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公开(公告)号:CN101477220B
公开(公告)日:2013-02-20
申请号:CN200810188403.8
申请日:2008-12-22
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G02B5/30 , C08L25/08 , C08L75/16 , C08J5/18 , C08L33/12 , C08F290/06 , C08G18/83 , C08G18/75 , C08F291/06 , C08F299/06
Abstract: 一种光学膜及该光学膜的制造方法,所述光学膜含有具有如下结构单元的树脂,所述结构单元为:来自选自式(I)~(VI)表示的单体中的一种以上的单体(1)的结构单元;和来自使具有脂环式烃骨架的多异氰酸酯化合物、以及具有可以与异氰酸酯基反应的官能团和乙烯性双键的化合物进行反应而得到的化合物(2)的结构单元。
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公开(公告)号:CN102023482A
公开(公告)日:2011-04-20
申请号:CN201010283695.0
申请日:2010-09-14
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046
Abstract: 本发明提供一种光刻胶组合物,包含产酸剂和树脂,所述树脂含有衍生自式(I)表示的单体的结构单元:其中R1表示氢原子等,R2表示氢原子或C1-C4烷基,A1表示单键等,B1表示:式(1a)表示的基团:其中R3、R4和R5各自独立地表示C1-C16脂肪族烃基,并且R4和R5可以相互键合以与键合R4和R5的碳原子一起形成C3-C18环,具有内酯结构的C4-C20饱和环状基团,或者具有至少一个羟基的C5-C20饱和环烃基。
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公开(公告)号:CN101955454A
公开(公告)日:2011-01-26
申请号:CN201010234021.1
申请日:2010-07-12
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07C381/12 , C07C57/04 , C07C69/54 , C07C63/64 , C07D333/76 , C07D333/46 , C07C25/18 , C08F220/18 , C08F120/06 , C08F122/16 , C08F212/14 , G03F7/004 , G03F7/00
CPC classification number: C08F22/02 , C07C25/18 , C07C57/03 , C07C57/28 , C07C63/64 , C07C63/66 , C07C69/54 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C08F20/38 , C08F32/08 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/30 , Y10S430/122 , Y10S430/123
Abstract: 一种如式(I-Pa)所示的盐:其中XPa代表单键或C1-C4亚烷基,RPa代表单键、C4-C36二价脂环烃基或C6-C36二价芳香烃基,其中所述二价脂环烃基中的一个以上亚甲基可用-O-或-CO-替代,YPa代表可聚合的基团,以及ZPa+代表有机阳离子。
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公开(公告)号:CN101921259A
公开(公告)日:2010-12-22
申请号:CN201010206559.1
申请日:2010-06-10
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07D327/06 , C07C381/12 , C07C309/17 , C07C303/32 , G03F7/039 , G03F7/00
CPC classification number: C07D327/06 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D317/12 , C07D317/16 , C07D317/24 , C07D319/12 , C07D321/02 , C07D327/04 , C07D339/02 , C07D339/06 , C07D339/08 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/38
Abstract: 本发明涉及一种盐及包含该盐的光致抗蚀剂组合物。一种盐,其具有如式(I)所示的基团:-T(I),其中T代表C3-C36脂环烃基,其中至少两个亚甲基被-O-或-S-替代,并且该脂环烃基可以具有一个以上取代基。
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公开(公告)号:CN1958703B
公开(公告)日:2010-12-08
申请号:CN200610142588.X
申请日:2006-10-30
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C09J133/00 , C08K5/29 , G02B1/00 , B32B37/12
Abstract: 本发明涉及胶粘剂。本发明提供在高湿条件下和高热条件下以及重复加热·冷却时,不产生光学叠层体的外观变化的耐久性优异的胶粘剂,该胶粘剂是含有丙烯酸树脂(1)和(2)的胶粘剂,其中,胶粘剂的THF不溶成分X(%)和式(III)所示的Y(%)满足(I)和(II);40≤X≤70 (I);-0.15X+41<Y<0.45X+24 (II);Y=B-(100-X)×C/100 (III)。式中,B表示(1)和(2)的混合物中的分子量大于或等于300000的成分的重量百分率,C表示胶粘剂的THF可溶成分中的分子量大于或等于300000的成分的重量百分率;(1):重均分子量为50000~250000的丙烯酸树脂;(2):含有(b)的丙烯酸树脂,该树脂的重均分子量为1000000~1500000;(b):含有极性官能团和烯属双键的单体。
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公开(公告)号:CN101834121A
公开(公告)日:2010-09-15
申请号:CN201010133044.3
申请日:2010-03-10
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: H01L21/027 , H01L23/522 , G03F7/038
CPC classification number: H01L21/0274 , G03F7/0035 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/40 , Y10T428/24479
Abstract: 本发明提供了一种制造抗蚀图案的方法,所述图案足够微型化且具有优异形状,所述方法包括重复进行形成图案化抗蚀膜的工序,且所述工序包括步骤(1)(形成抗蚀膜,并将所述形成的抗蚀膜曝光)等,以通过n个循环形成图案化抗蚀膜,从而得到抗蚀图案。其中在形成所述图案化抗蚀膜工序的n个循环中,至少一个循环的步骤(1)中曝光的所述抗蚀膜是通过将抗蚀组合物成层而形成的膜。所述抗蚀组合物含有树脂(B)、光生酸剂(A)和交联剂(C),其中所述树脂(B)因酸的作用可溶于碱性水溶液中,且具有7000~10000的重均分子量和150~200℃的玻璃化转变温度。
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公开(公告)号:CN1958703A
公开(公告)日:2007-05-09
申请号:CN200610142588.X
申请日:2006-10-30
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C09J133/00 , C08K5/29 , G02B1/00 , B32B37/12
Abstract: 提供在高湿条件下和高热条件下以及重复加热·冷却时,不产生光学叠层体的外观变化的耐久性优异的胶粘剂,该胶粘剂是含有丙烯酸树脂(1)和(2)的胶粘剂,其中,胶粘剂的THF不溶成分X(%)和式(III)所示的Y(%)满足(I)和(II);40≤X≤70 (I);-0.51X+41<Y<0.45X+24 (II);Y=B-(100-X)×C/100 (III);式中,B表示(1)和(2)的混合物中的分子量大于或等于300000的成分的重量百分率,C表示胶粘剂的THF可溶成分中的分子量大于或等于300000的成分的重量百分率;(1):重均分子量为50000~250000的丙烯酸树脂;(2):含有(b)的丙烯酸树脂,该树脂的重均分子量为1000000~1500000;(b):含有极性官能团和烯属双键的单体。
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