一种基于二维拉曼图结合深度学习的拉曼光谱分析方法

    公开(公告)号:CN115565004A

    公开(公告)日:2023-01-03

    申请号:CN202211235569.7

    申请日:2022-10-10

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了一种基于二维拉曼图结合深度学习的拉曼光谱分析方法,该方法包括:获取生物样本的原始拉曼光谱数据和多种拉曼光谱数据转换方式;根据原始拉曼光谱数据的属性特征,对原始拉曼光谱数据的复杂程度进行判断得到复杂程度判断结果;根据复杂程度判断结果和预设的转换匹配机制,匹配最优的拉曼光谱数据转换方式,对预处理后的原始拉曼光谱数据进行转换得到二维拉曼图样本集,训练深度学习网络模型,得到训练好的深度学习网络模型,将实际二维拉曼图集输入训练好的深度学习网络模型进行图像分类,得到图像分类结果。本发明可根据光谱数据的复杂程度来匹配合适的转换过程,实现了高准确率的识别,提高了样品鉴别的能力。

    一种多羟基功能化离子液体润滑剂及制备方法

    公开(公告)号:CN113046160A

    公开(公告)日:2021-06-29

    申请号:CN202110317890.9

    申请日:2021-03-25

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了属于润滑材料技术领域的一种多羟基功能化离子液体润滑剂及制备方法。所述润滑剂由水滑石纳米片分散于离子液体润滑剂得到。水滑石纳米片是一种层状多羟基化合物,由于相对较弱的内部成键及相互作用,可以改善摩擦副之间的润滑性能,有效减少摩擦副表面粗糙峰碰撞概率,降低滑移面的磨损。离子液体与多羟基醇配合,溶液能够吸附在摩擦副表面使表面带电并形成stern双电层,同时该溶液能够形成氢键网络结构并将水分子固定在接触区里。水滑石纳米片在摩擦副接触区可以演变形成致密的保护性摩擦膜,在接触区的水滑石有效避免粗糙峰的直接接触,极大提升了摩擦副的抗磨性能,实现了润滑液的超高负载能力。

    一种聚醚水滑石混合溶液的制备方法

    公开(公告)号:CN109722323A

    公开(公告)日:2019-05-07

    申请号:CN201910007079.3

    申请日:2019-01-04

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了一种可实现超低摩擦系数(低于0.01)的聚醚水滑石混合溶液的制备方法,属于润滑材料领域。采用水热法制备得到的超薄纳米水滑石薄片表面带有亲水基团,按0.5%~2%比例在水中均匀分散后,可制备得到一种均匀半透明的胶体溶液,随后以20~50%的比例与聚醚润滑液进行混合。本发明的聚醚水滑石混合溶液中超薄纳米水滑石片的纵向尺寸相较于润滑膜的厚度而言极小,该水滑石样品的加入使得摩擦副表面在跑合阶段能够得到平坦化以及抛光,从而可以快速地完成跑合过程,与聚醚水溶液结合,实现超低摩擦系数,并且提高其最终承载能力。

    一种用于分散微米/纳米固体颗粒于液体中的装置及方法

    公开(公告)号:CN104307412B

    公开(公告)日:2017-08-11

    申请号:CN201410554041.5

    申请日:2014-10-17

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明属于固体颗粒分散技术领域,特别涉及一种用于分散微米/纳米固体颗粒于液体中的装置及方法。本发明装置在密封罩内底部设置升降台,在升降台上设置油浴/水浴锅,在油浴/水浴锅内部设置容器;容器上方设置超声变幅杆,超声变幅杆一端与超声变幅器相连;密封罩上设置通风口;密封罩与真空泵相连。本发明方法通过控制液体的温度,及其所处密闭空间的气压或周围气体的流动速度,根据微米/纳米以及液体本身的性质,创造出一个最适合微米/纳米颗粒分散的环境。同时,本发明方法还采用超声波振荡,防止微米/纳米颗粒在分散过程中再次团聚。使用本发明装置及办法,可以快速有效地将微米/纳米颗粒分散于溶解性相对较差液体中,且分散质量较高。

    一种具备超润滑性能的水基润滑剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN105296132A

    公开(公告)日:2016-02-03

    申请号:CN201510829761.2

    申请日:2015-11-25

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了一种具备超润滑性能的水基润滑剂及其制备方法,属于润滑材料领域。所述水基润滑剂由5%-70wt%的聚醚和30-95wt%的水组成。其中,聚醚的分子量为100g/mol-5000g/mol,聚合单体为环氧烷类。水基润滑剂的制备方法为:将聚醚按5%-70%的质量分数加入水中,得到聚醚的水溶液;用超声波处理,使聚醚与水完全互溶,得到所述水基润滑剂。本发明的水基润滑剂操作方便、安全可靠;原材料成本低廉易得、环境友好无污染。使用本发明制备的水基润滑剂能够明显有效地降低摩擦副间的摩擦系数,使其降至0.01以下的超润滑范围,具有广泛的应用范围和巨大的实用价值。

