公开(公告)号：JP2011197339A

公开(公告)日：2011-10-06

申请号：JP2010063408

申请日：2010-03-19

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： MIZUTANI KAZUYOSHI ,  IWATO KAORU ,  TARUYA SHINJI ,  KAMIMURA SATOSHI ,  ENOMOTO YUICHIRO ,  FUJII KANA ,  KATAOKA SHOHEI ,  DOBASHI TORU ,  KATO KEITA

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: a resist composition having excellent development failure performance; and a pattern forming method using the composition.SOLUTION: The resin composition contains: a resin which contains a repeating unit including a group that dissolves by action of acid to generate an alcoholic hydroxy group and decreases the solubility to a developing solution containing an organic solvent by the action of acid; and a compound that generates acid expressed by the following general formula (I) by application of activated light rays or radiation rays, wherein Xf represents each independently, a fluorine atom or an alkyl group substituted with at least one fluorine atom, Rand Rrepresent each independently, a group selected from the group consisting of a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group, and an alkyl group substituted with at least one fluorine atom, L represents each independently a single bond or divalent linking group, A represents each independently a group having a cyclic structure, x represents each independently an integer of 1 to 20, y represents each independently an integer of 0 to 10, and z represents each independently an integer of 0 to 10.

Abstract translation: 要解决的问题：提供：具有优异的显影破坏性能的抗蚀剂组合物; 和使用该组合物的图案形成方法。树脂组合物含有：含有重复单元的树脂，该重复单元包括通过酸作用而溶解以产生醇羟基并降低对含有有机溶剂的显影溶液的溶解度的基团 通过酸的作用; 以及通过施加活化的光线或射线产生由以下通式（I）表示的酸的化合物，其中Xf各自独立地为氟原子或被至少一个氟原子取代的烷基，R R R R各自独立地 选自氢原子，氟原子，烷基和被至少一个氟原子取代的烷基的基团，L各自独立地为单键或二价连接基团，A表示各自独立地为 具有环状结构的基团，x表示各自独立地为1〜20的整数，y表示各自独立地为0〜10的整数，z表示各自独立地为0〜10的整数。

公开(公告)号：JP2010256842A

公开(公告)日：2010-11-11

申请号：JP2009205362

申请日：2009-09-04

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： TANGO NAOHIRO ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO ,  FUJITA MITSUHIRO ,  YAMAGUCHI SHUHEI ,  SHIBUYA AKINORI ,  KATAOKA SHOHEI

IPC: G03F7/039 ,  C07C381/12 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/42 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  C08F220/22

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an effect in the improvement of tapered profile of a resist pattern and enabling formation of a pattern with good LER performance, and a pattern forming method using the composition. SOLUTION: An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes: (A) a resin capable of increasing a solubility of the resin in an alkali developer by an action of an acid; and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, wherein the compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation is contained in an amount of 10 to 30 mass% based on the entire solid content of the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition. The pattern forming method uses the composition. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供具有改善抗蚀剂图案的锥形轮廓并且能够形成具有良好LER性能的图案的效果的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，以及图案形成方法 使用组合。 光敏性或辐射敏感性树脂组合物包括：（A）能够通过酸的作用增加树脂在碱性显影剂中的溶解度的树脂; 和（B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，其中当以光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物的含量为10-30质量％ 光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物的全部固体含量。 图案形成方法使用该组合物。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2014224895A

公开(公告)日：2014-12-04

申请号：JP2013103860

申请日：2013-05-16

Applicant: 富士フイルム株式会社 ,  Fujifilm Corp

Inventor： YAMAGUCHI SHUHEI ,  YAMAMOTO KEI ,  KATAOKA SHOHEI

IPC: G03F7/038 ,  C08F220/28 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/325 ,  C08F220/28 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20

Abstract: 【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュードおよびパターン形状に優れたパターンを形成することが可能なパターン形成方法、それに好適に用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び感活性光線性又は感放射線性膜、並びに、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供すること。【解決手段】感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を基板上に塗布して感活性光線性又は感放射線性膜を形成する工程、前記感活性光線性又は感放射線性膜を露光する工程、及び、露光した前記感活性光線性又は感放射線性膜を、有機溶剤を含む現像液で現像し、ネガ型パターンを形成する工程、を含むパターン形成方法であり、前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物が、酸基とラクトン構造を有する繰り返し単位(a)を含み、酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂(A)を含有することを特徴とするパターン形成方法。【選択図】なし

