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公开(公告)号：KR1019930012227A
公开(公告)日：1993-07-20
申请号：KR1019910024032
申请日：1991-12-23
IPC: B28B3/26
Abstract: 본 발명은 상기의 제반 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 통공형성용 세선과 세라믹 반죽을 동시에 압축시켜 세라믹 구조물의 내경(통공)치수 및 내원과 외원의 동심도를 정밀하게 제어하여 미세통공을 갖는 관형 세라믹 구조물을 제조하는 방법을 제공하기 위하여, 일측에 압출구용 관이 형성된 압출용 금형물 내에 장착되어 외부의 세선드럼으로부터 제공되는 세선이 중심정렬되도록 지지하는 세선 공급용 관을 구비하고 있는 압출성형 장치를 이용하여 세라믹 소재의 분말에 일정비율의 첨가물을 혼합하여 가소성을 갖도록 한 세라믹 반죽과 미세통공 형성수단을 상기 압출구용 관을 통해 동시에 압출시키고, 탈지 및 소성공정을 거치도록 하여 미세통공을 갖는 관형 세라믹 구조물을 형성하고, 일측에 압출구용 관이 형성된 압출용 금형물 에 장착되어 외부의 세선 드럼으로부터 제공되는 세선이 중심정렬 되도록 지지하는 세선 공급용 관, 및 상기 압출구용 관 외부에 위치하여 세선공급용 관과 함께 세선의 중심정렬을 지지하는 외부정렬대를 구비하고 있는 압출성형장치를 이용하여 초기에 상기 세선공급용 관 및 외부 정렬대를 통해 세선을 팽팽히 중심정렬시킨후, 가소성을 갖는 세라믹 반죽과 상기 세선을 동시에 압출시킨 후, 탈지 및 소성 공정을 거치도록 하여 미세통공을 갖는 관형 세라믹 구조물을 형성한다.
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公开(公告)号：KR1020170031539A
公开(公告)日：2017-03-21
申请号：KR1020150129233
申请日：2015-09-11
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H04L12/751 , H04L12/721 , H04L12/937 , H04L12/935
Abstract: 본발명은오픈플로우네트워크분할환경에서의컨트롤러에서분산라우팅방법으로, 동일네트워크의다른컨트롤러에의해관리되는스위치의포트정보를외부포트정보테이블로관리하는단계와, 스위치로부터패킷과함께누적비용이포함된별도로정의된패킷을수신함에따라, 상기누적비용으로호스트별누적비용정보테이블을갱신함과아울러, 상기패킷을다른스위치들에플러딩하되, 다른스위치들의포트가상기외부포트정보테이블에포함되어있을경우, 별도로정의된패킷을함께전송하는단계를포함한다.
Abstract translation: 含有开放流网络分为在环境eseoui控制器的分布式路由选择方案的本发明;以及与从所述交换机的分组一起的累计成本管理交换机的端口信息由另一个控制器的相同的网络中控制到外部端口信息表 使用累积成本更新每个主机的累积成本信息表，并将该数据包充斥到其他交换机。当其他交换机的端口包含在外部端口信息表中时 ，并将分开定义的数据包一起发送。
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公开(公告)号：KR1020160109215A
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：KR1020150033234
申请日：2015-03-10
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H04L12/823 , H04L12/813
Abstract: 오픈플로컨트롤러클러스터기반컨트롤러의루프방지방법및 루프방지를위한컨트롤러가개시된다. 본발명의일 실시예에따른루프방지방법은다수의컨트롤러로구성된컨트롤러클러스터에위치하는컨트롤러가자신이관리하는스위치로부터수신패킷처리를요청받는단계와, 처리요청에따라패킷전달경로를계산하고스위치가패킷을수신한입력포트와계산된패킷전달경로에따라해당패킷을전달할출력포트가동일한지확인하는단계와, 스위치의패킷입출력포트가동일하면루프가발생한것으로판단하여패킷을드롭시키는단계를포함한다.
