公开(公告)号：CN102057470B

公开(公告)日：2013-04-10

申请号：CN200980121999.2

申请日：2009-03-11

Applicant: 栗田工业株式会社

Inventor： 内田稔 ,  永井达夫 ,  山川晴义

IPC: H01L21/304 ,  C25B1/30 ,  H01L21/027

CPC classification number: C25B1/285 ,  C25B15/08

Abstract: 本发明的目的在于高效地生成作为功能性溶液的硫酸电解液，并且在抑制通过电解生成的过硫酸的自分解的情况下将其高效地供给至使用侧。本发明是一种功能性溶液供给系统，该系统是通过电解硫酸溶液来制造功能性溶液并供给至使用侧的功能性溶液供给系统，其特征在于，该系统包括用于贮留硫酸溶液的贮留槽(2)、用于电解硫酸溶液的电解装置(电解室(3))、用于对硫酸溶液加温的加温单元(加热器(4))、用于冷却硫酸溶液的冷却单元(冷却器(4))、以及下述的3个循环管路：第一循环管路(11)，该第一循环管路(11)不经由加温单元、而是经由电解装置将从贮留槽(2)排出的硫酸溶液返回至所述贮留槽(2)；第二循环管路(12)，该第二循环管路(12)不经由加温单元、而是依次经由冷却单元和所述贮留槽(2)将从使用侧(洗涤机(1))导入的硫酸溶液返回至使用侧；第三循环管路(13)，该第三循环管路(13)不经由冷却单元和所述贮留槽(2)、而是经由加温单元(加热器(4))将从所述使用侧导入的硫酸溶液返回至所述使用侧。

公开(公告)号：CN101512725B

公开(公告)日：2012-09-05

申请号：CN200780033165.7

申请日：2007-09-05

Applicant: 栗田工业株式会社 ,  大日本网屏制造株式会社

Inventor： 永井达夫 ,  森田博志 ,  高桥弘明 ,  内田博章 ,  林豊秀

IPC: H01L21/027 ,  G02F1/13 ,  B08B3/02 ,  H01L21/304 ,  B08B3/08 ,  G11B7/26

CPC classification number: G03F7/423 ,  H01L21/6708

Abstract: 本发明提供一种能够从基板很好地去除抗蚀剂，并且能够再利用在该抗蚀剂的去除中使用过的处理液的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置具有：基板保持装置，其用于保持基板；过硫酸生成装置，其使用硫酸生成过硫酸；混合装置，其对通过所述过硫酸生成装置生成的过硫酸以及与由所述过硫酸生成装置使用的硫酸相比更高温并且更高浓度的硫酸加以混合；以及喷出装置，其将通过所述混合装置混合的过硫酸和硫酸的混合液作为从基板去除抗蚀剂用的处理液，并向保持在所述基板保持装置的基板喷出。