公开(公告)号：KR1020110032019A

公开(公告)日：2011-03-30

申请号：KR1020090089314

申请日：2009-09-22

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 정기훈 ,  채선기 ,  정혁진 ,  김재준

IPC: B29D11/00 ,  H01L33/00 ,  G02B3/00 ,  G02B1/04

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a micro-patterned complex surface lens is provided to improve light uniformity and to reduce heat radiation. CONSTITUTION: A method for manufacturing a micro-patterned complex surface lens comprises: a step of laminating a photoresist layer on a substrate(1); a step of laminating a thin film layer(3) on a micro-pattern array; a step of contacting one side of an elastic layer(200) with a thin film layer; a step of applying negative pressure to a common part; a step of filling a charged matter(100) on the thin film layer; and a step of forming the lens and separating the lens from the thin film layer.

Abstract translation: 目的：提供一种用于制造微图案复合表面透镜的方法，以改善光均匀性并减少热辐射。 构成：微图形复合表面透镜的制造方法包括：在基板（1）上层压光致抗蚀剂层的步骤; 将薄膜层（3）层叠在微图案阵列上的步骤; 将弹性层（200）的一侧与薄膜层接触的步骤; 向共同部分施加负压的步骤; 在所述薄膜层上填充带电物质（100）的步骤; 以及形成透镜并将透镜与薄膜层分离的步骤。

公开(公告)号：KR100660026B1

公开(公告)日：2007-02-28

申请号：KR1020060099125

申请日：2006-10-12

Applicant: 한국전자통신연구원 ,  한국과학기술원

Inventor： 박수원 ,  권재균 ,  신강수 ,  정재훈 ,  윤지영 ,  문성호 ,  박수미 ,  성단근 ,  경문건 ,  차재상 ,  이서영 ,  송석일 ,  손인수 ,  조주필 ,  김재준 ,  이희수

IPC: H04B1/7143

Abstract: 본 발명은 다차원 도약 패턴 충돌시 충돌 구간에서의 송신 제어 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명에서는 주어진 직교 무선 자원을 송신측 및 수신측 사이의 통신 규약에 의하여 다차원 직교 자원 영역에서 도약 선택하며, 해당 채널은 다차원 도약 패턴에 의하여 구별된다. 이때, 제2 통신국별로 특정한 다차원 도약 패턴을 할당하고, 다차원 도약 패턴은 제2 통신국에 영구적으로 할당될 수도 있고, 호설정시에 제1 통신국으로부터 할당받을 수도 있다. 또한, 다차원 직교 자원 도약 패턴이 각 제2 통신국에게 영구적으로 할당되는 것은 제2 통신국의 ESN(Electronic Serial Number) 등과 같이 유일한 식별자를 바탕으로 다차원 도약 패턴이 정해질 때이다. 이런 경우, 제2 통신국의 다차원 도약 패턴이 서로 독립이기 때문에 특정 순간에 동일한 직교 자원 좌표가 서로 다른 제2 통신국에 동시에 할당될 수 있다. 본 발명에 따르면, 다차원 직교 자원 도약 다중화 방식을 채택한 시스템의 성능을 향상시키기 위하여 전송과 천공의 2분법적으로 이루어지는 다차원 직교 자원 도약 패턴 충돌시 처리 방법을 세분화함으로써 천공의 경우를 줄일 수 있다.
직교 자원, 도약 패턴, 다차원, 충돌, 다중화

公开(公告)号：KR100644233B1

公开(公告)日：2006-11-10

申请号：KR1020047003635

申请日：2002-09-18

Applicant: 한국전자통신연구원 ,  한국과학기술원

Inventor： 박수원 ,  권재균 ,  신강수 ,  정재훈 ,  윤지영 ,  문성호 ,  박수미 ,  성단근 ,  경문건 ,  차재상 ,  이서영 ,  송석일 ,  손인수 ,  조주필 ,  김재준 ,  이희수

IPC: H04B1/7143

CPC classification number: H04B1/713 ,  H04B1/692 ,  H04B1/707 ,  H04B2001/7154 ,  H04J13/004