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种图案形成方法，其可以形成具有优异的粗糙度性能，包括线宽粗糙度等，曝光宽容度和图案形状; 可适用于该方法的主动感光或辐射敏感性树脂组合物; 主动感光或辐射敏感膜; 电子设备的制造方法; 和电子器件。解决方案：图案形成的方法包括以下步骤：通过在基底上涂覆活性光敏或辐射敏感树脂组合物来形成活性光敏或辐射敏感膜; 曝光主动感光或辐射敏感膜; 并用显影剂显影曝光的主动感光或辐射敏感膜以形成负型图案。 主动感光或辐射敏感组合物包含含有具有酸基和内酯结构的重复单元的树脂（A），并且通过酸的作用增加其极性以降低其在显影剂中的溶解度 其含有有机溶剂。

公开(公告)号：JP2014178694A

公开(公告)日：2014-09-25

申请号：JP2014079581

申请日：2014-04-08

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： TAKAHASHI HIDETOMO ,  YAMAGUCHI SHUHEI ,  KATAOKA SHOHEI ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO ,  YOSHINO FUMIHIRO ,  SAITO SHOICHI

IPC: G03F7/038 ,  C08F20/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method achieving excellent exposure latitude (EL), uniformity of local pattern dimensions, rectangularity and circularity of a cross-sectional shape in the formation of a fine pattern such as a hole pattern having a hole diameter of 45 nm or less, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film used for the method, a method for manufacturing an electronic device, and an electronic device.SOLUTION: The pattern forming method includes steps of: (1) forming a film of the following actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition; (2) exposing the film; and (3) developing the film by using a developing solution comprising an organic solvent to form a negative pattern. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises: a resin (P) having a repeating unit (a) expressed by general formula (I); a compound (B) that generates an organic acid by irradiation with actinic rays or radiation; and a nitrogen-containing organic compound (NA) having a group that desorbs by an action of an acid. In general formula (I), R, Rand Reach independently represent a linear or branched alkyl group.

Abstract translation: 要解决的问题：为了提供在形成具有孔直径的孔图案的精细图案的情况下，实现优异的曝光宽容度（EL），局部图案尺寸的均匀性，截面形状的矩形和圆形度的图案形成方法 为45nm以下，并且提供了用于该方法的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物和抗蚀剂膜，电子器件的制造方法和电子器件。解决方案：图案形成方法包括步骤 ：（1）形成以下光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物的膜; （2）曝光胶片; 和（3）通过使用包含有机溶剂的显影溶液显影以形成负图案。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含：具有由通式（I）表示的重复单元（a）的树脂（P）; 通过用光化射线或辐射照射产生有机酸的化合物（B）; 和具有通过酸的作用解吸的基团的含氮有机化合物（NA）。 在通式（I）中，R，Rand Reach独立地表示直链或支链烷基。

公开(公告)号：JP2013178542A

公开(公告)日：2013-09-09

申请号：JP2013084293

申请日：2013-04-12

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： TANGO NAOHIRO ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO ,  FUJITA MITSUHIRO ,  YAMAGUCHI SHUHEI ,  SHIBUYA AKINORI ,  KATAOKA SHOHEI

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an effect of improving a trailing shape of a resist pattern and enabling formation of a pattern with excellent LER performance, and a pattern forming method using the composition.SOLUTION: The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a resin showing increase in the solubility with an alkali developing solution by an action of an acid, and (B) a compound that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation; and the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes the (B) compound that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation by 10 to 30 mass% on a basis of the whole solid content of the resin composition. A pattern forming method is carried out by using the above composition.

