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公开(公告)号：JP2015062202A
公开(公告)日：2015-04-02
申请号：JP2014255747
申请日：2014-12-18
Applicant: ギガフォトン株式会社
IPC: H01L21/027 , H05G2/00
Abstract: 【課題】振幅の減衰や波形の歪みを十分に抑制しながら、ピエゾ素子の振動を細孔板に伝達してターゲットのドロップレットを的確に生成するEUV光源装置を提供する。 【解決手段】EUV光発生チャンバ2と、ターゲット物質供給部と、を具備するEUV光源装置であって、囲繞壁と、その囲繞壁の出口端に設けた微細孔を有する細孔板23と、囲繞壁に繋がりピエゾ素子25と対向する底面22とを備えて、ターゲット物質を溶解した状態で収納し、ターゲット物質を微細孔から噴射してドロップレット29にする細管28において、ピエゾ素子25が、底面22に当接し底面を介して細管28に振動を与えてドロップレット29の形成を助勢する。 【選択図】図1
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够将压电元件的振动传递到细孔板并且精确地产生目标液滴的EUV（极紫外）射线源装置，同时抑制幅度和畸变的充分衰减 波形。解决方案：EUV射线源装置包括EUV射线产生室2和目标物质供应部分。 压电元件25通过邻接在底面22上并且通过在包括周围壁的毛细管28中经由底面向毛细管28施加振动来辅助液滴29的形成，具有微孔的细孔板23 设置在周围壁的出口端部，底面22与环绕壁连接并与压电元件25相对，用于存储溶解状态下的目标物质，并且用于从微细孔中注入目标物质 以形成液滴29。
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公开(公告)号：JP6676066B2
公开(公告)日：2020-04-08
申请号：JP2017548571
申请日：2015-11-05
Applicant: ギガフォトン株式会社
Inventor： 薮 隆之
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公开(公告)号：JPWO2017164251A1
公开(公告)日：2019-02-14
申请号：JP2017011516
申请日：2017-03-22
Applicant: ギガフォトン株式会社
Abstract: 極端紫外光生成装置は、チャンバ内の所定領域に供給されたターゲットにレーザ光が照射されることによって生成された極端紫外光のエネルギを互いに異なる方向から計測する複数のEUV光センサと、所定領域に供給されたターゲットに対するレーザ光の照射位置を調節する照射位置調節部と、複数のEUV光センサの計測結果から特定された極端紫外光の重心位置が目標重心位置となるよう照射位置調節部を制御する制御部と、を備え、制御部は、互いに位置が異なる複数の走査水準に従って照射位置が走査されるよう照射位置調節部を制御し、複数の走査水準のそれぞれで取得された計測結果に基づいて目標重心位置を較正する。
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公开(公告)号：JPWO2017130443A1
公开(公告)日：2018-11-15
申请号：JP2016072974
申请日：2016-08-04
Applicant: ギガフォトン株式会社
CPC classification number: H05G2/006 , G05D16/2006 , G05D23/19 , H05G2/00 , H05G2/008
Abstract: ターゲット供給装置は、タンクに収容されている液状のターゲット物質を出力するノズルと、矩形波の電気信号が入力されることによって駆動される加振素子と、ノズルから出力されたドロップレットを検出するドロップレット検出部と、ドロップレットの通過時間間隔を計測する通過時間間隔計測部と、制御部と、を備え、制御部は、通過時間間隔の適正レンジを設定する処理と、加振素子に入力する電気信号のデューティ値を変えて、複数のデューティ値の各々において生成されるドロップレットの通過時間間隔計測値及びそのばらつきをデューティ値に対応付けて記憶する処理と、複数のデューティ値のうち、通過時間間隔計測値が適正レンジ内にあるデューティ値の中で、ばらつきに基づいて、動作デューティ値を決定する処理と、を行う構成としてもよい。
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公开(公告)号：JPWO2017130346A1
公开(公告)日：2018-11-15
申请号：JP2016052469
申请日：2016-01-28
Applicant: ギガフォトン株式会社
CPC classification number: G03F7/70033 , H05G2/005 , H05G2/008
