公开(公告)号：WO1990004448A1

公开(公告)日：1990-05-03

申请号：PCT/JP1988001101

申请日：1988-10-28

Applicant: EBARA CORPORATION

Inventor： EBARA CORPORATION ,  ITO, Kanichi ,  MEAZAWA, Akihiko

IPC: B01D53/34

CPC classification number: B01D53/60 ,  B01D53/007 ,  B01D2259/812 ,  B01J19/081

Abstract: A method of and apparatus for treating waste gas by irradiation with electron beams wherein an electron beam irradiation chamber for irradiation with electron beams from an electron beam accelerator is provided in the vicinity of a main duct for waste gas; a part of the waste gas to be treated is introduced into the electron beam irradiation chamber where the waste gas is irradiated with electron beams to thereby form active species such as O and OH radiacals; the waste gas having the active species formed therein is fed int the waste gas main duct by means of a feeding device; the waste gas fed into the waste gas main duct is dispersed into and mixed with the waste gas flowing through the main duct by means of a dispersing device, thereby changing noxious (gas) ingredients in the waste gas into the form of a mist or dust by the action of the active species; and the mist or dust is captured by means of a capturing device, for example, a dust collector.

Abstract translation: 用于通过电子束照射处理废气的方法和装置，其中在用于废气的主管道附近设置有用于从电子束加速器照射电子束的电子束照射室; 待处理的废气的一部分被引入电子束照射室中，其中废气被电子束照射，从而形成活性物质如O和OH辐射; 其中形成有活性物质的废气通过进料装置在废气主管道内进料; 进入废气主管道的废气通过分散装置分散并流入主管道内的废气，从而将废气中的有害（气体）成分变成雾或灰尘的形式 通过活性物种的作用; 并且通过捕获装置，例如集尘器捕获雾或灰尘。

公开(公告)号：JP6022475B2

公开(公告)日：2016-11-09

申请号：JP2013544266

申请日：2012-11-13

Applicant: 国立研究開発法人科学技術振興機構

Inventor： 金子 達雄 ,  宮里 朗夫 ,  立山 誠治 ,  スヴァンナサラ プルエトチッカ ,  岡 佑季

IPC: C08G69/08 ,  C08G18/32 ,  C07C229/46 ,  C08G73/10

CPC classification number: C07C229/46 ,  B01J19/081 ,  C08G18/10 ,  C08G18/3821 ,  C08G18/73 ,  C08G18/7642 ,  C08G69/26 ,  C08G69/28 ,  C08G69/32 ,  C08G73/1003 ,  C08G73/1007 ,  C08G73/1067 ,  C08G73/1075 ,  C08G73/1078 ,  C08J11/10 ,  C08J11/14 ,  C07C2101/04 ,  C08J2377/06

公开(公告)号：JPS5735122B2

公开(公告)日：1982-07-27

申请号：JP9828374

申请日：1974-08-27

IPC: C01B3/02 ,  B01J19/08 ,  C01B3/06 ,  C01B7/09 ,  C01B13/02 ,  G21H5/00

CPC classification number: B01J19/081 ,  C01B3/068 ,  Y02E60/36

公开(公告)号：JP6291568B2

公开(公告)日：2018-03-14

申请号：JP2016515616

申请日：2014-03-31

Applicant: チョウ タイ フック ジュエリー カンパニー リミテッド

Inventor： フイ クーン チュン ,  チン ホ ,  コン チン トム

IPC: C30B33/00 ,  A44C27/00

CPC classification number: B01J19/081 ,  B41M3/14 ,  C30B29/04 ,  C30B29/16 ,  C30B29/20 ,  C30B29/34 ,  C30B33/04 ,  H01J37/00 ,  H01J37/317 ,  H01J2237/31713 ,  H01J2237/31737 ,  Y10T428/24355

公开(公告)号：JP2016521593A

公开(公告)日：2016-07-25

申请号：JP2016515616

申请日：2014-03-31

Applicant: チョウ タイ フック ジュエリー カンパニー リミテッド ,  チョウ タイ フック ジュエリー カンパニー リミテッド

Inventor： クーン チュン フイ ,  クーン チュン フイ ,  ホ チン ,  ホ チン ,  チン トム コン ,  チン トム コン

IPC: A44C27/00 ,  C30B33/00

CPC classification number: B01J19/081 ,  B41M3/14 ,  C30B29/04 ,  C30B29/16 ,  C30B29/20 ,  C30B29/34 ,  C30B33/04 ,  H01J37/00 ,  Y10T428/24355

Abstract: 固体材料の研磨ファセットの外面上に1又はそれ以上の突出部を形成する方法であって、固体材料の研磨ファセットの外面に向けて、上面材料を突出させるように集束不活性ガスイオンビームの局所的照射を適用するステップを含み、集束不活性ガスイオンビームから照射された照射集束不活性ガスイオンが、固体材料の研磨ファセットの外面を貫通し、照射集束不活性ガスイオンは、固体材料の固体結晶格子の膨張を引き起こして固体材料の研磨ファセットの外面上に突出部を形成するような圧力で、外面の下方の固体結晶格子内に膨張歪みを生じさせる、方法。【選択図】図1

