PROCEDE DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT REVETU D'UN FILM ANTISTATIQUE MESOPOREUX ET SON APPLICATION EN OPTIQUE OPHTALMIQUE

    公开(公告)号:FR2949111A1

    公开(公告)日:2011-02-18

    申请号:FR0955670

    申请日:2009-08-13

    Applicant: ESSILOR INT

    Abstract: La présente invention concerne un article comprenant un substrat ayant une surface principale revêtue d'un revêtement antistatique mésoporeux, ledit revêtement possédant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,5, ainsi qu'une matrice à base de silice fonctionnalisée par des groupes ammonium qui présente un caractère hydrophobe. Dans certaines conditions, le revêtement antistatique mésoporeux constitue un revêtement antireflet monocouche ou fait partie d'un revêtement antireflet multicouche. L'invention concerne également un procédé de fabrication d'un tel article, et l'utilisation d'un revêtement mésoporeux possédant une matrice à base de silice fonctionnalisée par des groupes ammonium en tant que revêtement antistatique.

Patent Agency Ranking