液压驱动在线机械加化学清洗装置的紫外线消毒模块排架

    公开(公告)号:CN107021542A

    公开(公告)日:2017-08-08

    申请号:CN201610634573.9

    申请日:2016-08-05

    CPC classification number: C02F1/325 C02F2201/3227 C02F2201/324

    Abstract: 本发明公开了一种液压驱动在线机械加化学清洗装置的紫外线消毒模块排架,包括相对布置的排架前支架和排架后支架,在所述排架前支架和排架后支架之间设置有紫外线灯管,所述紫外线灯管一端设置有灯头插座;所述排架前支架和排架后支架之间还设置有液压驱动器,其位于排架前支架和排架后支架上下方向的中心处,所述液压驱动器通过液压管与连接;所述液压驱动器上设置有清洗装置。本发明运行效果稳定,清洗效果明显,有效祛除结构物质,保证石英套管的透光率的效果;密封性能好,导管内液体不会因受压而喷洒;使用寿命延长,有效提高了整套设备的运行效率,降低了工人的劳动强度。

    一种具有液压驱动的在线自动机械加化学清洗系统

    公开(公告)号:CN105414117A

    公开(公告)日:2016-03-23

    申请号:CN201510822826.0

    申请日:2015-11-25

    CPC classification number: B08B9/023 C02F1/32 C02F2201/324

    Abstract: 本发明公开了一种具有液压驱动的在线自动机械加化学清洗系统,包括液压泵站、液压驱动装置、排架和清洗装置,所述排架包括排架前支架和排架后支架,排架前支架和排架后支架之间安装有紫外线灯管,在排架中间位置平行于紫外线灯管设有液压驱动装置,液压驱动装置上安装清洗装置,所述的液压驱动装置通过管道与液压泵站连接。本发明运行效果稳定,降低对套管、灯管的损坏;清洗效果明显,有效祛除结构物质,保证石英套管的透光率的效果;密封性能好,导管内液体不会因受压而喷洒;使用寿命延长,有效提高了整套设备的运行效率,降低了工人的劳动强度。

    具备水密功能的紫外线杀菌装置

    公开(公告)号:CN102405191B

    公开(公告)日:2014-01-15

    申请号:CN201080001961.4

    申请日:2010-06-18

    Abstract: 本发明涉及一种具备水密功能的紫外线杀菌装置,尤其涉及具备水密功能的紫外线杀菌装置,包括:紫外线杀菌部,其包括:主体,包括供压载水流入的流入部,及供从上述流入部流入的并被杀菌的压载水流出的流出部;紫外线灯,位于上述流入部和上述流出部之间并向压载水照射紫外线杀菌。上述紫外线杀菌装置,还包括固定支撑上述紫外线杀菌部两端的罩子,而上述罩子可密封地结合于上述主体,从而在上述紫外线杀菌部破损时,防止上述压载水流入罩子外部的机械装置容置空间,且通过防止爆炸性气体流入上述罩子内,避免上述紫外线杀菌装置因爆炸性气体发生爆炸。

    辐射源模块及流体处理系统

    公开(公告)号:CN103298549A

    公开(公告)日:2013-09-11

    申请号:CN201180060558.3

    申请日:2011-12-13

    Abstract: 描述了一种用于在流体处理系统中使用的辐射源模块。所述辐射源模块包括:壳体,所述壳体具有入口、出口和设置在其间的流体处理区。所述流体处理区包括由底板表面相互连接的第一壁表面和第二壁表面。所述第一壁表面、所述第二壁表面和所述底板表面配置为接收通过所述流体处理区的流体流。所述辐射源模块进一步包括至少一个辐射源组件和模块移动耦合元件,所述辐射源组件相对于所述第一壁表面和所述第二壁表面紧固,并且所述模块移动耦合元件连接至所述壳体并且配置为耦合至模块移动元件,从而准许所述辐射源模块被安装在所述流体处理系统中和从所述流体处理系统中抽出。还描述了包括所述辐射源模块的流体处理系统。

    辐射源模块和流体处理系统

    公开(公告)号:CN102369164B

    公开(公告)日:2013-07-31

    申请号:CN201080015584.X

    申请日:2010-04-06

    Abstract: 描述一种特别适合于流体(较佳的是水)流的辐射处理的流体处理系统。系统包括流体处理区域,用于接收与流体处理区域的表面接触的流体的流动。至少一个细长的辐射源组件被设置在流体处理区域中。该细长的辐射源组件具有纵轴,与流过所述流体处理区域的流体的方向横向地设置纵轴。系统进一步包括清洗设备,清洗设备具有与至少一个细长的辐射源组件的外表面接触的至少一个清洗构件。第一发动构件被设置并且能够被操作,以便在至少一个细长的辐射源组件的远端和流体处理区域的表面之间引起相对移动,从而在它们之间限定间隔。第二发动构件被设置并且被连接到清洗系统。第二发动构件能够被操作,以便在清洗设备缩回位置和清洗设备延伸位置之间移动清洗系统。清洗系统从清洗设备缩回位置到延伸位置的移动使得接触至少一个细长的辐射源组件的屑被推到间隔中。还描述在这种流体处理系统中进一步使用的辐射源模块。

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