公开(公告)号：WO2008054400A3

公开(公告)日：2008-08-21

申请号：PCT/US2006043687

申请日：2006-11-08

Applicant: HEWLETT PACKARD DEVELOPMENT CO ,  STEWART DUNCAN ,  OHLBERG DOUGLAS A ,  WILLIAMS STANLEY R ,  KUEKES PHILIP J

Inventor： STEWART DUNCAN ,  OHLBERG DOUGLAS A ,  WILLIAMS STANLEY R ,  KUEKES PHILIP J

IPC: G11C13/02

CPC classification number: G11C13/0009 ,  G11C2213/55 ,  G11C2213/56 ,  G11C2213/77 ,  H01L45/04 ,  H01L45/085 ,  H01L45/1233 ,  H01L45/1266 ,  H01L45/14 ,  H01L45/142 ,  H01L45/143 ,  H01L45/146 ,  H01L51/0591

Abstract: A control layer (26, 26', 28, 28', 28") for use in a junction of a nanoscale electronic switching device (10) is disclosed. The control layer (26, 26', 28, 28', 28") includes a material that is chemically compatible with a connecting layer (16) and at least one electrode (12, 14) in the nanoscale switching device (10). The control layer (26, 26', 28, 28', 28") is adapted to control at least one of electrochemical reaction paths, electrophysical reaction paths, and combinations thereof during operation of the device (10).

Abstract translation: 本发明公开了一种用于纳米级电子开关装置（10）的接合处的控制层（26,26'，28,28'，28“），控制层（26,26'，28,28'，28” ）包括与纳米级开关装置（10）中的连接层（16）和至少一个电极（12,14）化学兼容的材料。 控制层（26,26'，28,28'，28“）适于在装置（10）的操作期间控制电化学反应路径，电物理反应路径及其组合中的至少一个。

公开(公告)号：WO2008048215A3

公开(公告)日：2008-07-24

申请号：PCT/US2006028299

申请日：2006-07-21

Applicant: HEWLETT PACKARD DEVELOPMENT CO ,  STEWART DUNCAN ,  WU WEI

Inventor： STEWART DUNCAN ,  WU WEI

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7035 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

Abstract: A contact lithography apparatus (100,220), system (200) and method (300) use a deformation (320) to facilitate pattern transfer (300). The apparatus (100,220), system (200) and method 300 include a spacer (120,226) that provides a spaced apart parallel and proximal orientation 310 of lithographic elements, such as a mask (110,228a,222) and a substrate (130,228b,224), when in mutual contact with the spacer (120,226). One or more of the mask (110,228a,222), the substrate (130,228b,224) and the spacer (120,226) is deformable, such that deformation (320) thereof facilitates the pattern transfer (300).

Abstract translation: 接触光刻设备（100,220），系统（200）和方法（300）使用变形（320）以便于图案转印（300）。 设备（100,220），系统（200）和方法300包括间隔物（120,226），其提供光刻元件的间隔开的平行和近端取向310，例如掩模（110,228a，222）和基底（130,228b， 224），当与间隔物（120,226）相互接触时。 掩模（110,228a，222），基板（130,228b，224）和间隔件（120,226）中的一个或多个可变形，使得其变形（320）有助于图案转印（300）。

公开(公告)号：WO2006135789A3

公开(公告)日：2008-03-13

申请号：PCT/US2006022563

申请日：2006-06-09

Applicant: HEWLETT PACKARD DEVELOPMENT CO ,  BEAUSOLEIL RAYMOND G ,  SPILLANE SEAN ,  KUEKES PHILLIP J ,  STEWART DUNCAN ,  ISLAM M SAIFUL

Inventor： BEAUSOLEIL RAYMOND G ,  SPILLANE SEAN ,  KUEKES PHILLIP J ,  STEWART DUNCAN ,  ISLAM M SAIFUL

IPC: H04L9/08 ,  H01S5/10 ,  H01S5/183 ,  H01S5/34

CPC classification number: G02B6/4202 ,  B82Y20/00 ,  G02B6/02314 ,  G02B6/02328 ,  G02B6/107 ,  G02B6/423 ,  H01S5/02284 ,  H01S5/026 ,  H01S5/1032 ,  H01S5/1042 ,  H01S5/105 ,  H01S5/183 ,  H01S5/341 ,  H01S5/3412 ,  H01S5/423 ,  Y10S977/951

Abstract: A device comprising a single photon generator (201) and a waveguide (203), wherein a single photon generated by the single photon generator is coupled to the waveguide (203).

Abstract translation: 一种包括单个光子发生器（201）和波导（203）的装置，其中由单个光子发生器产生的单个光子耦合到波导（203）。

公开(公告)号：WO2007120695A3

公开(公告)日：2007-12-27

申请号：PCT/US2007008915

申请日：2007-04-09

Applicant: HEWLETT PACKARD DEVELOPMENT CO ,  STEWART DUNCAN ,  WANG SHIH-YUAM ,  KUEKES PHILIP J ,  BRATKOVSKI ALEXANDRE

Inventor： STEWART DUNCAN ,  WANG SHIH-YUAM ,  KUEKES PHILIP J ,  BRATKOVSKI ALEXANDRE

IPC: H04N5/225 ,  G02B26/00 ,  H04N9/04

CPC classification number: H04N9/045 ,  G02B26/001 ,  H04N5/2254 ,  H04N9/3108

Abstract: Techniques for rich color image processing are disclosed. The techniques include using as array of tunable optical filter elements (304) to define pixels of an image. The tunable optical filter elements are adjusted during an image dwell time to control the color filtering of the individuals pixels. Exemplary embodiments for image capture (300) and projection (700) are illustrated.

Abstract translation: 公开了用于丰富彩色图像处理的技术。 该技术包括使用可调光学滤波器元件（304）的阵列来定义图像的像素。 可调光学滤波器元件在图像停留时间期间被调节以控制个体像素的滤色。 图示了图像捕捉（300）和投影（700）的示例性实施例。