Abstract:
내환경성, 유동성 및 대전성이 우수한 정전하상 현상용 토너 입자가 제공된다. 상기 토너 입자는 결착 수지, 이형제 및 착색제를 포함하는 토너 입자로서, 하기 식 (1)을 만족한다: 8.5 ≤ SMF ≤ 10.5 (1) 상기 식에서 SMF (Surface Morphology Factor; 표면 형상 인자)는 하기 식 (2)로 나타낼 수 있다: SMF= -log (4/3 × π× D 3 × RD × B × C) [m 2 /ea]
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전방향족 액정 폴리에스테르 아미드 수지의 제조방법 및 전방향족 액정 폴리에스테르 아미드 수지 컴파운드의 제조방법이 개시된다. 개시된 전방향족 액정 폴리에스테르 아미드 수지의 제조방법은 수산기와 아세틸아미노기를 모두 갖는 단량체를 사용하거나, 또는 수산기를 갖는 단량체와 아세틸아미노기를 갖는 다른 단량체를 사용한다. 또한 개시된 전방향족 액정 폴리에스테르 아미드 수지 컴파운드의 제조방법은 상기 방법에 의해 제조된 전방향족 액정 폴리에스테르 아미드 수지를 사용한다.
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방향족 액정 폴리에스테르 수지의 제조방법 및 방향족 액정 폴리에스테르 수지 컴파운드의 제조방법이 개시된다. 개시된 방향족 액정 폴리에스테르 수지의 제조방법은 아미노기를 갖는 제1 단량체를 카르복실산 무수물과 반응시켜 아세틸화하는 단계, 수산기를 갖되 아미노기를 포함하지 않는 제2 단량체를 추가 카르복실산 무수물과 반응시켜 아세틸화하는 단계 및 상기 아세틸화된 제1 단량체, 상기 아세틸화된 2 단량체 및 디카르복실산을 중축합 반응시켜 방향족 액정 폴리에스테르 프리폴리머를 합성하는 단계를 포함한다. 또한 개시된 방향족 액정 폴리에스테르 수지 컴파운드의 제조방법은 상기 방법에 의해 제조된 방향족 액정 폴리에스테르 수지를 사용한다.
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리튬 망간 산화물의 제조방법이 개시된다. 개시된 리튬 망간 산화물의 제조방법은 리튬 및 망간을 포함하는 반응원료를 반응기에 주입하여 상기 반응기내에서 분자 수준으로 혼합(mixing at the molecular level)하는 단계 및 상기 반응기 내에서 상기 반응원료를 화학반응(chemical reaction)시켜 결정핵을 생성(nucleating)하는 단계를 포함한다.
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유기용제에 불용성인 수지를 이용한 토너 및 그의 제조방법이 개시된다. 개시된 유기용제에 불용성인 수지를 이용한 토너의 제조방법은, (a) 유기용제에 불용성인 수지를 건식 분쇄하여 미세입자를 형성하거나, 또는 상기 불용성 수지를 유기용제에 습식 분산하여 미세현탁액을 형성하는 단계, (b) 산기를 가지는 수지, 착색제, 및 적어도 하나의 첨가제를 유기용제에 혼합한 후 용해시켜 토너 혼합액을 형성하는 단계, (c) 상기 불용성 수지 미세 입자 또는 미세현탁액을 상기 토너 혼합액에 첨가하여 불용성 수지-토너 혼합액을 형성하는 단계, (d) 상기 불용성 수지-토너 혼합액을 분산매내에 첨가하여 토너 미세현탁액을 형성하는 단계, 및 (e) 상기 형성된 토너 미세현탁액으로부터 유기용제를 제거하여 토너 조성물을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 불용성 수지가 가교화 폴리에스테르 수유기용제에 불용성인 수지를 이용한 토너 및 그의 제조방법지 또는 시클로올레핀 공중합체이며, 상기 불용성 수지:산기를 가지는 수지의 함량이 중량부 기준으로 5:95 내지 40:60인 것을 특징으로 한다. 따라서, 유기용제에 불용성인 수지를 이용한 토너의 제조방법은 토너의정착 온도 범위를 증가시켜 핫 오프셋(hot offset)을 방지할 수 있으며, 토너의 고온 보관성을 향상시키고 주위 환경변화에 따른 대전 안정성을 향상시킬 수 있다. 또한, 개시된 토너는 전자사진용 화상형성장치에 채용될 수 있다.