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公开(公告)号：CN104641461B
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201380045369.8
申请日：2013-09-02
Applicant: 联达科技设备私人有限公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/68 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/681 , B25J11/0095 , B25J15/0616 , B25J15/0658 , B25J15/0666 , G01B11/27 , G01N21/9501 , G01N2201/025 , H01L21/67144 , H01L21/67706 , H01L21/6838 , H01L21/68757 , Y10T29/49826
Abstract: 一种多功能晶圆和膜片架操持系统包括晶圆台组件，其具有提供被构造为承载晶圆或膜片架的超平面晶圆台表面的晶圆台；以及下述中的至少一个：展平设备，其被构造为在与晶圆台表面垂直方向上将向下的力自动地施加到翘曲或非平面的晶圆的各部分；移位限制设备，其被构造为在所施加的负压停止并且经由晶圆台将正压施加到晶圆的下侧之后自动地约束或防止晶圆相对于晶圆台表面的非受控的横向运动；以及旋转错位补偿设备，其被构造为自动地补偿安装在膜片架上的晶圆的旋转错位。
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公开(公告)号：CN104781646A
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201380053910.X
申请日：2013-10-04
Applicant: 奥林巴斯株式会社
Inventor： 森本伸彦
CPC classification number: G01N1/04 , B32B41/00 , B32B43/006 , B32B2310/0831 , G01N1/08 , G01N1/312 , G01N21/6456 , G01N2201/025 , G02B21/365 , Y10T156/1158 , Y10T156/1179 , Y10T156/19 , Y10T156/1917 , Y10T156/1983
Abstract: 本发明提供一种基板回收装置(1)，其包括：载物台(3)，其使多个基板(2)朝向下方地载置有片(11)；提取部(4)，其在该载物台(3)的上方针对配置在预定的位置的一部分基板(2)进行预定的操作，由此使基板(2)自片(11)剥离并落下；观察部(5)和回收部(7)，其配置在载物台(3)的下方；以及移动机构(8)，其用于使观察部(5)和回收部(7)一体地沿水平方向移动；移动机构(8)能够将观察部(5)和回收部(7)定位在观察部(5)或回收部(7)配置于预定的位置的大致铅垂下方的两个位置。
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公开(公告)号：CN104736987A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201380054787.3
申请日：2013-10-18
Applicant: 皮卡罗股份有限公司
CPC classification number: G01M3/20 , G01N21/3504 , G01N33/0004 , G01N2201/025
Abstract: 提供了来自移动平台的改进的气体泄漏检测。可执行自动水平空间尺度分析，以将被测气体的泄漏与背景水平区分开。通过使用同位素比和/或化学示踪器来将被测气体的泄漏与其它源区分开，可提供源标识。与多点测量结果的空间分析相组合的多点测量可提供泄漏源距离估计。可单独地或以任何组合来实施这些方法。
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公开(公告)号：CN104620371A
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：CN201380045370.0
申请日：2013-09-02
Applicant: 联达科技设备私人有限公司
IPC: H01L21/683
CPC classification number: H01L21/681 , B25J11/0095 , B25J15/0616 , B25J15/0658 , B25J15/0666 , G01B11/27 , G01N21/9501 , G01N2201/025 , H01L21/67144 , H01L21/67706 , H01L21/6838 , H01L21/68757 , Y10T29/49826
Abstract: 一种晶圆台结构，其提供了适合于操持晶圆和膜片架的单个晶圆台表面，该晶圆台结构包括具有借助于形成在内基底托盘表面上或中的一组脊状物而形成在其中的一组隔室；布置在一组基底托盘隔室内的可硬化流体可渗透隔室材料；以及形成在基底托盘内表面中的一组开口，硬化隔室材料可通过该组开口暴露于负压或正压。基底托盘包括第一陶瓷材料(例如，瓷件)，并且可硬化隔室材料包括第二陶瓷材料。借助于标准加工处理同时加工基底托盘和隔室材料，从而使得以基本上相同的速率对基底托盘和隔室材料的暴露的外表面进行平面化，以形成具有高或超高平面性的晶圆台表面。
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公开(公告)号：CN104395739A
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201380010937.0
申请日：2013-02-28
Applicant: 智能应用有限公司
IPC: G01N21/954 , E04G23/00 , G03B37/00 , F23J99/00
CPC classification number: G01N21/954 , E04G23/008 , F23J13/00 , F23J99/00 , F23J2213/60 , G01C19/00 , G01N2201/023 , G01N2201/025 , G01N2201/062 , G03B37/005
Abstract: 本发明涉及一种用于垂直竖立结构的内侧壁的检查和修理模块，所述模块包括用于支持至少一个数据记录机构的载体并且被固定到起重机，以及涉及用于渠道的内壁的检查和修理模块，所述模块包括推进装置，所述推进装置包括一组驱动履带轮，所述驱动履带轮可以由所述载体运载的控制器来控制并且被配置为在渠道内提供纵向前进和倒退运动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104395739B
