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公开(公告)号：KR1020130085405A
公开(公告)日：2013-07-29
申请号：KR1020130084891
申请日：2013-07-18
Applicant: 연세대학교 산학협력단
Inventor： 강신일
CPC classification number: G02B1/041 , G02B1/111 , G02B1/12 , G02B5/281 , G02B13/008
Abstract: PURPOSE: A silicon optical system for infrared ray (IR) transmission and a manufacturing method thereof are provided to remarkably increase transmissivity for 8-12 micrometer wave IR areas. CONSTITUTION: A silicon optical system measures human body radiation. The optical system for silicon IR transmission improves the transmissivity for an infrared area forming a pattern of a protrusion shape. An optical system for the silicon IR transmission changes 1-5 micrometers into 8-12 micrometers in the wave length of the IR area. The optical system for the silicon IR transmission is comprised of the single material of silicon in the IR area. [Reference numerals] (AA) Spread PR or PMMA on silicon; (BB) Manufacture etching barrier patterns; (CC) Manufacture protrusions through an etching process; (DD) Perform a CMP process on a surface opposite to a pattern surface after coating a film on the pattern surface; (EE) Repeat 1st process on a surface in which the patterns are not existed; (FF) Repeat 2nd process; (GG) Remove the film after repeating a third process
Abstract translation: 目的：提供用于红外线（IR）透射的硅光学系统及其制造方法，以显着提高8-12微米波IR区域的透射率。 构成：硅光学系统测量人体辐射。 用于硅IR传输的光学系统改善形成突起形状图案的红外区域的透射率。 在IR区域的波长中，用于硅IR传输的光学系统将1-5微米变化为8-12微米。 用于硅IR传输的光学系统由IR区域中的单一材料构成。 （附图标记）（AA）硅上扩散PR或PMMA; （BB）制造蚀刻屏障图案; （CC）通过蚀刻工艺制造突起; （DD）在图案表面上涂覆膜后，在与图案表面相对的表面上进行CMP处理; （EE）在不存在图案的表面上重复第一个过程; （FF）重复第二过程; （GG）重复第三个过程后，取出胶片
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公开(公告)号：KR100964285B1
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：KR1020080015649
申请日：2008-02-21
Applicant: 연세대학교 산학협력단
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70291 , G03F7/70275
Abstract: 본 발명은 평행광을 제공하는 평행광 제공부와, 상기 평행광을 복수의 영역으로 구획하고, 각 영역의 빛이 통과 및 차단되도록 제어하며, 각 영역을 통과한 빛을 각각 집광하는 광학헤드와, 상기 광학헤드에서 조사되는 빛에 의해 기판에 패터닝 작업을 수행하도록 기판을 구동시키는 기판 구동부로 구성되어, 소형화가 가능하고 제조비용을 줄일 수 있으며 마이크로렌즈 어레이의 광축 정렬오차를 최소화할 수 있는 광학 리소그래피 시스템 및 그 제조방법을 제공한다.
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公开(公告)号：KR1020100029577A
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：KR1020080088412
申请日：2008-09-08
Applicant: 연세대학교 산학협력단
Inventor： 강신일
CPC classification number: G02B1/005 , B29D11/00346 , B29D11/00432 , B29D11/00865 , B82Y20/00 , G02B1/118 , G02B1/12 , G02B2207/101
Abstract: PURPOSE: A lens including a functional nano pattern and a manufacturing method thereof are provided to minimize a reflection loss created in the surface of the lens, and to improve light transmission rate. CONSTITUTION: A manufacturing method of a lens including a functional nano pattern comprises the following steps: forming a photonic crystal pattern on a molded member; forming the photonic crystal pattern(132) to a first polymer(112) attached to the surface of a curved unit(142) by pressurizing the molded member on a lens core including the curved unit; and forming the photonic crystal pattern on a second polymer(114) attached to the curved unit attached to the to the surface of the curved unit of the lens by pressurizing the curved unit of the lens to a curved unit of the lens core.