Abstract translation: 向固体材料的抛光面的外表面的固体材料的抛光面的外表面上形成一个或多个突起的方法，局部聚焦惰性气体离子束，以便突出的顶部材料 照射包括应用聚焦照射聚焦从惰性气体离子束发射的惰性气体离子，穿透的固体材料的抛光面的外表面，所述照射聚焦惰性气体离子，所述固体材料的固体 在一个压力，从而形成在固体材料的抛光面的外表面上的晶格的突出部分引起膨胀，引起膨胀应变在固体晶格下面的外表面，该方法。 点域1

公开(公告)号：WO2015079050A1

公开(公告)日：2015-06-04

申请号：PCT/EP2014/076021

申请日：2014-11-28

Applicant: NANOMAKERS

Inventor： TENEGAL, François ,  REAU, Adrien

IPC: C09C1/30 ,  B01J19/12

CPC classification number: C01B33/029 ,  B01J4/001 ,  B01J4/002 ,  B01J4/004 ,  B01J12/005 ,  B01J13/04 ,  B01J19/081 ,  B01J19/24 ,  B01J2219/00139 ,  B01J2219/0875 ,  C01B32/956 ,  C01B33/027 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/64 ,  C01P2004/86 ,  C09C1/28 ,  C09C1/30 ,  C09C1/3045

Abstract: La présente invention concerne un procédé pour produire des particules (10), comprenant comme étapes: on introduit dans une chambre de réaction au moins un flux de réaction (1) comprenant un premier élément chimique (typiquement Silicium) et se propageant selon une direction de flux (11); on projette un faisceau de rayonnement (3) à travers la chambre de réaction en intersection avec chaque flux de réaction (1) dans une zone d'interaction (14) par flux de réaction, pour former dans chaque flux de réaction des cœurs de particules comprenant le premier élément chimique, et on introduit, dans la chambre de réaction, un deuxième élément chimique (par exemple Aluminium) interagissant avec chaque flux de réaction (1) pour recouvrir les cœurs de particules d'une couche comprenant le deuxième élément chimique. Chaque flux de réaction (1) est de préférence dénué d'agent oxydant le premier élément chimique.

Abstract translation: 本发明涉及一种生产颗粒（10）的方法，包括以下步骤：将包含第一化学元素（通常为硅）并沿流动方向（11）传播的至少一个反应流（1）引入反应室， ; 在反应流相互作用区域（14）中将射线束（3）投影通过反应室与每个反应流（1）相交，以在每个反应流中形成包括第一化学元素的粒子的核心，以及 在反应室中引入与每个反应流（1）相互作用的第二化学元素（例如铝），以便用包含第二化学元素的层覆盖颗粒的芯。 每个反应流（1）优选不含氧化第一化学元素的试剂

公开(公告)号：WO2014039425A1

公开(公告)日：2014-03-13

申请号：PCT/US2013/057796

申请日：2013-09-03

Applicant: MATHESON TRI-GAS, INC.

Inventor： MITCHELL, Glenn ,  SUBRAMANIAN, Ramkumar ,  WYSE, Carrie, L. ,  TORRES, Robert, Jr.

IPC: B01J4/00

CPC classification number: B01J19/087 ,  B01J19/081 ,  B01J19/088 ,  B01J19/123 ,  B01J19/125 ,  B01J19/126 ,  B01J19/127 ,  B01J19/128 ,  B01J19/129 ,  B01J2219/0883 ,  B01J2219/0892 ,  C01B31/00 ,  C01B32/00 ,  C01B32/80 ,  C23C16/4405 ,  H01L21/31116 ,  Y02C20/30 ,  Y02P70/605

Abstract: The molecular etcher carbonyl fluoride (COF2) or any of its variants, are provided for, according to the present invention, to increase the efficiency of etching and/or cleaning and/or removal of materials such as the unwanted film and/or deposits on the chamber walls and other components in a process chamber or substrate (collectively referred to herein as "materials"). The methods of the present invention involve igniting and sustaining a plasma, whether it is a remote or in-situ plasma, by stepwise addition of additives, such as but not limited to,. a saturated, unsaturated or partially unsaturated perfluorocarbon compound (PFC) having the general formula (CyFz) and/or an oxide of carbon (COx) to a nitrogen trifluoride (NF3) plasma into a chemical deposition chamber (CVD) chamber, thereby generating COF2.