Abstract: 본 발명은 다차원 도약 패턴 충돌시 충돌 구간에서의 송신 제어 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명에서는 주어진 직교 무선 자원을 송신측 및 수신측 사이의 통신 규약에 의하여 다차원 직교 자원 영역에서 도약 선택하며, 해당 채널은 다차원 도약 패턴에 의하여 구별된다. 이때, 제2 통신국별로 특정한 다차원 도약 패턴을 할당하고, 다차원 도약 패턴은 제2 통신국에 영구적으로 할당될 수도 있고, 호설정시에 제1 통신국으로부터 할당받을 수도 있다. 또한, 다차원 직교 자원 도약 패턴이 각 제2 통신국에게 영구적으로 할당되는 것은 제2 통신국의 ESN(Electronic Serial Number) 등과 같이 유일한 식별자를 바탕으로 다차원 도약 패턴이 정해질 때이다. 이런 경우, 제2 통신국의 다차원 도약 패턴이 서로 독립이기 때문에 특정 순간에 동일한 직교 자원 좌표가 서로 다른 제2 통신국에 동시에 할당될 수 있다. 본 발명에 따르면, 다차원 직교 자원 도약 다중화 방식을 채택한 시스템의 성능을 향상시키기 위하여 전송과 천공의 2분법적으로 이루어지는 다차원 직교 자원 도약 패턴 충돌시 처리 방법을 세분화함으로써 천공의 경우를 줄일 수 있다.
직교 자원, 도약 패턴, 다차원, 충돌, 다중화

公开(公告)号：KR1020140106970A

公开(公告)日：2014-09-04

申请号：KR1020130021369

申请日：2013-02-27

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 정기훈 ,  이영섭 ,  김재준 ,  강민희

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/0274 ,  B82B1/001 ,  B82B3/0019 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2012

Abstract: The present invention relates to a nanoplasmonic microtip array for nanolithography, a method of manufacturing the same, and a nanolithography method using the same. More particularly, the present invention relates to a microtip array for nanolithography which can fabricate a nanostructure of diffraction limit or less by manufacturing an large-scaled elastomer or polymer microtip array and forming a metal nanostructure on the surface of the array, a method of manufacturing the same, and a nanolithography method using the same. In a microtip array for nanolithography, the micro tip array provides a micro tip array for nanolithography which has a surface where metal nanostructures are formed.

Abstract translation: 本发明涉及用于纳米光刻的纳米等离子体微尖头阵列，其制造方法和使用其的纳米光刻方法。 更具体地说，本发明涉及一种用于纳米光刻的微尖头阵列，其可以通过制造大规模弹性体或聚合物微尖头阵列并在阵列的表面上形成金属纳米结构来制造衍射极限以下的纳米结构，制造方法 和使用其的纳米光刻方法。 在用于纳米光刻的微尖头阵列中，微尖阵列提供用于纳米光刻的微尖阵列，其具有形成金属纳米结构的表面。

公开(公告)号：KR101430112B1

公开(公告)日：2014-08-14

申请号：KR1020130055134

申请日：2013-05-15

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 정기훈 ,  김재준 ,  이영섭

IPC: H05B33/10 ,  H05B33/02

CPC classification number: H01L51/0018 ,  H01L51/5275 ,  H01L51/56 ,  H05B33/10 ,  H05B33/22

Abstract: The present invention relates to a method for fabricating a hierarchical structure using photolithography and capillarity, which is easily applicable to an LED lens or the like, using capillary force lithography and photolithography, and a hierarchical structure. The method comprises the steps of: (a) depositing a first photoresist layer (300) on an upper part of a substrate (200); (b) forming a nano pattern (310) on an upper surface of the first photoresist layer (300) using lithography; (c) coating, with a second photoresist layer (500), the upper surface of the first photoresist layer (300) with the nano pattern formed thereon; (d) forming a nano pattern (510) on an upper surface of the second photoresist layer (500) using lithography; (e) forming a hierarchical structure of a film (800) by forming a micro pattern (550) on the upper surface of the second photoresist layer (500) with the nano pattern (510) formed thereon using photolithography; and (f) copying the hierarchical structure surface of the film (800) with a mold (900). The mold (900) is filled with a filling to form a hierarchical structure using photolithography and capillarity, thereby improving an optical emitting angle and optical extraction efficiency.