Abstract translation: 目的：提供一种包括功能纳米图案的镜片及其制造方法，以使透镜表面产生的反射损失最小化，并提高透光率。 构成：包括功能纳米图案的透镜的制造方法包括以下步骤：在模制构件上形成光子晶体图案; 通过对包括所述弯曲单元的透镜芯上的所述模制构件加压，将光子晶体图案（132）形成到附接到弯曲单元（142）的表面上的第一聚合物（112） 以及通过将所述透镜的所述弯曲单元加压到所述透镜芯的弯曲单元，将第二聚合物（114）形成在附接到所述透镜的弯曲单元的表面上的所述弯曲单元上的第二聚合物（114）上。
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公开(公告)号：KR100804735B1
公开(公告)日：2008-02-19
申请号：KR1020060026651
申请日：2006-03-23
Applicant: 연세대학교 산학협력단
Abstract: 본 발명은 프레넬 렌즈 및 이를 이용한 LED 조명 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 중심축을 대향하는 프레넬 렌즈의 출사면의 내측면이 상기 중심축에 대하여 이루는 각도(θ)가 프레넬 렌즈에 의하여 광로 변환되어 출사되는 광의 방사각(Φ)과 동일한 프레넬 렌즈(50b) 및 이를 이용한 LED 조명 장치에 관한 것이다. LED 조명 장치는 광을 발산하는 LED(10)와; 상기 LED(10)의 전방에 구비되어 상기 LED(10)에서 발산되는 광의 광로를 변환하여 출사시키는 프레넬 렌즈(50b)를 포함하여 이루어지고, 중심축을 대향하는 상기 프레넬 렌즈(50b)의 출사면의 내측면이 상기 중심축에 대하여 이루는 각도(θ)가, 상기 프레넬 렌즈에 의하여 광로 변환되어 출사되는 광의 방사각(Φ)과 동일하다. 바람직하게는, 상기 LED 조명 장치는 상기 LED(10)를 감싸도록 형성되어 상기 LED(10)로부터 발산되는 광이 통과되는 형광층(30)을 추가적으로 포함한다. 바람직하게는, 상기 LED(10)는 청색광을 발산하는 블루 LED이고, 상기 형광층(30)은 YAG:Ce 형광 물질을 포함한다. 바람직하게는, 상기 형광층(30)은, 상기 LED(10)로부터의 측방향 두께가 상기 LED(10)로부터의 전방향 두께보다 크게 형성된다. 바람직하게는, 상기 LED(10)를 내부에 안착시켜, 상기 LED(10)로부터 측방향으로 발산되는 광을 전방향으로 반사시키는 LED컵(20)을 추가적으로 구비한다.
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公开(公告)号：KR100804734B1
公开(公告)日：2008-02-19
申请号：KR1020070017733
申请日：2007-02-22
Applicant: 연세대학교 산학협력단
IPC: H01L21/027 , B82Y40/00
CPC classification number: G03F7/2035 , B29C43/003 , B29C43/222 , B29C43/305 , B29C43/46 , B29C2035/0827 , B29C2043/025 , B29C2043/463 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H05K1/0393 , H05K3/0079 , H05K3/061 , H05K2203/0113 , H05K2203/0143 , H05K2203/1545 , Y10S977/887
Abstract: A continuous lithography apparatus using an ultraviolet roll is provided to embody formation of a high-density high-integrated circuit pattern by forming a fine pattern as compared with a conventional dry film process. By using a pattern roll stamper(321) having a pattern, an ultraviolet roll nano imprinting process is performed on a photoresist layer formed on a conductive layer to form a photoresist layer pattern. A first removing part removes a residual photoresist layer. A second removing part removes the exposed portion of the conductive layer. A third removing part removes the rest of the photoresist layer. The conductive layer can be formed on an insulation substrate.
Abstract translation: 提供一种使用紫外线辊的连续光刻设备，以通过与传统的干膜工艺相比形成精细图案来体现高密度高集成电路图案的形成。 通过使用具有图案的图案辊压模（321），对形成在导电层上的光致抗蚀剂层进行紫外线纳米压印处理，以形成光致抗蚀剂图案。 第一去除部分去除残留的光致抗蚀剂层。 第二去除部分去除导电层的暴露部分。 第三去除部分去除光致抗蚀剂层的其余部分。 导电层可以形成在绝缘基板上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020050104341A
公开(公告)日：2005-11-02
申请号：KR1020057012282
申请日：2003-12-31
Applicant: 연세대학교 산학협력단
Inventor： 강신일
IPC: B29C45/73
CPC classification number: B29C45/2632 , B29C33/3842 , B29C45/2642 , B29C45/77 , B29C45/78 , B29C2945/76006 , B29C2945/7604 , B29C2945/76294 , B29C2945/76454 , B29C2945/76458 , B29C2945/76525 , B29C2945/76531 , B29C2945/76732 , B29C2945/76772 , B29C2945/76946 , B29D17/005 , B29L2017/005 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G11B7/263
Abstract: 마이크로 패턴 구조물 성형용 금형 구조는, 금형(2, 4)과, 상기 금형(2, 4)에 고정되는 마이크로 패턴(8)을 가지는 몰드인서트(6)와, 상기 금형(2, 4)과 몰드인서트(6) 사이에 MEMS 공정을 이용하여 집적된 마이크로 발열부(32)를 구비하는 마이크로 발열기구(30)를 포함하여 이루어지고, 상기 마이크로 발열부(32)로 인가되는 전류를 조절하여 상기 마이크로 발열부(32)에서 발생하는 줄열에 의해 상기 몰드인서트(6)를 가열 제어한다. 마이크로 패턴 구조물 성형용 몰드인서트 제작방법은 몰드인서트(6) 또는 몰드인서트(6)에 고정되는 기판(40)의 후면에 포토레지스트(42)를 도포하는 포토레지스트 도포단계; 리소그래피 공정을 통하여 설계된 마이크로 발열부(32)에 대응하는 부위를 제거하는 포토레지스트 패터닝단계; 상기 마이크로 발열부(32)를 구성할 재료를 증착하는 증착단계; 및 남아 있는 포토레지스트(42)를 제거하는 포토레지스트 제거단계;를 포함하여 이루어진다.