Abstract translation: 要解决的问题：提供具有改善抗蚀剂图案的拖尾形状并且能够形成具有优异的LER性能的图案的效果的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，以及使用该组合物的图案形成方法。 解决方案：光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包含（A）通过酸作用显示与碱性显影液的溶解度增加的树脂，（B）通过光化反应产生酸的化合物 射线或辐射; 并且光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含基于树脂组合物的全部固体成分，通过用光化射线或辐射照射10〜30质量％而产生酸的（B）化合物。 通过使用上述组成进行图案形成方法。

公开(公告)号：JP2013178370A

公开(公告)日：2013-09-09

申请号：JP2012041989

申请日：2012-02-28

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： MATSUDA TOMOKI ,  SHIBUYA AKINORI ,  TOKUGAWA YOKO ,  ITO JUNICHI ,  KATAOKA SHOHEI ,  FUKUHARA TOSHIAKI ,  TANGO NAOHIRO ,  IWATO KAORU ,  YOSHITOME MASAHIRO ,  SUGIYAMA SHINICHI

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition improved in CDU and roundness and suited even for a liquid immersion process with a line width of 45 nm or less; an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern formation method which use the composition; and an electronic device manufacturing method and an electronic device.SOLUTION: An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a compound (A) represented by the specified general formula (1), and a resin (B) whose solubility in an alkaline developer is increased by the action of an acid. (The meaning of each symbol in the general formula (1) is described in the claims.)

Abstract translation: 要解决的问题：提供：提高CDU和圆度的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，甚至适用于线宽为45nm以下的液浸工艺; 光化射线敏感或辐射敏感膜和使用该组合物的图案形成方法; 电子装置的制造方法和电子装置。光解射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物含有由通式（1）表示的化合物（A）和在 碱性显影剂通过酸的作用而增加。 （在权利要求中描述了通式（1）中每个符号的含义）。

公开(公告)号：JP2013120245A

公开(公告)日：2013-06-17

申请号：JP2011267348

申请日：2011-12-06

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： TANGO NAOHIRO ,  KATAOKA SHOHEI ,  SHIBUYA AKINORI ,  ITO JUNICHI ,  MATSUDA TOMOKI ,  IWATO KAORU ,  SUGIYAMA SHINICHI ,  FUKUHARA TOSHIAKI ,  YOSHITOME MASAHIRO ,  TOKUGAWA YOKO

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/26 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of satisfying, in a high level, all of reducing the number of development defects (bridge defects), reducing fluctuations of a critical dimension (CD) of a pattern line width per 1°C of PEB temperature (PEB temperature dependence), and enlarging a focus latitude in a space (space-DOF (depth of focus)), and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin, a method for forming a pattern, a method for manufacturing an electronic device, and an electronic device using the above composition.SOLUTION: The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (A) a resin having a repeating unit expressed by general formula (1A) and a repeating unit expressed by general formula (1B) that is decomposed by an acid to generate a carboxyl group, and (B) a compound that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation. In general formula (1A), L represents a single bond or a divalent connecting group; and Z represents a cyclic acid anhydride group.

Abstract translation: 要解决的问题：提供能够高水平地满足显影缺陷（桥缺陷）数量的所有降低的光化学敏感或辐射敏感性树脂组合物，减少临界尺寸的波动（ CD），PEB温度（PEB温度依赖性）每1℃的图案线宽度，以及放大空间（空间自由度（深度焦点））中的焦点纬度），并且提供光化学敏感或辐射 - 使用光化射线敏感或辐射敏感树脂的感光膜，形成图案的方法，使用上述组合物的电子器件的制造方法和电子器件。 光敏性或辐射敏感性树脂组合物包含（A）具有由通式（1A）表示的重复单元的树脂和由酸分解的通式（1B）表示的重复单元 以产生羧基，和（B）通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物。 在通式（1A）中，L表示单键或二价连接基团; Z表示环状酸酐基。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2013113944A

公开(公告)日：2013-06-10

申请号：JP2011258327

申请日：2011-11-25

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： SUGIYAMA SHINICHI ,  KATAOKA SHOHEI ,  SHIBUYA AKINORI ,  ITO JUNICHI ,  MATSUDA TOMOKI ,  IWATO KAORU ,  FUKUHARA TOSHIAKI ,  TANGO NAOHIRO ,  TOKUGAWA YOKO ,  YOSHITOME MASAHIRO

IPC: G03F7/039 ,  C08F20/28 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition achieving a favorable cross-sectional shape with high rectangularity, a high film residual rate and reduction of bridge defects, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition, and a method for manufacturing an electronic device and an electronic device.SOLUTION: The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes: (A) a resin having a repeating unit expressed by following general formula (1), a repeating unit having a lactone structure or a sultone structure, and a repeating unit that is decomposed by an action of an acid to generate an alkali-soluble group; and (B) a compound that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation. In general formula (1), L represents a single bond or a divalent connecting group; Rrepresents a hydrogen atom or an alkyl group; and Z represents a cyclic acid anhydride group.

