Abstract:
본 발명은 질화갈륨(GaN)계 나노선을 이용한 질화갈륨/산화갈륨(Ga 2 O 3 ) 나노케이블, 이의 제조방법 및 이를 이용한 소자에 관한 것으로서, 본 발명에 따라 질화갈륨 나노선을 열산화하여 제조된 질화갈륨/산화갈륨 나노케이블은 하나의 1차원 나노구조가 반도체/절연체로 구성되어 있기 때문에 전계효과 트랜지스터, 바이오/가스 센서 등에 유리하게 이용될 수 있다. 나노케이블, 나노선, 질화갈륨, 산화갈륨, 전계효과
Abstract:
A 3-dimensional structure poly-crystal compound semiconductor solid-state image sensor and a method for manufacturing the same are provided to maximize a light receiving area and to improve photosensitive efficiency by forming a metal electrode on a semiconductor epi layer. A signal transfer region(206) is formed on a first conductive type semiconductor substrate(205) and comprised of a second conductive-type impurity layer. A signal detection region(208) is separated from the signal transfer region and comprised of a second conductive type impurity layer. Plural metal lines(207) are electrically connected to the signal detection region. A transfer gate(204) is formed on the semiconductor substrate of a first conductive type. The transfer gate transmits charges between the signal transfer region and the signal detection region. An interlayer dielectric(210) of a first conductive type is formed on the semiconductor type semiconductor substrate including the signal transfer region, the transfer gate, and the signal detection region. A metal electrode(203) is connected to a photodiode region(209) and comprised of a vertical metal electrode(211) and a horizontal top metal electrode(212). A poly crystal compound semiconductor epi layer(202) is formed on a surface of the interlayer dielectric including the top metal electrode and becomes the photodiode region by implanting P-type and N-type impurities to realize a PN junction.
Abstract:
GaN/Ga2O3 nano cables, an FET(Field Effect Transistor) using the nano cables and a method for producing the same are provided to integrate an element using a nano wire by forming a semiconductor/insulator in a single one dimensional nanostructure. GaN/Ga2O3 nano cables include a GaN-based nano wire and Ga2O3 coated on the surface of the GaN-based nano wire. A semiconductor/insulator structure is formed in a single one dimensional nanostructure by coating the Ga2O3 on the surface of the GaN-based nano wire. The Ga2O3 is formed by adding other element such as Al, Ti, Hf so as to improve the characteristic thereof. The Ga2O3 coating is formed by the thermal oxidation of the surface of the GaN-based nano wire.
Abstract translation:GaN / Ga2O3纳米电缆,使用纳米电缆的FET(场效应晶体管)及其制造方法被提供以通过在单个一维纳米结构中形成半导体/绝缘体而使用纳米线来整合元件。 GaN / Ga2O3纳米电缆包括GaN基纳米线和涂覆在GaN基纳米线表面上的Ga2O3。 通过在GaN基纳米线的表面上涂覆Ga 2 O 3,在单个一维纳米结构中形成半导体/绝缘体结构。 通过添加Al,Ti,Hf等其他元素来形成Ga2O3,以提高其特性。 通过GaN基纳米线的表面的热氧化形成Ga 2 O 3涂层。
Abstract:
본 발명에 따라서 자가발전형 제너레이터가 제공되는데, 상기 제러레이터는 제1 층과; 제2 층과; 상기 제1 층과 제2 층 사이에 배열된 복수의 압전물질 나노로드를 포함하는 나노로드 부재층을 포함하고, 상기 나노로드는 이축 방향으로 성장시킨 나노로드이며, 외부로부터 기계적 에너지가 인가되는 경우, 그 길이방향 축을 중심으로 상기 길이방향 축과 수직한 상부의 절반부와 하부의 절반부는 서로 반대되는 극성의 압전 전위를 나타내는 것을 특징으로 한다.
Abstract:
본 발명에 따라서 전자 소자에 광활성층을 형성하기 위한 광활성층 형성 장치가 제공되는데, 상기 장치는 용매와 용해도 파라미터 차이(△δ)를 갖는 고분자 재료가 용해되어 있는 용액을 담고 있는 용액 공급부와; 상기 용액 공급부와 관을 매개로 연결되어 있고, 상기 용액 공급부로부터 미리 정해진 유량으로 상기 용액을 이송할 수 있도록 구성된 이송 수단과; 상기 이송 수단과 관을 매개로 연결되어 있고, 0℃ 미만의 저온 상태에서 유지되어, 상기 이송 수단에 의해 이송되는 상기 관 내부의 용액의 온도를 0℃ 미만의 저온으로 냉각하는 냉각 수단과, 상기 냉각 수단에 관을 매개로 연결되어 있고, 상기 냉각 수단으로부터 이송되어 오는 상기 용액을 기판 상에 분사하여 광활성층을 형성하는 분사 수단을 포함하고, 상기 냉각 수단에 의해 상기 용액 중의 상기 고분자 재료는 적어도 일부가 나노미터 크기의 직경과 마이크로미터 크기의 길이를 갖는 나노소섬유(nanofibrils)의 형태로 변화되어, 상기 분사 수단에 의해 상기 기판 상에 분사되고, 상기 분사 수단에 의해 분사되는 상기 용액은 상기 냉각 수단에 의해 냉각된 상태의 온도보다 높은 온도에서 분사되는 것을 특징으로 한다.
Abstract:
본 발명에 따라서 엣칭 과정을 통해 표면에 나노크기의 기공이 형성된 다공성 구조의 층이 형성되어 있는 반사 방지성 유리 기판을 포함하는 태양전지가 제공된다. 상기 다공성 구조의 층의 상기 유리 기판의 두께 방향으로의 깊이는 입사광의 파장보다 작으며, 바람직하게는 입사광의 파장의 1/4 이하일 수 있다.
Abstract:
PURPOSE: An in-plane switching mode liquid crystal display device is provided to compensate for a phase difference. CONSTITUTION: A light compensating layer(200) is located on an external surface of a second substrate. The light compensating layer is made of a transparent inorganic film. The transparent inorganic film has a uniaxial crystallization feature. A first polarization plate(119a) is formed on an external surface of a first substrate. A second polarization plate(119b) is located on the light compensating layer.
Abstract:
PURPOSE: A method of manufacturing antireflective coating for solar cell having a moth-eye structure and a solar cell including the same are provided to greatly reduce reflectivity by forming an antireflective coating layer having a moth-eye structure on an upper electrode layer of the solar cell using a bottom-up method. CONSTITUTION: A bottom electrode layer is formed on a substrate. A photoreactive layer is formed on the bottom electrode layer. The photoreactive layer is made of CIS(Copper, Indium, Selenide) materials. A buffer layer is formed on the photoreactive layer. A ZnO layer is formed on the buffer layer. A top electrode layer is formed on the ZnO layer.