積層體及光學薄膜
    333.
    发明专利
    積層體及光學薄膜 审中-公开
    积层体及光学薄膜

    公开(公告)号:TW201545876A

    公开(公告)日:2015-12-16

    申请号:TW104114529

    申请日:2015-05-07

    Abstract: 本發明提供一種積層體,其特徵為:在基材表面具有使用含有具羧基之水性樹脂(A)、具磺酸基之水性樹脂(B)及二氧化矽(C)之水性樹脂組成物所形成的底塗層,該底塗層表面具有使用活性能量射線硬化性組成物所形成的硬化塗膜。本發明之積層體,由於作為提高基材與活性能量射線硬化性組成物之硬化塗膜的密著性的底塗層係使用保存安定性、塗膜之透明性優異的水性樹脂組成物,因此,即使為如聚酯薄膜之難以接著的基材,亦可作成在該表面形成活性能量射線硬化性組成物之硬化塗膜的積層體,而可適當地作為光學薄膜使用。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种积层体,其特征为:在基材表面具有使用含有具羧基之水性树脂(A)、具磺酸基之水性树脂(B)及二氧化硅(C)之水性树脂组成物所形成的底涂层,该底涂层表面具有使用活性能量射线硬化性组成物所形成的硬化涂膜。本发明之积层体,由于作为提高基材与活性能量射线硬化性组成物之硬化涂膜的密着性的底涂层系使用保存安定性、涂膜之透明性优异的水性树脂组成物,因此,即使为如聚酯薄膜之难以接着的基材,亦可作成在该表面形成活性能量射线硬化性组成物之硬化涂膜的积层体,而可适当地作为光学薄膜使用。

    分散組成物及其製造方法、使用其的硬化性組成物、透明膜、微透鏡及固體攝影元件、以及高分子化合物
    334.
    发明专利
    分散組成物及其製造方法、使用其的硬化性組成物、透明膜、微透鏡及固體攝影元件、以及高分子化合物 审中-公开
    分散组成物及其制造方法、使用其的硬化性组成物、透明膜、微透镜及固体摄影组件、以及高分子化合物

    公开(公告)号:TW201420619A

    公开(公告)日:2014-06-01

    申请号:TW102131274

    申请日:2013-08-30

    Abstract: 本發明提供一種折射率高、塗佈後的膜面的面狀優異的分散組成物,使用其的硬化性組成物,透明膜,微透鏡及固體攝影元件。另外,本發明提供一種化合物,該化合物可提供塗佈及乾燥後的膜面的面狀優異、折射率高的分散組成物,且可維持粒子的分散穩定性。本發明的分散組成物包括:一次粒徑為1 nm~100 nm的金屬氧化物粒子(A)、重量平均分子量為10000以下的由下述通式(1)所表示的高分子化合物(B)、以及溶劑(C)。 上述通式(1)中,R1表示(m+n)價的連結基,R2表示單鍵或二價的連結基。A1表示含有至少1種選自由酸基、脲基、胺基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基、具有鹼性氮原子的基、酚基、烷基、芳基、具有伸烷氧基鏈的基、醯亞胺基、烷氧基羰基、烷基胺基羰基、羧酸鹽基、磺醯胺基、雜環基、烷氧基矽烷基、環氧基、異氰酸酯基及羥基所組成的群組中的基的一價的取代基。n個A1及R2分別可相同,亦可不同。m為8以下的正數,n表示1~9,m+n滿足3~10。P1表示聚合物鏈。m個P1可相同,亦可不同。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种折射率高、涂布后的膜面的面状优异的分散组成物,使用其的硬化性组成物,透明膜,微透镜及固体摄影组件。另外,本发明提供一种化合物,该化合物可提供涂布及干燥后的膜面的面状优异、折射率高的分散组成物,且可维持粒子的分散稳定性。本发明的分散组成物包括:一次粒径为1 nm~100 nm的金属氧化物粒子(A)、重量平均分子量为10000以下的由下述通式(1)所表示的高分子化合物(B)、以及溶剂(C)。 上述通式(1)中,R1表示(m+n)价的链接基,R2表示单键或二价的链接基。A1表示含有至少1种选自由酸基、脲基、胺基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基、具有碱性氮原子的基、酚基、烷基、芳基、具有伸烷氧基链的基、酰亚胺基、烷氧基羰基、烷基胺基羰基、羧酸盐基、磺酰胺基、杂环基、烷氧基硅烷基、环氧基、异氰酸酯基及羟基所组成的群组中的基的一价的取代基。n个A1及R2分别可相同,亦可不同。m为8以下的正数,n表示1~9,m+n满足3~10。P1表示聚合物链。m个P1可相同,亦可不同。

Patent Agency Ranking