반도체 제조용 화학기상증착 설비
    21.
    发明公开
    반도체 제조용 화학기상증착 설비 失效
    用于制造半导体的化学蒸气沉积装置

    公开(公告)号:KR1020020034521A

    公开(公告)日:2002-05-09

    申请号:KR1020000064908

    申请日:2000-11-02

    Inventor: 박용섭

    Abstract: PURPOSE: A chemical vapor deposition(CVD) apparatus for fabricating a semiconductor is provided to prevent a wafer from being caught in a slit valve, by determining a precise position of a slid wafer through a reflex mirror attached to the cover of a loadlock chamber and by inspecting whether the wafer is slid to the slit valve installed between a storage elevator and a process chamber. CONSTITUTION: A CVD process is performed in the process chamber(10). The wafer regarding which the CVD process is performed stands by in a wafer standing-by chamber. A robot blade(30) loads/unloads the wafer between the wafer standing-by chamber and the process chamber, connected between the process chamber and the wafer standing-by chamber. The storage elevator temporarily stores the wafer. The robot blade and the storage elevator are installed in the loadlock chamber. The slit valve(21) connects or isolates the loadlock chamber and the process chamber, installed between the loadlock chamber and the process chamber. A loadlock chamber cover(23) is so formed to close up the loadlock chamber. The inside of the loadlock chamber is observed through the reflex mirror attached to the inside of the loadlock chamber cover.

    Abstract translation: 目的:提供一种用于制造半导体的化学气相沉积(CVD)装置,以通过确定通过安装在负载锁定室的盖的反射镜的滑动晶片的精确位置来防止晶片被捕获在狭缝阀中,以及 通过检查晶片是否滑动到安装在存储电梯和处理室之间的狭缝阀。 构成:在处理室(10)中执行CVD工艺。 执行CVD工艺的晶片在晶片待机室中搁置。 机器人刀片(30)在连接在处理室和晶片待机室之间的晶片待机室和处理室之间加载/卸载晶片。 存储电梯临时存储晶片。 机器人刀片和存储电梯安装在负载锁定室中。 狭缝阀(21)连接或隔离装载在锁定室和处理室之间的装载室和处理室。 负载锁定室盖(23)被形成为将负载锁定室关闭。 通过安装在负载锁盖室内侧的反光镜观察装载室的内部。

    영상처리장치 및 그의 영상처리방법
    22.
    发明公开
    영상처리장치 및 그의 영상처리방법 审中-实审
    图像处理装置及其图像处理方法

    公开(公告)号:KR1020170069587A

    公开(公告)日:2017-06-21

    申请号:KR1020150176983

    申请日:2015-12-11

    CPC classification number: A61B5/055 A61B5/08 A61B6/03 A61B8/08 G06T7/00

    Abstract: 영상처리장치가개시된다. 본영상처리장치는, 동일한대상체를서로다른시간에촬영한제1 영상과제2 영상을수신하는영상수신부, 제2 영상을기준으로제1 영상을정합하여변환정보를획득하고, 제1 영상에서대상체의영역에대응되는제1 부분영상을추출하며, 추출된제1 부분영상을변환정보에따라변환하여, 제2 영상의대상체의영역에대응되는제2 부분영상을생성하는프로세서및 제2 부분영상을출력하는출력부를포함한다.

    Abstract translation: 公开了一种图像处理装置。 视频处理设备,所述第一视频图像接收部,用于接收第一视频任务2拍摄的不同时间同一对象,第二图像的基础上,以获得转换信息,所述第一图像中的目标对象的匹配 并提取对应于的区域中的第一部分图像,并将所提取的第一部分图像转换根据转换信息,和一个第二部分图像处理器和第二部分图像以生成对应于所述目标对象的区域中的图像中 并输出一个输出信号。

    의료 영상 장치 및 의료 영상 처리 방법
    25.
    发明公开
    의료 영상 장치 및 의료 영상 처리 방법 审中-实审
    医学图像装置及其处理医学图像的方法

    公开(公告)号:KR1020160065674A

    公开(公告)日:2016-06-09

    申请号:KR1020140169972

    申请日:2014-12-01

    Abstract: 엑스선소스로부터대상체로조사된엑스선을검출하여획득되는측정데이터를획득하는데이터획득부및 상기측정데이터에기초하여초기영상을획득하고, 상기측정데이터및 상기초기영상에기초하여 ROI(region of interest) 외부측정데이터및 ROI 내부측정데이터를교차로추정하고, 상기 ROI 내부측정데이터에기초하여재구성영상을획득하는영상처리부를포함하는의료영상장치가개시된다.