Abstract translation: 公开了一种基于开放流量控制器集群及其控制器来阻止控制器的循环的方法。 根据本发明的实施例，阻塞环路的方法包括：从位于由多个控制器组成的控制器簇上的控制器进行管理的交换机接收对接收分组处理的请求的步骤; 根据处理请求计算分组传送路径的步骤，根据计算出的分组传送路径检查传输对应分组的输出端口是否与交换机接收分组的输入端口相同; 并且如果交换机的分组输入端口与交换机的分组输出端口相同，则通过确定生成该环路来丢弃分组的步骤。
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公开(公告)号：KR1020160049962A
公开(公告)日：2016-05-10
申请号：KR1020150130693
申请日：2015-09-16
Applicant: 한국전자통신연구원
Abstract: 본발명은캐리어가상네트워크제어시스템에관한것으로상기시스템은고객네트워크제어장치로부터수신한고객요청정보에기초하여, 가상캐리어네트워크자원을제어하는적어도하나의가상네트워크제어장치, 및상기가상네트워크제어장치로부터수신한서비스프로파일에기초하여, 상기물리캐리어네트워크자원을제어하는적어도하나의물리네트워크제어장치를포함하고, 상기가상네트워크제어장치와상기물리네트워크제어장치는 1:1, 1:N(상기 N은 2이상의정수)또는 N:1로서로인터워킹(interworking)한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于控制运营商虚拟网络的系统。 该系统包括：至少一个虚拟网络控制设备，被配置为基于从客户网络控制设备接收的客户请求信息来控制虚拟载波网络资源; 以及至少一个物理网络控制设备，被配置为基于从所述虚拟网络控制设备接收的服务简档来控制物理载波网络资源。 虚拟网络控制设备和物理网络控制设备以一对一，一对一或N对一的方式彼此互通，其中N是等于或大于2的整数。 因此，系统可以实时动态地满足客户的各种服务要求，创造新业务。
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公开(公告)号：KR1020160006588A
公开(公告)日：2016-01-19
申请号：KR1020150075357
申请日：2015-05-28
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H04L29/02
Abstract: 본발명은 SDN기반대규모가상네트워크자율제어및 관리시스템에관한것으로자율결정기능을가지는자원계층, 상기자원계층의자원을관리하는다계층관리기능개체, 자율결정기능을가지며상기자원계층을제어하기위한 SDN(Software Defined-Network) 제어계층, 및자율결정기능을가지며상기상기자원계층및 상기 SDN 제어계층의자율제어및 관리를수행하는자율제어및 관리평면을포함한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于大型虚拟网络的基于SDN的自主控制和管理系统。 该系统包括具有自主控制功能的资源层，管理资源层资源的多层管理功能项，具有自主决策功能并控制资源层的软件定义网络（SDN）层， 以及具有自主控制功能的自主控制和管理平面，执行SDN控制层和资源层的自主控制和管理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101016746B1
公开(公告)日：2011-02-25
申请号：KR1020080126080
申请日：2008-12-11
Applicant: 충남대학교산학협력단 , 한국전자통신연구원
Abstract: 용이하게 유방암 진단장비의 검사를 행하는 것이 가능하도록, 트리톤 X-100 75∼84.9중량%, 디에틸렌글리콜부틸에테르 15∼24.9중량%, 포화상태의 소금물 0.1∼5중량%를 포함하는 지방조직과, 글리세롤 30∼40중량%, 초순수 50∼60중량%, 염화나트륨 1∼5중량%, 한천 2∼6중량%, 폴리에틸렌 분말 1∼5중량%를 포함하는 유선조직(암조직)으로 이루어지는 전자파를 이용한 유방암 진단장비 검사용 유방팬텀을 제공한다.
전자파, 유방암, 진단, 검사, 테스트, 지방, 유선, 암조직, 유전율, 도전율-
公开(公告)号：KR100969887B1
公开(公告)日：2010-07-13
申请号：KR1020080017108
申请日：2008-02-26
Applicant: 충남대학교산학협력단 , 한국전자통신연구원
Abstract: 전자파를 이용한 유방암 진단장치를 제조하는 과정에서 성능과 기능을 확인하고 시뮬레이션과 모니터링을 용이하게 행할 수 있는 기초 자료를 제공할 수 있도록, 유방암 호발 연령(40∼60세)의 건강한 한국 성인여성에 대하여 CT 또는 MRI 촬영을 행하고, 인체의 전체 조직을 분류하여 각 조직마다 특정된 조직번호를 부여하고, 촬영된 영상을 분석하여 각 위치마다 존재하는 조직에 대하여 좌표정보와 조직번호를 매칭시켜 저장하고, 이 좌표정보와 조직번호를 이용하여 수치팬텀을 작성하는 과정으로 이루어지는 유방암 진단장치를 위한 한국인 표준체형 수치팬텀 작성방법을 제공한다.
수치팬텀, 유방암, 진단장치, 표준 체형, 여성, 조직, 분류, 데이터, 작성-
公开(公告)号：KR100827368B1
公开(公告)日：2008-05-06
申请号：KR1020060124587
申请日：2006-12-08
Applicant: 한국전자통신연구원
CPC classification number: G01R31/30 , G01R1/045 , G01R21/002
Abstract: A method and a system for testing a withstand voltage are provided to decrease a test time by applying a step-stress scheme on a semiconductor RF(Radio Frequency) passive element. A high power amplifier(120) amplifies a continuous signal which is generated from an input test frequency, to a desired power level. A power meter(140) monitors the power level inputted to a semiconductor RF passive element, and the power level outputted from the semiconductor RF passive element. A network analyzer(160) measures electrical characteristics of the semiconductor RF passive element from the input power level. A control analysis computer(190) raises the test power from a start power level at predetermined steps during a predetermined time interval, monitors electrical characteristics of the semiconductor RF passive element, and sets the test frequency and a maximum test power level. The control analysis computer maintains the test power for a predetermined period and monitors the electrical characteristics of the passive element by using the test frequency.
