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公开(公告)号：CN103075342B
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201210369547.X
申请日：2012-09-28
Applicant: LG电子株式会社
CPC classification number: F04C18/0215 , F04C18/0269 , F04C23/008 , F04C27/005
Abstract: 本发明涉及一种涡旋式压缩机。根据本发明，在轴穿透涡旋式压缩机中，转轴的偏心部沿径向与绕动涡盘的绕动涡卷重叠，背压室形成在绕动涡盘的后表面上可从圆形中心绕排放口偏心地形成以与偏心排放口对应，从而有效地防止绕动涡盘由于排放口偏心地形成时所产生的气体力的偏心率而导致的倾斜。
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公开(公告)号：CN101725526B
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN200910158609.0
申请日：2009-07-07
Applicant: LG电子株式会社
CPC classification number: F04C29/028 , F04C18/0253 , F04C23/008
Abstract: 本发明提供了一种涡旋压缩机以及具有该涡旋压缩机的制冷机。在所述涡旋压缩机中，形成在绕动涡旋盘中的供油孔将油从机架和所述绕动涡旋盘之间的空间引导至固定涡旋盘和绕动涡旋盘之间的空间中；而形成在所述固定涡旋盘中的供油槽保持与所述供油孔连通；由此在油被引入到背压室中之前，可快速地将油供给到所述固定涡旋盘和所述绕动涡旋盘之间的支承面。通过有效地防止这种压缩机中的摩擦损失以及制冷剂泄漏而提高了压缩机的效率，并且提高了使用这种压缩机的制冷机的能效。
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公开(公告)号：CN103195708A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201310001512.5
申请日：2013-01-04
Applicant: LG电子株式会社
IPC: F04C18/02
CPC classification number: F04C18/00 , F04C15/0076 , F04C18/0215 , F04C23/008 , F04C2230/60 , Y10T29/4924
Abstract: 本发明涉及一种具有旋转轴插孔的涡旋式压缩机及其制造方法。根据本发明的一个方案，提供一种涡旋式压缩机，其包括：壳体；固定涡盘，固定到壳体的内壁表面；环绕涡盘，与固定涡盘结合以在相对于固定涡盘进行环绕运动的同时形成压缩室；旋转轴，该旋转轴中一体地形成有轴部、偏心部和颈部，轴部插入固定涡盘中，偏心部穿过固定涡盘以与环绕涡盘结合，而颈部的直径小于偏心部的直径以将该偏心部连接到轴部；固定轴衬，插设在固定涡盘与轴部之间；以及驱动单元，构造为用以驱动旋转轴，其中在固定涡盘上形成供颈部插入的颈部插孔以及供轴部沿横向可移动地插入的轴部插孔，该固定轴衬限制轴部的横向运动，使颈部插孔的外周部保持插入到颈部中的状态。
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公开(公告)号：CN103047137A
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN201210377986.5
申请日：2012-10-08
Applicant: LG电子株式会社
IPC: F04C18/02
CPC classification number: F04C29/12 , F04C18/0215 , F04C18/0269 , F04C23/008 , F04C29/06
Abstract: 一种涡旋式压缩机，可包括阻挡部，该阻挡部设于该涡旋式压缩机的固定部件中，并被设置成靠近在该压缩机的绕动涡盘中形成的排放孔。当排放操作开始时，该阻挡部可暂时地遮盖该排放孔，从而防止排放到排放空间中的制冷剂回流到压缩室，而不使用单独的止回阀。这种阻挡部可防止因止回阀通常会产生的噪音而使压缩机的整体噪音增大。这种阻挡部还可防止由于阀损坏而引起的压缩机可靠性的降低，并且避免了由于增设阀而增加润滑成本。
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公开(公告)号：CN103016341A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210355682.9
申请日：2012-09-21
Applicant: LG电子株式会社
IPC: F04C18/02
CPC classification number: F04C18/0215 , F04C18/0253 , F04C18/0269 , F04C18/0292 , F04C23/008 , F04C29/0057 , F04C29/023 , F04C2240/56
Abstract: 本发明涉及一种涡旋式压缩机。根据本发明，在转轴的偏心部与绕动涡旋盘的绕动涡卷沿径向叠置的轴贯穿式涡旋式压缩机中，当绕动涡旋盘与转轴之间的支承面积为A，绕动涡旋盘的端板面积为B时，A/B可形成为处于0.035-0.085的范围内，因此可以获得足够的体积比和索默菲德数，并减小压缩机的总体尺寸，由此减少压缩机中的摩擦损失和磨损。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101725528A
