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公开(公告)号：CN107735248A
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：CN201680028775.7
申请日：2016-03-17
Applicant: 得克萨斯州A&M大学系统 , M·阿克布卢特 , C·耶金 , N·K·纳加班迪 , B·泰佩
IPC: B32B9/00 , H01L23/373 , B82Y30/00
CPC classification number: C25D15/00 , B32B9/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C09K5/14 , C25D3/38 , C25D7/00 , F28F13/00 , F28F2013/001 , H01L23/3731 , H01L23/3733 , H01L23/3736 , H01L23/42 , H01L24/27 , H01L24/29 , H01L24/32 , H01L2224/27462 , H01L2224/29209 , H01L2224/29239 , H01L2224/29247 , H01L2224/29386 , H01L2224/2939 , H01L2224/32245 , H01L2924/1432 , H05K7/2039 , Y10S977/755 , Y10S977/778 , Y10S977/90 , Y10S977/932
Abstract: 散热效率低限制了电子器件的性能；热界面材料(TIM)可用于电子器件以更有效且高效地散热；使用官能化的氮化硼纳米片(BNNS)制备纳米复合材料；在金属基质中掺入软配体官能化的BNNS用于纳米制造动力学捕获的纳米复合材料TIM。
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公开(公告)号：CN107635549A
公开(公告)日：2018-01-26
申请号：CN201680030862.6
申请日：2016-03-18
IPC: A61K31/10 , A61K31/445 , A61K31/473
CPC classification number: A61K31/445 , A61K9/0056 , A61K31/192 , A61K31/196 , A61K31/407 , A61K31/4545 , A61K31/495 , A61K31/60 , A61K31/603 , A61K45/06 , A61K2300/00
Abstract: 本发明涉及减少或预防与酒精摄入相关的症状的方法。所述方法包括在酒精摄入之前向对象施用有效量的药物组合物。所述药物组合物包含非甾体消炎药和H1-抗组胺剂。
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公开(公告)号：CN104513978B
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201410498335.0
申请日：2014-09-25
Applicant: 株式会社茨城技研 , 株式会社M&M研究所
CPC classification number: B05C9/12 , C23C24/087 , C23C24/106
Abstract: 本发明提供在容易形成氧化覆膜、钝化膜的母材金属上即使在进行金等贵金属电镀的情况下也能够以低成本形成密接性优越的电镀层的金属覆膜形成法、以及金属覆膜形成产品的制造方法与制造装置。金属覆膜形成法包括：表面活化工序，向母材金属的表面照射激光束而对母材金属进行表面活化；贵金属纳米粒子分散液涂覆工序，对母材金属的表面涂覆使贵金属纳米粒子分散于溶剂中的贵金属纳米粒子分散液；以及贵金属纳米粒子烧结工序，向涂覆于母材金属的表面的贵金属纳米粒子分散液照射激光束而对贵金属纳米粒子进行烧结。另外，在同一生产线上进行对母材金属进行冲压加工的连续冲压工序、对母材金属的表面进行贵金属电镀的金属覆膜形成工序。
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公开(公告)号：CN104513978A
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201410498335.0
申请日：2014-09-25
Applicant: 株式会社茨城技研 , 株式会社M&M研究所
CPC classification number: B05C9/12 , C23C24/087 , C23C24/106 , C23C24/08 , B23P15/00
Abstract: 本发明提供在容易形成氧化覆膜、钝化膜的母材金属上即使在进行金等贵金属电镀的情况下也能够以低成本形成密接性优越的电镀层的金属覆膜形成法、以及金属覆膜形成产品的制造方法与制造装置。金属覆膜形成法包括：表面活化工序，向母材金属的表面照射激光束而对母材金属进行表面活化；贵金属纳米粒子分散液涂覆工序，对母材金属的表面涂覆使贵金属纳米粒子分散于溶剂中的贵金属纳米粒子分散液；以及贵金属纳米粒子烧结工序，向涂覆于母材金属的表面的贵金属纳米粒子分散液照射激光束而对贵金属纳米粒子进行烧结。另外，在同一生产线上进行对母材金属进行冲压加工的连续冲压工序、对母材金属的表面进行贵金属电镀的金属覆膜形成工序。
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公开(公告)号：CN101951839B
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN200980102889.1
申请日：2009-01-23
CPC classification number: G06T7/0012 , A61B8/0833 , A61B8/481 , A61B8/543 , G06T2200/04 , G06T2207/10016 , G06T2207/10132 , G06T2207/20104 , G06T2207/30096