    一种具有超低摩擦系数的水基润滑液及其制备方法

    公开(公告)号:CN104479844A

    公开(公告)日:2015-04-01

    申请号:CN201410796149.5

    申请日:2014-12-18

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了一种具有超低摩擦系数的水基润滑液及其制备方法,属于润滑材料技术领域。所述水基润滑液是由去离子水、丙三醇、纳米金刚石按质量份6500~7500:2500~3500:0.5~5组成。本发明首先将丙三醇溶解于去离子水中,然后加入纳米金刚石粉末,并用超声波处理,使纳米金刚石分散均匀,制得上述具有超低摩擦系数的水基润滑液。本发明所用原料简单易得、成本低廉、绿色无污染;制备的水基润滑液能够大大降低摩擦副间的摩擦系数,使其降至0.01以内,应用范围广,具有很大的实用价值。

    化学机械抛光垫及化学机械抛光方法

    公开(公告)号:CN102601727B

    公开(公告)日:2015-02-18

    申请号:CN201210082661.4

    申请日:2012-03-26

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了属于化学机械抛光领域中的一种化学机械抛光垫和化学机械抛光方法。本抛光垫至少包括一个纳米纤维层,纳米纤维层为非织布结构,纤维层厚度为0.1μm-3cm,纳米纤维平均直径为1nm-1μm,长度>1cm,纳米纤维轴向平行于抛光垫工作表面。其化学机械抛光方法包括将抛光液施加到抛光垫工作表面或被抛光材料表面;使抛光垫工作表面与被抛光材料表面接触,并使抛光垫相对于被抛光材料运动,在低压力或超低压力下对被抛光材料进行化学机械抛光。使用本发明的抛光垫,可以减少划痕损伤和应力剥离等缺陷获得较高质量的表面,同时,可以实现在较低的压力下获得较高的材料去除速率。

    一种具有超低摩擦系数的药丸涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN102430124B

    公开(公告)日:2013-03-20

    申请号:CN201110378323.0

    申请日:2011-11-24

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了一种可用于制备药物表面涂层的多糖水凝胶及其制备方法。本发明所提供的多糖水凝胶由多糖聚合交联得到;其中所述多糖由下述七种物质组成:L-阿拉伯糖、L-岩藻糖、D-半乳糖、L-鼠李糖、D-葡糖糖醛酸、D-甘露糖和D-木糖。该多糖水凝胶表面具有很低的摩擦系数(小于0.01),将其包覆于药物表面,可利用多糖水凝胶形成的特殊薄膜结构,达到降低药丸和喉咙表面之间摩擦阻力的作用,这样有助于人们特别是儿童轻松地吞服药丸,防止了药丸卡在喉咙或损伤咽喉的危险情况以及减轻人们吞咽药丸时的不适感情况。

    一种集成电路铜布线电沉积用的电解液

    公开(公告)号:CN101481812A

    公开(公告)日:2009-07-15

    申请号:CN200810246695.6

    申请日:2008-12-31

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明提供了一种集成电路铜布线电沉积用的电解液,包括如下组分和含量:硫酸铜为50~200克/升,硫酸为50~220克/升,氯离子为10~150毫克/升,抑制剂为5~200毫克/升,加速剂为5~50毫克/升,整平剂为0.5~20毫克/升,其余为去离子水。本发明由于电解液中含有氯离子、抑制剂和加速剂,电沉积后表面形貌改善,粗糙度减小。而且整平剂可增强沉积过程中加速剂在电极表面的吸附,进而增强加速剂的表面改善作用,镀层表面粗糙度进一步减小,沉积所得镀层Cu(111)晶向占优,沉积后表面枝状生长模式消失,表面无孔洞缺陷。

    一种集成电路铜布线的无磨粒化学机械抛光液

    公开(公告)号:CN101333419A

    公开(公告)日:2008-12-31

    申请号:CN200810117832.6

    申请日:2008-08-05

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了一种集成电路铜布线的无磨粒化学机械抛光液,包括去离子水、氧化剂和络合剂,其中,络合剂为2~40毫摩尔每升,氧化剂所占的质量百分比为1~20%,其余为去离子水。本发明中抛光液不含有抛光磨粒,从而避免了抛光液中磨粒对抛光表面造成的损伤,因此本发明抛光损伤小,且易清洗;抛光液呈碱性,pH≥8.5,对设备腐蚀小;根据铜抛光液的使用阶段,铜的抛光去除率可控制在100~4000nm/min之间,且可控;氧化剂同时起到络合剂的作用,可起到铜快速氧化去除的目的,另外,还具有工艺简化,价格便宜,成本低,速度可控。

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