광 리소그래피에 기초한 극저밀도 3차원 박막 구조체의 제조방법
    21.
    发明授权
    광 리소그래피에 기초한 극저밀도 3차원 박막 구조체의 제조방법 有权
    基于光刻技术的超低密度三维薄膜结构的织构方法

    公开(公告)号:KR101341216B1

    公开(公告)日:2014-01-07

    申请号:KR1020120136917

    申请日:2012-11-29

    Abstract: The present invention relates to a manufacturing method for an ultralow density three-dimensional thin film structure based on an optical lithography. The manufacturing method for an ultralow density three-dimensional thin film structure consisting of solid thin films comprises: a step of hardening a part of a resin bulk by irradiating a liquid phase photosensitive resin bulk with the ultraviolet rays of different patterns in predetermined directions; a step of forming a solid phase photosensitive resin structure by removing the liquid phase photosensitive resin which is not hardened; a step of laminating the surface of the solid phase photosensitive resin structure with a thin film; a step of exposing the solid phase photosensitive resin by removing the thin film formed on the outer surface of the resin bulk; and a step of removing the solid phase photosensitive resin structure. Each of the different patterns has a structure in which predetermined polygonal shapes are alternatively arranged. The solid phase photosensitive resin structure has a structure in which multiple prismatic members are crossed. The ultralow density three-dimensional thin film structure consisting of the solid thin films has a structure, in which porous polyhedral unit cells having a plane element are interconnected and are repeatedly formed, and is characterized by being formed in an intaglio method about the solid phase photosensitive resin structure. [Reference numerals] (AA) Liquid phase photosensitive resin; (BB) Autocatalyst plating; (CC) Plated intaglio kagome; (DD) Hexagonal mask; (EE) 3D exposure; (FF) Liquid phase + Solid phase; (GG) External polishing; (HH) Internal solid phase resin exposure; (II) Liquid phase resin removal; (JJ) Resin etching; (KK) Intaglio kagome; (LL) Very low density metal

    Abstract translation: 本发明涉及一种基于光刻法的超低密度三维薄膜结构的制造方法。 由固体薄膜构成的超低密度立体薄膜结构体的制造方法包括以下步骤:通过用预定方向的不同图案的紫外线照射液相感光性树脂体来硬化部分树脂体; 通过除去未硬化的液相光敏树脂形成固相感光树脂结构的步骤; 用薄膜层叠固相感光性树脂结构体的表面的工序; 通过除去形成在树脂体的外表面上的薄膜来曝光固相感光树脂的步骤; 以及除去固相感光性树脂结构的工序。 每个不同的图案具有交替地布置预定多边形形状的结构。 固相感光树脂结构具有多个棱柱构件交叉的结构。 由固体薄膜组成的超低密度三维薄膜结构具有结构,其中具有平面元件的多孔多面体单元电池互连并重复形成,其特征在于以固相的凹版方式形成 光敏树脂结构。 (标号)(AA)液相光敏树脂; (BB)自动催化剂电镀; (CC)镀铝凹版; (DD)六角面罩; (EE)3D曝光; (FF)液相+固相; (GG)外部抛光; (HH)内固相树脂曝光; (二)液相树脂去除; (JJ)树脂蚀刻; (KK)Intaglio kagome; (LL)极低密度金属

    3차원 다공질 경량 구조체의 제조 방법
    22.
    发明授权
    3차원 다공질 경량 구조체의 제조 방법 有权
    三维三维结构的制造方法

    公开(公告)号:KR101155267B1

    公开(公告)日:2012-06-18

    申请号:KR1020090080085

    申请日:2009-08-27

    Abstract: 본 발명은 나선형 와이어로 구성된 3차원 격자 트러스 구조체와 그 제조방법에 관한 것으로, 공간상에서 서로 일정각도(예를 들어, 60도 또는 90도)의 방위각을 갖는 3방향 또는 6방향의 연속된 나선형 와이어 군을 서로 교차하여 조립시킴으로써, 일정한 모양으로 형성되는 무게 대비 강도와 강성이 높고 표면적이 큰 3가지 새로운 트러스 형태의 3차원 격자 트러스 구조체와 이를 저비용/대량으로 생산(제조)하는 방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 그물 형태의 와이어를 단순히 짜서 적층하는 방식이 아니고 나선형 와이어를 이용하여 연속공정으로 3차원으로 직접 조립되는 방식에 의하여 형성되며, 각각 이상적인 육면체 트러스, 옥테트(octet) 트러스, 정팔면체와 14면체가 조합된 트러스에 매우 유사한 구조를 가짐으로써, 기계적 물성이나 열적, 공기역학적 특성이 매우 우수한 3차원 격자 트러스 구조체를 제조할 수 있다.
    구조체, 트러스, 다공질, 3차원, 와이어, 나선형, 옥테트, 카고메

    Abstract translation: 公开了由螺旋线组成的三维多孔轻质结构及其制造方法。 在三个或六个方向上的连续螺旋线组在空间中相对于彼此具有指定角度(例如,60度或90度)交叉并且然后组装,并且因此具有新的桁架形三维网格桁架结构,其具有 提供了高强度和刚度与重量比以及大的表面积和以低成本批量生产结构的方法。 三维多孔轻量结构体是通过连续工艺三维组装螺旋线的方法制造的,而不是简单地编织和堆叠网状线的方法,因此具有类似于 理想的六面体桁架,八边形桁架或桁架,其中常规八面体和立方八面体组合,从而具有优异的机械性能或热或空气动力学性质。

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