Abstract translation: 根据本发明，提供分子蚀刻剂碳酰氟（COF 2）或其任何变体，以提高蚀刻和/或清洁和/或去除诸如不需要的膜和/或沉积物之类的材料的效率 处理室或基板（这里统称为“材料”）中的室壁和其它部件。 本发明的方法包括通过逐步添加添加剂（例如但不限于）来点燃和维持等离子体，无论其是远距离还是原位等离子体。 具有通式（CyFz）的饱和，不饱和或部分不饱和全氟化碳化合物（PFC）和/或与三氟化氮（NF 3）等离子体的碳（CO x）氧化物进入化学沉积室（CVD）室，从而产生COF 2 。

公开(公告)号：WO2010138629A2

公开(公告)日：2010-12-02

申请号：PCT/US2010/036250

申请日：2010-05-26

Applicant: INENTEC LLC ,  BATDORF, James ,  LAMAR, David ,  OLSON, Dieter

Inventor： BATDORF, James ,  LAMAR, David ,  OLSON, Dieter

IPC: C10J3/57

CPC classification number: C10J3/84 ,  B01J7/00 ,  B01J19/081 ,  B01J2219/0879 ,  B01J2219/0898 ,  C01B3/02 ,  C10J3/18 ,  C10J3/57 ,  C10J3/78 ,  C10J3/82 ,  C10J3/86 ,  C10J2200/09 ,  C10J2200/12 ,  C10J2300/1238 ,  C10J2300/1884 ,  F16J15/16 ,  F16J15/46 ,  F23G5/085 ,  F28D19/02 ,  Y02E20/12 ,  Y02P20/124

Abstract: The present invention is a vitrification and gasification system that operates at elevated pressures. The system includes a processing chamber having numerous penetrations, and seals for effectively sealing the penetrations to the processing chamber.

Abstract translation: 本发明是在升高的压力下运行的玻璃化和气化系统。 该系统包括具有许多穿透的处理室和用于有效地将穿透物密封到处理室的密封件。

公开(公告)号：WO2010138494A1

公开(公告)日：2010-12-02

申请号：PCT/US2010/036044

申请日：2010-05-25

Applicant: INENTEC LLC ,  BROMBERG, Leslie ,  COHN, Daniel ,  SURMA, Jeffrey ,  BATDORF, James ,  LAMAR, David

Inventor： BROMBERG, Leslie ,  COHN, Daniel ,  SURMA, Jeffrey ,  BATDORF, James ,  LAMAR, David

IPC: F02C1/00

CPC classification number: C10J3/84 ,  B01J7/00 ,  B01J19/081 ,  B01J2219/0879 ,  B01J2219/0898 ,  C01B3/02 ,  C10J3/18 ,  C10J3/57 ,  C10J3/78 ,  C10J3/82 ,  C10J3/86 ,  C10J2200/09 ,  C10J2200/12 ,  C10J2300/1238 ,  C10J2300/1884 ,  F16J15/16 ,  F16J15/46 ,  F23G5/085 ,  F28D19/02 ,  Y02E20/12 ,  Y02P20/124

Abstract: A rotating heat regenerator is used to recover heat from the syngas at it exits the reactor vessel of a waste or biomass gasifier. In some embodiments, three or more streams are passed through the heat exchanger. One stream is the dirty syngas, which heats the rotating material. A second stream is a cold stream that is heated as it passes through the material. A third stream is a cleaning stream, which serves to remove particulates that are collected on the rotating material as the dirty syngas passes through it. This apparatus can also be used as an auto-heat exchanger, or it can exchange heat between separate flows in the gasifier process. The apparatus can also be used to reduce the heating requirement for the thermal residence chamber (TRC) used downstream from the gasification system.

Abstract translation: 旋转式热交换器用于在合成气离开废物或生物质气化器的反应器容器时回收热量。 在一些实施例中，三个或更多个流通过热交换器。 一条流是脏合成气，其加热旋转的材料。 第二个流是冷流，当它通过材料时被加热。 第三流是清洁流，其用于在脏合成气通过其中时去除在旋转材料上收集的颗粒。 该装置也可以用作自动热交换器，或者它可以在气化器过程中的各个流之间进行热交换。 该装置还可用于减少从气化系统下游使用的热驻留室（TRC）的加热需求。

公开(公告)号：JP2015047260A

公开(公告)日：2015-03-16

申请号：JP2013180178

申请日：2013-08-30

Applicant: 株式会社日立製作所 ,  Hitachi Ltd

Inventor： OGASAWARA KOSUKE ,  NOMURA TAKUYA ,  NISHIUCHI HIDEAKI

IPC: A61N5/10

CPC classification number: A61N5/1077 ,  A61N5/1048 ,  A61N2005/1087 ,  A61N2005/1092 ,  B01J19/081 ,  B01J2219/0801

Abstract: 【課題】出射ビームエネルギーの変更制御とともに運転周期の更新、ビームの出射を短時間で実現する粒子線照射システムを提供する。【解決手段】シンクロトロン13を構成する機器の制御データを、初期加速制御データと、複数の出射制御データと、複数の出射制御データ間を接続する複数のエネルギー変更制御データを組み合わせるとともに、出射制御データ内に複数の出射制御データに対応した出射条件設定データと出射条件解除データを有するものとする。【選択図】図1

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种在短时间内实现操作周期和光束发射更新以及发射束能量变化控制的粒子束照射系统。解决方案：在配置同步加速器13的设备的控制数据中，初始加速度 控制数据，多个排放控制数据和用于连接多个排放控制数据的多个能量变化控制数据组合在一起。 在排放控制数据内设置与多个排放控制数据相对应的排放条件设定数据和排放条件抵消数据。