薄膜衬底
    22.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1247054C

    公开(公告)日:2006-03-22

    申请号:CN99801138.X

    申请日:1999-05-14

    CPC classification number: B41M3/006 H05K3/185 Y10T428/24802 Y10T428/31663

    Abstract: 一种衬底,用以形成附着规定的流体并进行了图形化的膜。尤其是这种衬底,为了形成膜,备有按特定形状进行了图形化的图形形成区域(10)。然后,该图形形成区域(10)的构成是在对流体没有亲合性的非亲合性区域(111)之间根据一定规则配置对流体具有亲合性区域(110)。流体不会过分扩展或分离,在必要的区域上可形成附着均匀的均衡薄膜。

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