降低得自氧氣安德盧梭(ANDRUSSOW)法之氰化氫中的有機腈雜質含量
    353.
    发明专利
    降低得自氧氣安德盧梭(ANDRUSSOW)法之氰化氫中的有機腈雜質含量 失效
    降低得自氧气安德卢梭(ANDRUSSOW)法之氰化氢中的有机腈杂质含量

    公开(公告)号:TW201431788A

    公开(公告)日:2014-08-16

    申请号:TW102145766

    申请日:2013-12-12

    CPC classification number: C01C3/0212

    Abstract: 本發明提供在氧及氨存在下經鉑觸媒自諸如天然氣等含甲烷原料產生氰化氫之氧氣安德盧梭(Andrussow)法,其中諸如丙烯腈等副產物有機腈雜質之產生減少。已發現與空氣安德盧梭法相比,在該氧氣安德盧梭法中限制該甲烷原料中之C2+烴之含量減少諸如丙烯腈等有機腈之形成。該等有機腈雜質可能需要額外處理來去除,造成裝備結垢,且亦可能導致氰化氫聚合。該甲烷中之C2+烴含量降低至小於2 wt%或1 wt%或小於0.1 wt%可提供較高純度HCN之經改良產率。當反應進料中存在較高C2+烴含量時,降低C2+烴含量亦解決處理裝備中之聚合物聚集之問題,從而縮短清潔所需之停機時間。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明提供在氧及氨存在下经铂触媒自诸如天然气等含甲烷原料产生氰化氢之氧气安德卢梭(Andrussow)法,其中诸如丙烯腈等副产物有机腈杂质之产生减少。已发现与空气安德卢梭法相比,在该氧气安德卢梭法中限制该甲烷原料中之C2+烃之含量减少诸如丙烯腈等有机腈之形成。该等有机腈杂质可能需要额外处理来去除,造成装备结垢,且亦可能导致氰化氢聚合。该甲烷中之C2+烃含量降低至小于2 wt%或1 wt%或小于0.1 wt%可提供较高纯度HCN之经改良产率。当反应进料中存在较高C2+烃含量时,降低C2+烃含量亦解决处理装备中之聚合物聚集之问题,从而缩短清洁所需之停机时间。

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