Abstract: 極端紫外光生成装置は、チャンバ内の所定領域でターゲットに複数のレーザ光が照射されることによって生成された極端紫外光のエネルギを計測するEUVセンサと、前記所定領域において前記ターゲットに照射される前記複数のレーザ光のそれぞれの照射位置の少なくとも1つを調整する照射位置調整部と、前記所定領域において前記ターゲットに照射される前記複数のレーザ光のそれぞれの照射タイミングの少なくとも1つを調整する照射タイミング調整部と、前記照射位置調整部及び前記照射タイミング調整部を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記EUVセンサの計測結果に基づいて、前記照射位置調整部を制御した後に前記照射タイミング調整部を制御してもよい。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JPWO2017077614A1
公开(公告)日：2018-09-13
申请号：JP2015081118
申请日：2015-11-05
Applicant: ギガフォトン株式会社
Inventor： 薮 隆之
CPC classification number: G03F7/70033 , G03F7/20 , G21K1/062 , H05G2/00 , H05G2/008
Abstract: 極端紫外光生成装置は、生成領域に供給されたターゲットから極端紫外光が生成されるチャンバと、前記極端紫外光を反射面231で反射し集光点に集光する集光ミラー23と、照明光を出力する光源部と、前記ターゲットからの反射光を受光する受光部と、を備え、前記反射面は、前記生成領域を第1焦点F1とし前記集光点を第2焦点F2とする回転楕円面に形成され、前記反射面の外周縁231a及び前記第1焦点を結ぶ線分Kの前記第1焦点側の延長線K1を、前記第1焦点及び前記第2焦点を通るZ軸の周りに回転させたときに形成される面を第1限界面Sf1とし、前記線分並びにその前記外周縁側の延長線K2を、前記軸の周りに回転させたときに形成される面を第2限界面Sf2とすると、前記光源部及び前記受光部は、前記照明光の光路及び前記反射光の光路の少なくとも1つが、前記第1焦点を通ると共に、前記第1限界面と前記第2限界面との間に含まれるように配置されてもよい。
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公开(公告)号：JP2017049614A
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：JP2016233988
申请日：2016-12-01
Applicant: ギガフォトン株式会社
CPC classification number: H05G2/003 , G03F7/70033 , H05G2/005
Abstract: 【課題】ターゲットを加圧する圧力の変動を抑えることで、極端紫外光が集光する位置が変動することにより生じる露光ムラを低減する。 【解決手段】ノズル31から出力される液状のターゲット物質である溶融錫34を蓄えるタンク30内のガス圧を圧力調整器41が備えつけられたガスボンベ40から供給されるガスの圧力で制御するターゲット供給装置1は、ガスボンベ40から供給されるガスをタンク30へ導入するガス流路L1と、ガス流路L1上に配置されてガス流路L1を流れるガスの圧力を調整し、圧力調整器41よりも高精度の圧力調整が可能な圧力コントローラ51と、圧力コントローラ51とタンク30との間のガス流路L1に接続された計測用ガス流路に配置された圧力計53と、タンク30内の溶融錫34の温度を一定に制御するヒータ33とを備え、圧力計53の測定値をもとに圧力コントローラ51を制御する。 【選択図】図6
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公开(公告)号：JP6077822B2
公开(公告)日：2017-02-08
申请号：JP2012232890
申请日：2012-10-22
Applicant: ギガフォトン株式会社
IPC: H01L21/027 , H05G2/00
CPC classification number: F24H1/0018 , H05G2/005 , H05G2/006 , H05G2/008
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公开(公告)号：JP5955372B2
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：JP2014255747
申请日：2014-12-18
Applicant: ギガフォトン株式会社
IPC: H01L21/027 , H05G2/00
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