Abstract translation: 要解决的问题：提供具有高矩形性，高膜残留率和桥缺陷减少的良好横截面形状的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，并提供抗蚀剂膜和 使用该组合物的图案形成方法，以及电子设备和电子设备的制造方法。 光敏性或辐射敏感性树脂组合物包括：（A）具有由以下通式（1）表示的重复单元的树脂，具有内酯结构或磺内酯结构的重复单元，和 通过酸的作用分解以产生碱溶性基团的重复单元; 和（B）通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物。 在通式（1）中，L表示单键或二价连接基团; R 1 表示氢原子或烷基; Z表示环状酸酐基。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2013068777A

公开(公告)日：2013-04-18

申请号：JP2011207017

申请日：2011-09-22

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： TAKAHASHI HIDETOMO ,  YAMAGUCHI SHUHEI ,  KATAOKA SHOHEI ,  SHIRAKAWA MICHIHIRO ,  YOSHINO FUMIHIRO ,  SAITO SHOICHI

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC classification number: B32B3/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/075 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40 ,  Y10T428/24802

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method excellent in exposure latitude (EL), uniformity in local pattern dimensions, rectangularity and circularity in a cross-sectional shape in a fine pattern formation such as a hole pattern with a pore diameter of 45 nm or smaller, and to provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition used therefor, a resist film, a method for manufacturing an electronic device, and an electronic device.SOLUTION: There is provided a pattern forming method comprising the steps of: (i) forming a film using an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition including a resin (P) having a repeating unit (a) represented by the following general formula (I), a compound (B) that generates an organic acid by irradiation with an actinic ray or radiation, and a nitrogen-containing organic compound (NA) including a group to be eliminated by an action of an acid; (ii) exposing the film; and (iii) developing the exposed film using a developer containing an organic solvent to form a negative pattern.

Abstract translation: 要解决的问题：为了提供曝光宽容度（EL）优异的图案形成方法，局部图案尺寸的均匀性，在诸如具有孔的孔图案的精细图案形状中的截面形状中的矩形和圆形度 直径为45nm以下，并且提供用于其的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，抗蚀剂膜，电子器件的制造方法和电子器件。 提供了一种图案形成方法，包括以下步骤：（i）使用包含具有下列重量单元（a）的树脂（P）的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物形成膜： 通式（I）表示的化合物，通过用光化学射线或辐射照射产生有机酸的化合物（B）和含有通过酸作用除去的基团的含氮有机化合物（NA） （ii）曝光胶片; 和（iii）使用含有有机溶剂的显影剂显影曝光的薄膜以形成负图案。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2012137697A

公开(公告)日：2012-07-19

申请号：JP2010291380

申请日：2010-12-27

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： TANGO NAOHIRO ,  IIZUKA YUSUKE ,  SHIBUYA AKINORI ,  YAMAGUCHI SHUHEI ,  KATAOKA SHOHEI

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/26 ,  G03F7/004 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern excellent in in-plane uniformity (CDU) of line width, and a pattern forming method using the composition.SOLUTION: An actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains (A) a resin that has a repeating unit having a specific lactone structure and a repeating unit having a specific monoalicyclic structure and whose solubility in an alkaline developer is increased by the action of an acid and (B) a compound having a specific structure which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.

Abstract translation: 要解决的问题：提供能够形成线宽的面内均匀性（CDU）优异的图案的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，以及使用该组合物的图案形成方法。 光敏感或辐射敏感性树脂组合物含有（A）具有特定内酯结构的重复单元的树脂和具有特定单环结构的重复单元，其在碱性显影剂中的溶解度为 通过酸的作用增加，（B）具有特定结构的化合物，其在用光化射线或辐射照射时产生酸。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT