公开(公告)号：TW201418341A

公开(公告)日：2014-05-16

申请号：TW102131165

申请日：2013-08-30

Applicant: 富士軟片股份有限公司 ,  FUJIFILM CORPORATION

Inventor： 荒山恭平 ,  ARAYAMA, KYOUHEI ,  出井宏明 ,  IDEI, HIROAKI ,  久保田誠 ,  KUBOTA, MAKOTO ,  高桑英希 ,  TAKAKUWA, HIDEKI

IPC: C08K3/22 ,  C08F20/00 ,  C08F2/44 ,  G03F7/027 ,  G02B1/04

CPC classification number: C08L63/00 ,  C08G65/18 ,  C08K3/22 ,  C08K2003/2241 ,  C08K2201/003 ,  C08L35/02 ,  C08L81/02 ,  C09D4/00 ,  C09D5/00 ,  C09D5/028 ,  C09D7/61 ,  C09D7/67 ,  C09D163/04 ,  C09D201/08 ,  G02B1/04 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/027 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  G03F7/038 ,  G03F7/11 ,  C08L101/08

Abstract: 本發明提供一種折射率高、分散穩定性高的分散組成物，使用其的硬化性組成物，透明膜，微透鏡及固體攝影元件。本發明的分散組成物包括：一次粒徑為1nm~100nm的金屬氧化物粒子(A)、酸值為120mgKOH/g以上的由下述通式(1)所表示的高分子化合物(B)、以及溶劑(C)。 上述通式(1)中，R1表示(m+n)價的連結基，R2表示單鍵或二價的連結基。A1表示含有至少1種選自由酸基、脲基、胺基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基、具有鹼性氮原子的基、酚基、烷基、芳基、具有伸烷氧基鏈的基、醯亞胺基、烷氧基羰基、烷基胺基羰基、羧酸鹽基、磺醯胺基、雜環基、烷氧基矽烷基、環氧基、異氰酸酯基及羥基所組成的群組中的基的一價的取代基。n個A1及R2分別可相同，亦可不同。m為8以下的正數，n表示1~9，m+n滿足3~10。P1表示聚合物鏈。m個P1可相同，亦可不同。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种折射率高、分散稳定性高的分散组成物，使用其的硬化性组成物，透明膜，微透镜及固体摄影组件。本发明的分散组成物包括：一次粒径为1nm~100nm的金属氧化物粒子(A)、酸值为120mgKOH/g以上的由下述通式(1)所表示的高分子化合物(B)、以及溶剂(C)。 上述通式(1)中，R1表示(m+n)价的链接基，R2表示单键或二价的链接基。A1表示含有至少1种选自由酸基、脲基、胺基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基、具有碱性氮原子的基、酚基、烷基、芳基、具有伸烷氧基链的基、酰亚胺基、烷氧基羰基、烷基胺基羰基、羧酸盐基、磺酰胺基、杂环基、烷氧基硅烷基、环氧基、异氰酸酯基及羟基所组成的群组中的基的一价的取代基。n个A1及R2分别可相同，亦可不同。m为8以下的正数，n表示1~9，m+n满足3~10。P1表示聚合物链。m个P1可相同，亦可不同。

公开(公告)号：TWI405037B

公开(公告)日：2013-08-11

申请号：TW097109645

申请日：2008-03-19

Applicant: JSR股份有限公司 ,  JSR CORPORATION

Inventor： 伊藤由樹子 ,  ITO, YUKIKO ,  一戶大吾 ,  ICHINOHE, DAIGO ,  梶田徹 ,  KAJITA, TORU

IPC: G03F7/027 ,  G02F1/1333

CPC classification number: C09D201/08

公开(公告)号：TW201331284A

公开(公告)日：2013-08-01

申请号：TW101137458

申请日：2012-10-11

Applicant: 日產化學工業股份有限公司 ,  NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

Inventor： 畑中真 ,  HATANAKA, TADASHI ,  石田智久 ,  ISHIDA, TOMOHISA ,  湯川昇志郎 ,  YUKAWA, SHOJIRO

IPC: C08L101/02 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1337

CPC classification number: G02B5/3083 ,  C08F120/04 ,  C08F120/28 ,  C08J7/047 ,  C08J2301/12 ,  C08J2400/105 ,  C08J2400/106 ,  C08K5/05 ,  C08K5/23 ,  C08L101/02 ,  C09D7/65 ,  C09D201/025 ,  C09D201/08 ,  G02B1/08 ,  G02B5/3016 ,  G02F1/133528

Abstract: 本發明之課題為，提供形成備有優良之光反應效率與耐溶劑性與高密合性之硬化膜用之硬化膜形成組成物、光配向用之配向材料及使用該配向材料所形成之位相差材料。解決方法為，硬化膜形成組成物含有(A)具有光配向性基，與由羥基、羧基及胺基中所選出之任何一取代基之化合物，與(B)具有由羥基、羧基及胺基中所選出之1種或2種以上之取代基之親水性聚合物，以及(C)與(A)成分及(B)成分反應，且以低於(A)成分之昇華溫度之溫度反應之交聯劑，但(B)成分為丙烯酸聚合物時可另含有(E)密合提升成分。(C)成分之交聯劑具有優於(A)成分之親水性。使用該硬化膜形成組成物形成硬化膜後，利用光配向技術形成配向材料(10)。將聚合性液晶塗佈於配向材料(10)上方，硬化後得位相差材料。

Abstract in simplified Chinese: 本发明之课题为，提供形成备有优良之光反应效率与耐溶剂性与高密合性之硬化膜用之硬化膜形成组成物、光配向用之配向材料及使用该配向材料所形成之位相差材料。解决方法为，硬化膜形成组成物含有(A)具有光配向性基，与由羟基、羧基及胺基中所选出之任何一取代基之化合物，与(B)具有由羟基、羧基及胺基中所选出之1种或2种以上之取代基之亲水性聚合物，以及(C)与(A)成分及(B)成分反应，且以低于(A)成分之升华温度之温度反应之交联剂，但(B)成分为丙烯酸聚合物时可另含有(E)密合提升成分。(C)成分之交联剂具有优于(A)成分之亲水性。使用该硬化膜形成组成物形成硬化膜后，利用光配向技术形成配向材料(10)。将聚合性液晶涂布于配向材料(10)上方，硬化后得位相差材料。

公开(公告)号：TW330944B

公开(公告)日：1998-05-01

申请号：TW084112366

申请日：1995-11-21

Applicant: 日產化學工業股份有限公司

Inventor： 三宅智 ,  日高基彥 ,  毛呂健夫 ,  池田久男

IPC: C09D

CPC classification number: C09D167/00 ,  C08L63/06 ,  C09D133/064 ,  C09D163/06 ,  C09D201/08 ,  C08L2666/02 ,  C08L2666/14 ,  C08L2666/28 ,  C08L2666/36 ,  C08L2666/18

Abstract: 供粉末塗覆用之樹脂組合物，其包含下列組份（Ａ），（Ｂ）及（Ｃ）；
（Ａ）具有１，０００至２０，０００之數量平均分子量，５至２００之酸值及３０至１２０℃之玻璃轉變溫度之含羧基團之樹脂；
（Ｂ）式（１）之異氰尿酸參（β－甲基縮水甘油酯）：
CC (1);and
（Ｃ）作為開環聚合作用抑制劑之由在分子中具有式（２）鍵之胺中所擇定之至少一種化合物：
CC (2)，及。

Abstract in simplified Chinese: 供粉末涂覆用之树脂组合物，其包含下列组份（Ａ），（Ｂ）及（Ｃ）； （Ａ）具有１，０００至２０，０００之数量平均分子量，５至２００之酸值及３０至１２０℃之玻璃转变温度之含羧基团之树脂； （Ｂ）式（１）之异氰尿酸参（β－甲基缩水甘油酯）： CC (1);and （Ｃ）作为开环聚合作用抑制剂之由在分子中具有式（２）键之胺中所择定之至少一种化合物： CC (2)，及。