喷墨记录用水性油墨
    21.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1990622A

    公开(公告)日:2007-07-04

    申请号:CN200610156773.4

    申请日:2006-12-27

    CPC classification number: C09D11/38 C09D11/30

    Abstract: 本发明涉及在普通纸上以一次走纸方式印刷时的印刷浓度高、且适于高速印刷的喷墨记录用水性油墨以及用于该油墨的分散体;其是包含含有着色剂的水不溶性聚合物粒子、以及满足下述I和II的非离子性有机化合物的喷墨记录用水分散体、含有前述水分散体的水性油墨以及以一次走纸方式用前述油墨进行印刷的方法。I:含有0.001重量%的非离子性有机化合物的水的表面张力(25℃)为70mN/m以下,II:非离子性有机化合物在100g水中的溶解度(25℃)为0.30g以下。

    研磨液组合物
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1715358A

    公开(公告)日:2006-01-04

    申请号:CN200510076332.9

    申请日:2005-06-14

    Inventor: 吉田宏之

    CPC classification number: C09K3/1463 C09G1/02

    Abstract: 本发明提供一种研磨液组合物,其含有采用硅酸盐制造的胶体氧化硅和水,所述胶体氧化硅的一次粒子的平均粒径不小于1nm且不足40nm,其中所述胶体氧化硅表面的硅烷醇基密度相对于每1g胶体氧化硅为0.06~0.3mmol;提供一种所述研磨液组合物的制造方法;提供一种基板的纳米划痕的减少方法以及基板的制造方法,其具有研磨工序,在该研磨工序中,使用含有采用硅酸盐制造的、一次粒子的平均粒径不小于1nm且不足40nm的胶体氧化硅和水的研磨液组合物研磨被研磨基板,其中所述胶体氧化硅表面的硅烷醇基密度被调整成相对于每1g胶体氧化硅为0.06~0.3mmol。本发明的研磨液组合物适用于存储硬盘基板等的磁盘、光盘、磁光盘等记录介质的基板、光掩模基板、光学透镜、光学反射镜、光学棱镜、半导体基板等精密部件基板的研磨。

    喷墨记录用水性油墨
    23.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1990622B

    公开(公告)日:2012-04-25

    申请号:CN200610156773.4

    申请日:2006-12-27

    CPC classification number: C09D11/38 C09D11/30

    Abstract: 本发明涉及在普通纸上以一次走纸方式印刷时的印刷浓度高、且适于高速印刷的喷墨记录用水性油墨以及用于该油墨的分散体;其是包含含有着色剂的水不溶性聚合物粒子、以及满足下述I和II的非离子性有机化合物的喷墨记录用水分散体、含有前述水分散体的水性油墨以及以一次走纸方式用前述油墨进行印刷的方法,I:含有0.001重量%的非离子性有机化合物的水的表面张力(25℃)为70mN/m以下,II:非离子性有机化合物在100g水中的溶解度(25℃)为0.30g以下。

    喷墨记录用水性油墨
    26.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101016428B

    公开(公告)日:2011-08-24

    申请号:CN200710005458.6

    申请日:2007-02-08

    CPC classification number: C09D11/38 C09D11/30

    Abstract: 本发明是含有:着色剂;具有1.0~2.2的折射率且不包括颜料的粒子(I);以及具有碳原子数为8~30的饱和或不饱和的烃基、在100g水中的溶解度(25℃)为1g以下的非离子性有机化合物的喷墨记录用水分散体以及含有上述水分散体的水性油墨,且本发明提供在普通纸上以一次走纸方式进行印刷时的印刷浓度高、且适合高速印刷的喷墨记录用水性油墨以及用于该油墨的分散体。

    研磨液组合物
    27.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1673306A

    公开(公告)日:2005-09-28

    申请号:CN200510059065.4

    申请日:2005-03-22

    CPC classification number: C09G1/02 B24B37/044 C09K3/1436 C09K3/1463

    Abstract: 本发明涉及一种包含水系介质和氧化硅粒子的研磨液组合物,其中氧化硅粒子的ζ电位为-15~40mV;涉及一种基板的制造方法,其包括如下工序:使用将包含水系介质与氧化硅粒子的研磨液组合物中的氧化硅粒子的ζ电位调节到-15~40mV的研磨液组合物,对被研磨基板进行研磨;涉及一种降低被研磨基板划痕的方法,其将包含水系介质和氧化硅粒子的研磨液组合物中的氧化硅粒子的ζ电位调节至-15~40mV。本发明的研磨液组合物适用于精密部件基板,例如磁盘、光盘、磁光盘等磁性记录介质的基板、光掩模基板、光学透镜、光学反射镜、光学棱镜、半导体基板等精密部件基板的研磨中。

    無機顔料用高分子分散剤
    28.
    发明申请
    無機顔料用高分子分散剤 审中-公开
    用于无机颜料的高分子分散剂

    公开(公告)号:WO2016143563A1

    公开(公告)日:2016-09-15

    申请号:PCT/JP2016/055918

    申请日:2016-02-26

    Inventor: 吉田宏之

    CPC classification number: C08F290/06 C09D17/00

    Abstract:  無機顔料の分散性とシート強度に優れるセラミックシートを製造可能な無機顔料用高分子分散剤を提供する。 本発明は、一実施形態において、エチレン性二重結合を有する、二塩基酸、無水二塩基酸及び二塩基酸モノエステルから選ばれる少なくとも1種の化合物由来の構成単位(a)、式(1)で表される構成単位及び式(5)で表される化合物由来の構成単位から選ばれる少なくとも1種の構成単位(b)、並びに式(2)で表される構成単位(c)を含有し、構成単位(b)に対する構成単位(c)の質量比[(c)/(b)]が0.05以上7.5以下である共重合体を含む、非水系溶媒中で用いる無機顔料用高分子分散剤に関する。 R 11 O(AO) m R 12  (5)

    Abstract translation: 本发明提供一种无机颜料的高分子分散剂,其能够制造具有优异的无机颜料分散性和片材强度的陶瓷片。 一个实施方案中的本发明涉及用于非水溶剂中的无机颜料的高分子分散剂,并且含有共聚物,所述共聚物包含:(a)衍生自至少一种具有烯属双键的化合物的构成单元,选自二元 酸,二元酸酐和二元酸单酯; (b)选自式(1)表示的结构单元和由式(5)表示的化合物衍生的构成单元的至少一种构成单元; 和(c)由式(2)表示的结构单元,构成单元(c)与构成单元(b),(c)/(b)的质量比为0.05-7.5。 R11O(AO)MR12(5)

    塩基性セラミックス含有スラリー組成物
    29.
    发明申请
    塩基性セラミックス含有スラリー組成物 审中-公开
    基本含陶瓷浆料组合物

    公开(公告)号:WO2013035573A1

    公开(公告)日:2013-03-14

    申请号:PCT/JP2012/071600

    申请日:2012-08-27

    Abstract: 帯電防止性、剥離性及び靭性に優れるセラミックシートを製造可能な塩基性セラミックス含有スラリー組成物を提供する。本開示の一態様は、含窒素複素芳香族第4級アンモニウムカチオン基を含むカチオン化合物、高分子分散剤、非水系溶媒、塩基性セラミックス材料及びポリビニルアセタール樹脂を含有するスラリー組成物に関する。

    Abstract translation: 本发明提供能够制造抗静电性优异,脱模性优异,韧性优异的陶瓷片的基本含陶瓷浆料组合物。 本发明的一个实施方案涉及一种浆料组合物,其含有:含有含氮杂芳族季铵阳离子基团的阳离子化合物; 聚合物分散剂; 非水溶剂; 一种基本的陶瓷材料; 和聚乙烯醇缩醛树脂。

    無機顔料用高分子分散剤
    30.
    发明申请
    無機顔料用高分子分散剤 审中-公开
    聚合物分散剂用于无机颜料

    公开(公告)号:WO2015041226A1

    公开(公告)日:2015-03-26

    申请号:PCT/JP2014/074492

    申请日:2014-09-17

    Inventor: 吉田宏之

    CPC classification number: C08F283/06 B01F17/0028 B01F17/005 C08F220/10

    Abstract: 無機顔料の分散性とシート剥離性に優れるセラミックシートを製造可能な無機顔料用高分子分散剤を提供する。一実施形態において、全構成単位中、式(1)で表される構成単位(a)を1質量%以上45質量%以下、及び、式(2)で表される構成単位(b)を55質量%以上99質量%以下含有する共重合体を含み、非水系溶媒中で用いる無機顔料用高分子分散剤に関する。

    Abstract translation: 本发明提供一种无机颜料的高分子分散剂,可以制造出具有优异的片材剥离性和无机颜料分散性的陶瓷片材。 本发明的一个实施方案涉及用于非水溶剂中的无机颜料的聚合物分散剂,所述聚合物分散剂包括总共构成单元包含1质量%至45质量%的构成单元的共聚物( a)和55质量%〜99质量%(包括式(2)所示的构成单元(b))。

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