有机溶剂的处理方法及处理材料

    公开(公告)号:CN113631269A

    公开(公告)日:2021-11-09

    申请号:CN202080024017.4

    申请日:2020-03-10

    Abstract: 一种有机溶剂的处理方法,从电子部件制造工序中使用的有机溶剂中去除微粒,所述有机溶剂的处理方法的特征在于,包括使处理材料与所述有机溶剂接触的工序,所述处理材料是在水中具有正电荷或负电荷且含水率为3质量%以上的处理材料。一种面向电子部件制造工序的有机溶剂处理材料,通过与电子部件制造工序中使用的有机溶剂接触从而从有机溶剂中去除微粒,所述有机溶剂处理材料在水中具有正电荷或负电荷。

    逆渗透膜的洗净剂、洗净液及洗净方法

    公开(公告)号:CN106999860B

    公开(公告)日:2019-01-22

    申请号:CN201580054150.3

    申请日:2015-10-01

    Abstract: 本发明提供一种具有抑制由洗净引起的逆渗透膜的阻挡率下降的效果的洗净剂、洗净液及利用所述洗净液的逆渗透膜的洗净方法。所述洗净剂含有脲衍生物的逆渗透膜。作为脲衍生物,优选为脲(H2N‑CO‑NH2)、缩二脲(H2N‑CO‑NH‑CO‑NH2)。所述洗净液包含将所述洗净剂稀释而成的水溶液。所述洗净方法为使用所述洗净液将逆渗透膜洗净的方法。脲或缩二脲形成为接近芳香族聚酰胺系逆渗透膜的酰胺键的结构,与酰胺键部分的亲和性强,通过吸附于酰胺键部分,从而抑制由洗净液引起的酰胺键的切断。

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