公开(公告)号：KR1020090046493A

公开(公告)日：2009-05-11

申请号：KR1020070112688

申请日：2007-11-06

Applicant: 포항공과대학교 산학협력단

Inventor： 김동섭 ,  이상민 ,  황운봉 ,  이건홍 ,  임근배 ,  김준원 ,  김동현 ,  박현철

IPC: C25D11/00

CPC classification number: C23F1/00 ,  C25D1/08 ,  C25D11/005 ,  C25D11/02

Abstract: 본 발명은 표면 처리작업 및 음극 복제 작업을 수행하여 3차원 형상 구조물의 외부 표면에 소수 특성이 부여되게 형성시키는 3차원 형상 구조물의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 3차원 형상 구조물의 외부 표면에 소수성을 부여시킬 수 있으면서도, 종래의 MEMS 공정에 비해 고가의 장비를 사용하지 않아서 그 제작비용이 상대적으로 저렴하고, 그 공정도 단순하다. 또한, 종래에는 장소의 제약으로 인해 넓은 표면을 갖는 3차원 형상 구조물의 외부 표면에 소수성을 부여하기 어렸지만, 본 발명은 어뢰, 선박, 자동차, 잠수함 등과 같이 넓은 표면이면서도 복잡한 형상을 갖는 3차원 형상 구조물의 외부 표면에 소수성을 부여할 수 있다.
미세 요철, 극소수성 표면, 입자분사기, 알루미늄 양극 산화, 테프론 복제, 3차원 형상, 외부 표면, 어뢰, 잠수함, 선박, 자동차

Abstract translation: 本发明涉及一种用于进行表面处理工艺的三维结构制造方法以及在三维结构的外表面上提供疏水性的复制步骤。 在制造方法中，可以将疏水性提供给三维结构的外表面，不使用传统MEMS工艺中所需的高成本装置，制造成本降低，制造工艺简化。 此外，由于空间限制，难以在具有大表面的三维结构的外表面上提供疏水性，但是在本发明的示例性实施方案中，可以将疏水性提供给外表面 的具有大表面的三维结构，例如鱼雷，潜艇，船舶和车辆，没有空间限制。

公开(公告)号：KR1020090013413A

公开(公告)日：2009-02-05

申请号：KR1020070077497

申请日：2007-08-01

Applicant: 포항공과대학교 산학협력단

Inventor： 김동섭 ,  김동현 ,  황운봉 ,  박현철 ,  이건홍 ,  임근배 ,  이상민 ,  김준원

IPC: C23C28/00

CPC classification number: C23C28/00 ,  C23C28/04 ,  C25D11/045 ,  C25D11/16 ,  C25D11/24

Abstract: A manufacturing method of 3D shape structure having a hydrophobic inner surface is provided to save manufacture cost by a surface dealing process with a minute particle jet and anode oxidation and a cathode clone process with polymer which does not get wet. A manufacturing method of 3D shape structure having the hydrophobic inner surface comprises an anode oxidation step(S2) processing a metal substrate of three dimensional shape with anode oxidation and forming a fine hole on the exterior metal substrate; a cathode replication step(S3) forming polymer which does not get wet for a cathode reproduction structure corresponding to the fine hole of the metal substrate by coating the polymer on the metal substrate; an external structure formation step(S4) surrounding the exterior of the cathode reproduction structure with an outside formation material; and an etch step(S5) etching the metal substrate in order to remove the metal substrate from the cathode reproduction structure and outside formation material.

Abstract translation: 提供具有疏水性内表面的三维形状结构的制造方法，以通过具有不会变湿的聚合物的微粒喷射和阳极氧化和阴极克隆工艺的表面处理工艺来节省制造成本。 具有疏水性内表面的三维形状结构的制造方法包括阳极氧化工序（S2），在阳极氧化处理三维形状的金属基板，在外部金属基板上形成细孔; 阴极复制工序（S3），通过在金属基板上涂布聚合物，形成不会对与金属基板的细孔对应的阴极再生结构变湿的聚合物; 外部结构形成步骤（S4），其利用外部形成材料包围阴极再生结构的外部; 以及蚀刻步骤（S5），以蚀刻金属基板，以便从阴极再生结构和外部形成材料中去除金属基板。