Abstract: 描述了用于借助于造影剂成像的对诸如病变、肿瘤和转移的病状的治疗进展进行监测的超声成像装置和方法。当一团造影剂注入包含所述病状的组织时采集图像序列。为肿瘤和正常组织计算造影剂洗入时间参数，并且计算两个洗入时间参数(称为WITR)的比率，其移除了从一个治疗监测会话到另一个治疗监测会话的过程中变化的影响。还生成病状和正常组织的时间强度曲线的差异曲线，其同样不受过程变化的影响。通过检测图像序列的每幅图像中诸如横膈膜的标记位置、并且放弃对在标记位置相对于探头呈现变化的那些进行处理，可以将呼吸的运动影响计入考虑。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102506023B
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：CN201110349032.9
申请日：2003-06-02
Applicant: M&M技术公司
Inventor： 詹姆士·B·克拉森
Abstract: 本发明公开了一种泵，包括：壳体；驱动转子，其被支撑以在所述壳体内转动，所述驱动转子具有多个齿，所述多个齿中的每一个具有前凸面和后沿面；和多个从动转子，其联接到所述驱动转子并且被支撑以在所述壳体内转动，所述多个从动转子中的每一个具有入口和出口以及多个齿，所述多个齿中的每一个具有前沿面和后平面；其中，所述驱动转子和所述多个从动转子在所述壳体中设置成使得：当所述驱动转子和所述多个从动转子转动时，所述驱动转子的所述多个齿和所述从动转子的所述相应的多个齿彼此相互接合以在每个从动转子的入口和出口之间形成密封，所述密封只形成在所述驱动转子的齿的前凸面和所述从动转子的齿的后平面之间。
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公开(公告)号：CN102245732A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：CN200980151294.5
申请日：2009-10-13
Applicant: M-I有限公司 , M-I钻井液英国有限公司
IPC: C09K8/04
Abstract: 本发明公开在高温-高压条件下保持无铬含水基井眼流体的流变并减少流体损失的方法。所述方法可包括用含水基础流体、至少一种无铬增粘剂、至少一种无铬流体损失控制添加剂、至少一种无铬分散剂配制无铬含水井眼流体；并使该无铬含水基井眼流体在井眼中在超过300℉的温度循环。
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公开(公告)号：CN101969857A
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200980102906.1
申请日：2009-01-23
CPC classification number: G06T7/0012 , A61B8/0833 , A61B8/481 , A61B8/543 , G06T2200/04 , G06T2207/10016 , G06T2207/10132 , G06T2207/20104 , G06T2207/30096
Abstract: 描述了一种用于借助造影剂成像来监控对病理的治疗进展的超声成像设备和方法，该病理诸如是病变、肿瘤和转移。当造影剂丸剂灌注包含病理的组织时，采集图像序列。针对肿瘤和正常组织两者来计算造影剂洗入时间参数，并且计算两个洗入时间参数的比率(称为WITR)，其消除了在过程中从一个治疗监控期到另一个的变化的影响。也产生病理和正常组织的时间-强度曲线的差分曲线，该差分曲线也类似地不受过程变化的影响。呼吸的运动影响可以这样被考虑在内：通过探测在序列的每个图像中例如横膈膜的标记的位置，并且在处理时将那些显示标记相对于探头的位置发生改变的图像丢弃。
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公开(公告)号：CN101951839A
公开(公告)日：2011-01-19
申请号：CN200980102889.1
申请日：2009-01-23
CPC classification number: G06T7/0012 , A61B8/0833 , A61B8/481 , A61B8/543 , G06T2200/04 , G06T2207/10016 , G06T2207/10132 , G06T2207/20104 , G06T2207/30096
Abstract: 描述了用于借助于造影剂成像的对诸如病变、肿瘤和转移的病状的治疗进展进行监测的超声成像装置和方法。当一团造影剂注入包含所述病状的组织时采集图像序列。为肿瘤和正常组织计算造影剂洗入时间参数，并且计算两个洗入时间参数(称为WITR)的比率，其移除了从一个治疗监测会话到另一个治疗监测会话的过程中变化的影响。还生成病状和正常组织的时间强度曲线的差异曲线，其同样不受过程变化的影响。通过检测图像序列的每幅图像中诸如横膈膜的标记位置、并且放弃对在标记位置相对于探头呈现变化的那些进行处理，可以将呼吸的运动影响计入考虑。
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公开(公告)号：CN101924118A
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN200910221640.4
申请日：2009-11-11
IPC: H01L27/24 , H01L29/423 , H01L21/82 , H01L21/28 , G11C11/56
CPC classification number: G11C11/5678 , G11C13/0004 , G11C2213/79 , H01L27/2445 , H01L45/06
Abstract: 公开了一种嵌有PCM部分的CMOS逻辑部分，该CMOS逻辑部分被凹进以栅结构高度，以提供CMOS逻辑部分与PCM部分的平面度，所述栅结构高度与测量的栅氧化层和多晶硅栅的厚度一样。
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