Abstract translation: 本发明涉及使用光刻法和毛细管力制造分级结构的方法，其可以容易地应用于LED透镜等，使用毛细管力光刻和光刻法以及分层结构。 该方法包括以下步骤：（a）在衬底（200）的上部上沉积第一光致抗蚀剂层（300）; （b）使用光刻在所述第一光致抗蚀剂层（300）的上表面上形成纳米图案（310）; （c）用第二光致抗蚀剂层（500）涂覆其上形成有纳米图案的第一光致抗蚀剂层（300）的上表面; （d）使用光刻在所述第二光致抗蚀剂层（500）的上表面上形成纳米图案（510）; （e）通过使用光刻法在其上形成有纳米图案（510）的第二光致抗蚀剂层（500）的上表面上形成微图案（550）来形成膜（800）的分层结构; 和（f）用模具（900）复制胶片（800）的层状结构表面。 模具（900）填充填充物以形成使用光刻和毛细管作用的层次结构，从而提高光学发射角度和光学提取效率。

公开(公告)号：KR101002212B1

公开(公告)日：2010-12-20

申请号：KR1020080092814

申请日：2008-09-22

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 정기훈 ,  채선기 ,  정혁진 ,  김재준

IPC: G02B1/118 ,  B82Y20/00 ,  B82Y40/00 ,  B29D11/00 ,  G02B1/04 ,  G02B3/00

Abstract: 본 발명은 미세복합형상렌즈 및 미세복합형상렌즈 제조 방법에 관한 것으로서, 특히 광원에서 나온 빛을 넓고 균등하게 분산시키는 미세복합형상렌즈 및 미세복합형상렌즈 제조 방법에 관한 것으로, 소정의 곡률을 가지는 렌즈의 일면에 단면이 원 또는 다각형인 돌출부가 하나 이상 배열된 미세복합패턴이 형성되고, 렌즈 내부에 광 고분자 나노입자를 포함하여 구성되어, 미세복합패턴에 의해 보다 큰 광방출각을 형성할 수 있어 점광원인 LED 광원을 광균일도가 우수한 면광원으로 전환이 가능하다. 또한, 기존의 백라이트 유닛에 사용되는 광학기판의 복합적층 없이 단일렌즈 하나로 도광판, 프리즘판 및 확산판의 역할을 대체할 수 있는 장점이 있고, 90도에 가까운 LED 광원의 방출각을 160도이상 증가시킬 수 있어 미세패턴의 국부적 변화를 통해 광량의 균일도를 향상기킬수 있는 효과가 있고, 3차원 몰딩기술과 극미세입자 혼합기술을 바탕으로 미세유체관 어레이를 이용해 웨이퍼레벨 제작이 가능하다.
LED, BLU, LENS, MICROPATTERNS, MICROTEMPLATING, NANOPARTICLES, Wide Angle Illumination, 미세복합패턴

公开(公告)号：KR100641797B1

公开(公告)日：2006-11-02

申请号：KR1020060099124

申请日：2006-10-12

Applicant: 한국전자통신연구원 ,  한국과학기술원

Inventor： 박수원 ,  권재균 ,  신강수 ,  정재훈 ,  윤지영 ,  문성호 ,  박수미 ,  성단근 ,  경문건 ,  차재상 ,  이서영 ,  송석일 ,  손인수 ,  조주필 ,  김재준 ,  이희수

IPC: H04B1/7143 ,  H04L27/34 ,  H04J11/00

Abstract: 본 발명은 다차원 도약 패턴 충돌시 충돌 구간에서의 송신 제어 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명에서는 주어진 직교 무선 자원을 송신측 및 수신측 사이의 통신 규약에 의하여 다차원 직교 자원 영역에서 도약 선택하며, 해당 채널은 다차원 도약 패턴에 의하여 구별된다. 이때, 제2 통신국별로 특정한 다차원 도약 패턴을 할당하고, 다차원 도약 패턴은 제2 통신국에 영구적으로 할당될 수도 있고, 호설정시에 제1 통신국으로부터 할당받을 수도 있다. 또한, 다차원 직교 자원 도약 패턴이 각 제2 통신국에게 영구적으로 할당되는 것은 제2 통신국의 ESN(Electronic Serial Number) 등과 같이 유일한 식별자를 바탕으로 다차원 도약 패턴이 정해질 때이다. 이런 경우, 제2 통신국의 다차원 도약 패턴이 서로 독립이기 때문에 특정 순간에 동일한 직교 자원 좌표가 서로 다른 제2 통신국에 동시에 할당될 수 있다. 본 발명에 따르면, 다차원 직교 자원 도약 다중화 방식을 채택한 시스템의 성능을 향상시키기 위하여 전송과 천공의 2분법적으로 이루어지는 다차원 직교 자원 도약 패턴 충돌시 처리 방법을 세분화함으로써 천공의 경우를 줄일 수 있다.
직교 자원, 도약 패턴, 다차원, 충돌, 다중화