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201380010937.0
申请日：2013-02-28
Applicant: 智能应用有限公司
IPC: G01N21/954 , E04G23/00 , G03B37/00 , F23J99/00
CPC classification number: G01N21/954 , E04G23/008 , F23J13/00 , F23J99/00 , F23J2213/60 , G01C19/00 , G01N2201/023 , G01N2201/025 , G01N2201/062 , G03B37/005
Abstract: 本发明涉及一种用于垂直竖立结构的内侧壁的检查和修理模块，所述模块包括用于支持至少一个数据记录机构的载体并且被固定到起重机，以及涉及用于渠道的内壁的检查和修理模块，所述模块包括推进装置，所述推进装置包括一组驱动履带轮，所述驱动履带轮可以由所述载体运载的控制器来控制并且被配置为在渠道内提供纵向前进和倒退运动。
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公开(公告)号：CN104781646B
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201380053910.X
申请日：2013-10-04
Applicant: 奥林巴斯株式会社
Inventor： 森本伸彦
CPC classification number: G01N1/04 , B32B41/00 , B32B43/006 , B32B2310/0831 , G01N1/08 , G01N1/312 , G01N21/6456 , G01N2201/025 , G02B21/365 , Y10T156/1158 , Y10T156/1179 , Y10T156/19 , Y10T156/1917 , Y10T156/1983
Abstract: 本发明提供一种基板回收装置(1)，其包括：载物台(3)，其使多个基板(2)朝向下方地载置有片(11)；提取部(4)，其在该载物台(3)的上方针对配置在预定的位置的一部分基板(2)进行预定的操作，由此使基板(2)自片(11)剥离并落下；观察部(5)和回收部(7)，其配置在载物台(3)的下方；以及移动机构(8)，其用于使观察部(5)和回收部(7)一体地沿水平方向移动；移动机构(8)能够将观察部(5)和回收部(7)定位在观察部(5)或回收部(7)配置于预定的位置的大致铅垂下方的两个位置。
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公开(公告)号：CN103995000B
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201410205987.0
申请日：2014-05-15
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC: G01N21/88
CPC classification number: G01N21/01 , G01N21/8803 , G01N21/95 , G01N2021/9513 , G01N2201/025
Abstract: 本发明涉及显示基板检查技术领域，公开了一种显示基板的检查装置及检查系统，检查装置包括：支架；翻转机台，翻转机台包括：通过枢转轴枢装于支架的载台，载台具有贯穿其厚度方向的观察槽孔；安装于载台以将显示基板限位于观察槽孔范围内的定位夹具；与载台的枢转轴传动连接以驱动翻转机台绕载台的枢转轴旋转的第一驱动装置。使用上述检查装置对显示基板的外观进行检查时，可以通过翻转机台的翻转实现对显示基板的全方位检查，且能够避免检查者与显示基板之间的接触，减小显示基板外观检查时受到的损伤，进而减小外观检查对显示基板造成的不良。
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公开(公告)号：CN105556281A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201480051851.7
申请日：2014-09-24
Applicant: 西门子公司
IPC: G01N21/05
CPC classification number: G01N21/05 , G01N21/11 , G01N21/255 , G01N21/31 , G01N2021/115 , G01N2201/025 , G01N2201/068
Abstract: 本发明涉及一种用于光谱仪系统的通流设备(1)，其具有能够与光谱仪(4)光学耦连的第一光学元件(2)和能够与光源光学耦连(5)的第二光学元件(3)，它们在可由流体(8)通流的测量间隙(6)的区域中相互间隔地布置，在该测量间隙的区域中从第二光学元件(3)发出的并且到达第一光学元件(2)的光束(7)能够至少部分地被吸收，其中通过改变两个光学元件(2,3)的间距(10)可以影响通过测量间隙(6)的流体(8)的流量，使得光谱仪系统能够用于多种不同的样本。本发明还涉及一种用于运行这种通流设备(1)的方法。
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公开(公告)号：CN104950116A
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201510132593.1
申请日：2015-03-25
Applicant: 希森美康株式会社
IPC: G01N35/00 , G01N33/553
CPC classification number: G01N21/13 , G01N21/6428 , G01N21/75 , G01N35/0098 , G01N35/025 , G01N35/04 , G01N2021/135 , G01N2035/0406 , G01N2035/041 , G01N2035/103 , G01N2201/022 , G01N2201/025
Abstract: 本发明提供一种能够使装置小型化，缩小放置面积的分析装置。此分析装置100具有：包含相邻的第一侧面1a和第二侧面1b的机壳1；设于机壳1内部的圆环形的试剂安放部件3；在试剂安放部件3周围沿机壳1的第一侧面1a设置的、用于运送反应杯C的第一反应杯运送部件4；在试剂安放部件3周围沿机壳1的第二侧面1b设置的、用于运送反应杯C的第二反应杯运送部件5；以及数个处理单元2，其中，数个处理单元2分别沿第一侧面1a延伸的方向和第二侧面1b延伸的方向中的其中之一配置，接受第一反应杯运送部件4或第二反应杯运送部件5运送的反应杯C，对所接受的反应杯C中所收纳的试样进行一定处理。本发明还提供一种免疫测定方法。
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