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200910208117.8
申请日：2009-10-28
Applicant: LG电子株式会社
IPC: F04C18/02
CPC classification number: F25B1/04 , F04C18/0215 , F04C23/008 , F04C29/026 , F04C29/028 , F25B31/004 , F25B43/02 , F25B2400/02 , F25B2500/16
Abstract: 本发明提供了一种封闭式压缩机及具有该封闭式压缩机的制冷循环系统，其中的封闭式压缩机包括：机壳，该机壳上连接有吸入管和排出管；安装于机壳内的驱动马达；压缩装置，其安装于机壳内并通过驱动马达运转以形成压缩室；油分离器，其从由压缩装置中排出的制冷剂中分离油；以及集油管，油分离器通过该集油管与压缩室连通。利用这种结构，能够将油基于其容量适当地供给到一个或多个压缩机，由此提高了油分配的可靠性并提高了压缩机的性能。
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公开(公告)号：CN100470057C
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200510084552.6
申请日：2005-07-26
Applicant: LG电子株式会社
CPC classification number: F04C18/0276 , F04C18/0215 , F04C28/125 , F04C2270/20
Abstract: 本发明公开了一种涡卷压缩机的阶梯型变容量装置，包括：绕动涡卷，其具有第一填充部，该第一填充部从卷体的外端部到卷体的内侧凸起成一固定高度形成；以及第二填充部，该第二填充部以一定长度从该卷体的外端在该第一填充部延伸而形成；固定涡卷，通过设置与该绕动涡卷的该第一填充部和该第二填充部相对应的阶梯型下卷体，与该绕动涡卷啮合；以及开/关组件，其用于开启和关闭由该绕动涡卷的第二填充部和该固定涡卷的阶梯型下卷体形成的通道。因此，制造成本降低，容量变化范围大大增加，并且便于操作。
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公开(公告)号：CN100412380C
公开(公告)日：2008-08-20
申请号：CN200510091554.8
申请日：2005-08-23
Applicant: LG电子株式会社
CPC classification number: F04C18/0269 , F04C18/0253 , F04C2250/101
Abstract: 本发明公开了一种涡卷压缩机的固定涡卷，该固定涡卷能够防止在压缩机内加热的气态制冷剂或含有在压缩单元内散布的大量油的气态制冷剂引入到压缩腔内。该固定涡卷包括：渐开线卷体，其设置在固定涡卷的下表面上；该卷体内限定的压缩腔；多个安装支架，其在该凸缘部的下表面上沿卷体设置；及拦截引导部，该拦截引导部设置成将被引导到凸缘部的下表面的吸入的气态制冷剂引导到卷体的末端，同时防止气态制冷剂在凸缘部的下表面的下方的安装支架之间循环，由此将制冷剂引入到压缩腔内。
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公开(公告)号：CN1815027A
公开(公告)日：2006-08-09
申请号：CN200510084552.6
申请日：2005-07-26
Applicant: LG电子株式会社
CPC classification number: F04C18/0276 , F04C18/0215 , F04C28/125 , F04C2270/20
Abstract: 本发明公开了一种涡卷压缩机的阶梯型变容量装置，包括：绕动涡卷，其具有第一填充部，该第一填充部从卷体的外端部到卷体的内侧凸起成一固定高度形成；以及第二填充部，该第二填充部以一定长度从该卷体的外端在该第一填充部延伸而形成；固定涡卷，通过设置与该绕动涡卷的该第一填充部和该第二填充部相对应的阶梯型下卷体，与该绕动涡卷啮合；以及开/关组件，其用于开启和关闭由该绕动涡卷的第二填充部和该固定涡卷的阶梯型下卷体形成的通道。因此，制造成本降低，容量变化范围大大增加，并且便于操作。
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公开(公告)号：CN1301923A
公开(公告)日：2001-07-04
申请号：CN00131087.9
申请日：2000-12-23
Applicant: LG电子株式会社
IPC: F04C18/02
CPC classification number: F04C18/0269
Abstract: 一种非对称涡旋压缩机,包括公转涡盘、十字环以及固定涡盘,与公转涡盘的卷状物相比,固定涡盘的卷状物沿渐开曲线延伸的方向在180°的范围内进一步延伸。公转涡盘卷状物的基圆中心的位置区域是:当沿一条把当前公转涡盘卷状物的基圆中心与其外端连接起来的直线测量时,该区域在圆周上处于当前公转涡盘卷状物延伸方向的30°和该卷状物卷绕方向的60°之间,而在径向上该区域处于公转涡盘卷状物的公转半径的0.1至0.5倍之间。
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