    Abstract translation: 公开了一种医疗成像装置,包括:数据获取器,被配置为获取通过将X射线源辐射的X射线检测到对象而获取的测量数据; 以及被配置为基于测量数据获取初始图像的图像处理器,基于测量数据和初始图像交替地估计测量数据和ROI内部测量数据,并且获取一个 基于ROI内部测量数据的重建图像。

    자기 공명 영상을 통해 대상체의 속성을 정량화하기 위한 방법 및 장치
    26.
    发明公开
    자기 공명 영상을 통해 대상체의 속성을 정량화하기 위한 방법 및 장치 审中-实审
    用于通过磁共振成像量化物体的性质的方法和装置

    公开(公告)号:KR1020160056271A

    公开(公告)日:2016-05-19

    申请号:KR1020150140613

    申请日:2015-10-06

    Abstract: 멀티파라미터맵핑 (magnetic resonance fingerprinting) 을통해, 자기공명영상장치가제1 물질및 제2 물질을포함하는대상체의자기공명영상을처리하기위한방법및 장치가개시된다.

    Abstract translation: 公开了一种通过使用多参数映射(磁共振指纹图谱)通过磁共振成像装置处理包括第一材料和第二材料的物体的磁共振图像的方法和装置。 根据本发明,该装置包括:RF控制单元,向对象施加多个RF脉冲; 数据采集​​单元对第一和第二磁共振信号进行低取样; 以及成像处理单元,被配置为确定所述第一和第二材料的属性值。 本发明提供能够有效地分割不同材料的磁共振信号的磁共振成像装置。

    반도체 제조용 화학기상증착 설비
    27.
    发明授权
    반도체 제조용 화학기상증착 설비 失效
    用于半导体的化学气相沉积设备

    公开(公告)号:KR100653684B1

    公开(公告)日:2006-12-04

    申请号:KR1020000064908

    申请日:2000-11-02

    Inventor: 박용섭

    Abstract: 본 발명은 선행 공정을 종료한 웨이퍼가 화학기상증착 공정이 진행되는 프로세스 챔버로 무빙될 때, 웨이퍼가 중간에서 슬라이딩될 경우, 슬라이딩된 웨이퍼의 포지션을 정확히 확인하여 웨이퍼가 브로큰되는 것을 방지한 반도체 제조용 화학기상증착 설비에 관한 것으로, 본 발명 반도체 제조용 화학기상증착 설비는 화학기상증착 공정이 진행되는 프로세스 챔버, 화학기상증착 공정이 진행될 웨이퍼가 대기하는 웨이퍼 대기 챔버, 웨이퍼를 로딩/언로딩하는 로봇 블레이드 및 웨이퍼가 저장되는 스토리지 엘리베이터가 설치되는 로드락 챔버, 로드락 챔버와 프로세스 챔버 사이에 설치되는 슬릿 밸브, 로드락 챔버를 밀폐시킬 수 있도록 형성된 로드락 챔버 커버, 그리고 로드락 챔버 커버에 설치된 반사경을 포함한다.
    이와 같은, 본 발명은 웨이퍼가 화학기상증착 공정이 진행되는 프로세스 챔버로 무빙될 때, 웨이퍼를 무빙하는 로봇 블레이드에서 웨이퍼 슬라이딩이 발생할 경우, 슬라이딩된 웨이퍼가 슬릿 밸브에 걸렸는지 여부를 정확히 확인할 수 있어 웨이퍼가 슬릿 밸브에 걸려서 브로큰되는 경우를 미연에 방지할 수 있다.
    화학기상증착설비, 반사경

    반도체 제조설비의 센터파인드보드
    28.
    发明公开
    반도체 제조설비의 센터파인드보드 无效
    中心找到半导体制造设施的董事会

    公开(公告)号:KR1020060087697A

    公开(公告)日:2006-08-03

    申请号:KR1020050008500

    申请日:2005-01-31

    Inventor: 박용섭

    Abstract: 본 발명은 카세트에 장착된 웨이퍼를 스토리지 엘리베이터로 로딩할 시 웨이퍼의 센터를 검출하는 센터파인드보드에 관한 것이다.
    스토리지 엘리베이터에 공정이 완료된 웨이퍼가 대기할 시 웨이퍼로부터 발열되는 고온에 의해 페일이 발생하지 않도록 하기 위한 본 발명의 반도체 제조설비의 센터파인드보드는, 웨이퍼가 입출력하기 위한 통로를 갖도록 수평방향으로 형성된 직사각형홀과, 상기 직사각형홀의 상부기판 상에 수평방향으로 돌출되도록 고정되어 상기 웨이퍼로부터 발열되는 고열을 차단하기위한 방열판을 구비한다.
    반도체 제조설비에서 로드락챔버에 설치되어 있는 스토리지 엘리베이터에 공정이 완료된 웨이퍼를 일시적으로 수납하여 대기하고 있을 때 센터파인드보드 직사각형홀의 상부에 방열판을 설치하여 웨이퍼로부터 발열되는 고열을 차단하도록 하여 방열판 상부에 설치된 수광센서 및 PCB 등이 웨이퍼의 고열로 인하여 페일이 발생되는 것을 방지한다.
    웨이퍼 로딩장치, 웨이퍼 로딩미스, 센터파인드보드, 스토리지 엘리베이터

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