性的提高。其包括:集成电路主体(16A);监视装置(15A);衬底电压调节装置(14A),其中,监视器装置(15A)包括:恒流源(12A);和所述多个MOSFET在同一衬底上形成的监视用MOSFET(11A),衬底电压调节装置(14A)包括:在接地电位上连接监视用MOSFET(11A)的漏极端子和集成电路主体(16A)的多个MOSFET的漏极端子的状态下将监视用MOSFET(11A)的源极电位和预先决定的基准电位比较的比较装置(13A),将基于采用比较装置(13A)的比较结果输出的输出电压反馈到监视用MOSFET(11A)的衬底电压中。

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