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公开(公告)号：KR101805450B1
公开(公告)日：2017-12-07
申请号：KR1020160055070
申请日：2016-05-04
Applicant: 연세대학교 산학협력단
Abstract: 미생물이표면에부착하여증식하는것을방지하는미생물부착방지구조물에관한것으로서, 끝이뾰족한복수개의돌기형구조물을포함하되, 수지조성물로이루어진나노구조물; 및상기나노구조물내에분포하는나노금속입자를포함하는것을특징으로한다. 그리고미생물부착방지구조물의제조방법은액상수지를준비하는단계(S100); 상기액상수지에나노금속입자를섞는단계(S200); 상기액상수지를기판에도포하는단계(S300); 상기액상수지에복수개의돌기형구조물에대응되는패턴이형성된마스터템플릿으로가압하는단계(S400); 및상 수지를경화하는단계(S600)를포함하는것을특징으로한다.
Abstract translation: 作为微生物附着防止结构用于防止贴壁生长的方法，包括微生物：多个凸起结构的尖的，由树脂组合物的纳米结构; 纳米金属颗粒分布在纳米结构中。 并防止微生物附着结构可以包括制备液体树脂（S100）的步骤的制造方法; 将纳米金属颗粒与液体树脂混合（S200）; 将液态树脂施加到基材（S300）; 按下一个主模板图案的步骤是对应于多个在液体树脂（S400）突出地层形成; 并固化树脂（S600）。
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公开(公告)号：KR1020170125195A
公开(公告)日：2017-11-14
申请号：KR1020160055070
申请日：2016-05-04
Applicant: 연세대학교 산학협력단
CPC classification number: B08B17/06 , A61L27/306 , A61L29/10 , A61L2420/02 , A61L2420/04 , B29C59/005 , B29C59/022 , B29C59/16
Abstract: 미생물이표면에부착하여증식하는것을방지하는미생물부착방지구조물에관한것으로서, 끝이뾰족한복수개의돌기형구조물을포함하되, 수지조성물로이루어진나노구조물; 및상기나노구조물내에분포하는나노금속입자를포함하는것을특징으로한다. 그리고미생물부착방지구조물의제조방법은액상수지를준비하는단계(S100); 상기액상수지에나노금속입자를섞는단계(S200); 상기액상수지를기판에도포하는단계(S300); 상기액상수지에복수개의돌기형구조물에대응되는패턴이형성된마스터템플릿으로가압하는단계(S400); 및상 수지를경화하는단계(S600)를포함하는것을특징으로한다.
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公开(公告)号：KR101550378B1
公开(公告)日：2015-09-07
申请号：KR1020150053928
申请日：2015-04-16
Applicant: 연세대학교 산학협력단
Inventor： 강신일
Abstract: 본발명은기능성유리표면을제작하기위한유리표면성형장치및 방법에관한것으로서, 특히, 상온에서유리표면성형공정이가능하고별도의후처리공정없이간단한시스템만으로유리전면적에연속적으로기능성미세패턴전사가가능한유리표면성형장치및 방법에관한것이다. 이를위한본 발명은유리판과; 상기유리판표면에접촉된상태에서구름운동을수행하며상기유리판표면에미세패턴을형성하는롤 몰드(roll mold)와; 상기유리판의상부에배치되며, 상기롤 몰드가유리판과접촉하기바로직전의유리판표면에상기롤 몰드와평행한선(line) 형태의집속광을조사하여유리판표면의일부두께만을유리전이온도(glass transition temperature; T) 이상으로국부적으로가열시키는열원장치;를포함하는것을특징으로한다.
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公开(公告)号：KR101526363B1
公开(公告)日：2015-06-05
申请号：KR1020140096837
申请日：2014-07-29
Applicant: 연세대학교 산학협력단
Abstract: 본발명의일측면에의하면, Far field 광학계의광을조사하는광원; 상기광원에서조사된광이통과하는렌즈가롤 표면에배열된마이크로렌즈롤; 상기마이크로렌즈롤이구름이동하며, 상기마이크로렌즈롤을통과한광에의하여근접장을발현하고피측정물상에위치하는근접장발현부; 상기피측정물로부터광을검출하는광전검출기(photo detector)를포함하는롤투롤플렉서블근접장광 이미징장치가제공될수 있다.
Abstract translation: 本发明提供能够连续成像大面积的卷对卷柔性近场光学成像装置。 卷对卷柔性近场光学成像装置包括：用于照射远场光学系统的光的光源; 微透镜辊，其中从光源照射的光通过的透镜布置在辊表面上; 近场产生部，其通过穿过微透镜辊的光产生近场，并且位于待测量对象上，其中微透镜辊辊; 以及用于检测来自被测量物体的光的光电检测器。
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