Abstract translation: 提供了一种用于测试耐压的方法和系统，以通过在半导体RF（射频）无源元件上应用步进应力方案来减少测试时间。 大功率放大器（120）将从输入测试频率产生的连续信号放大到期望的功率电平。 功率计（140）监视输入到半导体RF无源元件的功率电平和从半导体RF无源元件输出的功率电平。 网络分析器（160）根据输入功率电平测量半导体RF无源元件的电特性。 控制分析计算机（190）在预定时间间隔内以预定步骤从起始功率电平提高测试功率，监视半导体RF无源元件的电特性，并设置测试频率和最大测试功率电平。 控制分析计算机将测试功率维持在预定时间段，并通过使用测试频率监视无源元件的电特性。
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公开(公告)号：KR100376166B1
公开(公告)日：2003-03-15
申请号：KR1019990037637
申请日：1999-09-06
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G02B6/02
Abstract: PURPOSE: A device of flame hydrolysis deposition(FHD) for manufacturing a fiber-optic amplifier is provided to supply Eribum(Er) and Ytterbium(Yb) in the state of liquid through a pipe into the FHD reaction chamber to control the temperature. CONSTITUTION: In a device of flame hydrolysis deposition(FHD) for manufacturing fiber-optic amplifier, a supplier of reaction gas(11) supplies an FHD reaction chamber(12) with liquid reaction gas, inactive gas for transferring the liquid reaction gas and gas used for FHD. The liquid reaction gas undergoes FHD in a FHD reaction chamber(12). A thermostat(13) provides the FHD reaction chamber(12) with solid fuel evaporated by heat. An aerosol generator(14) provides the FHD reaction chamber with dissolved Erbium(Er) and Ytterbium(Yb).
Abstract translation: 目的：提供用于制造光纤放大器的火焰水解沉积（FHD）装置，以通过管道将液态的Eribum（铒）和镱（Yb）供应到FHD反应室中以控制温度。 构成：在用于制造光纤放大器的火焰水解沉积（FHD）装置中，反应气体（11）的供应者向FHD反应室（12）供应液态反应气体，惰性气体用于将液态反应气体和气体 用于FHD。 液态反应气体在FHD反应室（12）中经历FHD。 恒温器（13）为FHD反应室（12）提供热量蒸发的固体燃料。 气溶胶发生器（14）为FHD反应室提供溶解的铒（Er）和镱（Yb）。
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公开(公告)号：KR1020010076769A
公开(公告)日：2001-08-16
申请号：KR1020000004124
申请日：2000-01-28
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L31/14
Abstract: PURPOSE: An optical device of a plane waveguide type and a method for manufacturing an optical amplifier are provided to embody an optical device and an optical amplifier of low loss by adding an effective element to an optical waveguide. CONSTITUTION: The method includes four steps. The first step is to form a buffering layer(402) to a predetermined thickness as a lower clad layer using a Flame Hydrolysis Deposition(FHD) on a silicon substrate(401), and form a predetermined thickness or more core layer(403) having a predetermined difference of refractive index as an optical waveguide on the buffering layer via high densification using an Aerosol Flame Deposition(AFD). The second step is to form a predetermined thickness or more Cr or Al film on the core layer via a thermal deposition and then form a waveguide pattern via photolithography. The third step is to leave only the waveguide pattern protected by the Cr or Al film via a dry or wet etch, perform a relief etch to the core layer using an Ion Coupled Plasma(ICP) etch to form a signal light transmitting line(404) which is a waveguide having a constant size capable of transmitting an optical signal, and remove the Al or Cr film used as a protecting film. The fourth step is to form an upper clad layer(405) on the exposed buffering layer and the signal light transmitting line.
Abstract translation: 目的：提供一种平面波导型的光学装置和用于制造光放大器的方法，通过向光波导添加有效元件来实现低损耗的光学装置和光放大器。 规定：该方法包括四个步骤。 第一步是在硅衬底（401）上使用火焰水解沉积（FHD）形成预定厚度的作为下包层的缓冲层（402），并且形成预定厚度或更多的芯层（403），其具有 通过使用气溶胶火焰沉积（AFD）的高致密度，在缓冲层上作为光波导的预定折射率差。 第二步是通过热沉积在芯层上形成预定厚度或更多的Cr或Al膜，然后通过光刻形成波导图案。 第三步是仅通过干蚀刻或湿蚀刻仅留下由Cr或Al膜保护的波导图案，使用离子耦合等离子体（ICP）蚀刻对芯层进行浮雕蚀刻，以形成信号光传输线（404 ），其是具有能够透射光信号的恒定尺寸的波导，并且去除用作保护膜的Al或Cr膜。 第四步骤是在暴露的缓冲层和信号光传输线上形成上覆层（405）。
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