公开(公告)号：CN107515518A

公开(公告)日：2017-12-26

申请号：CN201710004241.7

申请日：2017-01-04

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 佐佐木知也 ,  宫本刚 ,  宫崎佳奈 ,  山田涉

IPC: G03G15/16

CPC classification number: G03G15/162

Abstract: 本发明涉及环带、图像形成装置和环带单元。所述环带包含聚酰胺酰亚胺树脂层，其中，相对于100重量份的全部所述聚酰胺酰亚胺树脂层，选自由脲溶剂、含烷氧基的酰胺溶剂和含酯基的酰胺溶剂组成的溶剂组A中的至少一种溶剂的含量为0.005重量份～3重量份。

公开(公告)号：CN106009007A

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201510594143.4

申请日：2015-09-17

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 额田克己 ,  宫本刚 ,  佐佐木知也 ,  宫崎佳奈

IPC: C08J5/18 ,  C08G73/10 ,  C08L79/08 ,  C08L33/12 ,  C08L29/14

Abstract: 本发明提供多孔聚酰亚胺膜的制造方法和多孔聚酰亚胺膜，该方法包括第一步骤，形成含有聚酰亚胺前体溶液、和不溶于所述聚酰亚胺前体溶液的树脂颗粒的包覆膜，然后干燥所述包覆膜以形成含有所述聚酰亚胺前体和所述树脂颗粒的包覆层，所述聚酰亚胺前体溶液中聚酰亚胺前体和有机胺化合物溶于水性溶剂，以及第二步骤，加热所述包覆层以使所述聚酰亚胺前体酰亚胺化并形成聚酰亚胺膜，所述第二步骤包括除去所述树脂颗粒的处理。根据本发明的多孔聚酰亚胺膜的制造方法，制造工艺得以简化，根据本发明的多孔聚酰亚胺膜中裂纹的产生受到抑制。

公开(公告)号：CN102952031B

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：CN201210061925.8

申请日：2012-03-09

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 山田涉 ,  额田克己 ,  岩馆侑子 ,  佐佐木知也 ,  梶原贤志

IPC: C07C229/42 ,  C07C229/44 ,  C07C217/76 ,  G03G5/04 ,  G03G5/06 ,  G03G5/147 ,  G03G21/18 ,  G03G15/00 ,  H01L51/54 ,  H01L51/50 ,  H01L51/30 ,  H01L51/05

CPC classification number: G03G15/75 ,  C07C217/76 ,  C07C217/92 ,  C07C229/42 ,  C07C229/44 ,  C07C237/20 ,  C07C251/86 ,  C07C327/22 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/18 ,  G03G5/0503 ,  G03G5/0532 ,  G03G5/0592 ,  G03G5/0596 ,  G03G5/0614 ,  G03G5/071 ,  G03G5/14717 ,  G03G5/14791 ,  G03G5/14795 ,  H01L51/0038 ,  H01L51/0059 ,  H01L51/0081 ,  H01L51/5056

Abstract: 本发明提供了由以下通式(I)表示的化合物，以及电荷输送膜、光电转换装置、电子照相感光体、处理盒和图像形成装置：其中，在通式(I)中，F表示电荷输送亚单元，L表示通过将选自由亚烷基、?C＝C?(亚烯基)、?C(＝O)?、?N(R)?、?O?和?S?组成的组中的两种或更多种结合而形成的具有(n+1)价的连接基团，且R表示氢原子、烷基、芳基或芳烷基，m表示1～6的整数，且n表示2～3的整数。

公开(公告)号：CN102952027B

公开(公告)日：2016-02-24

申请号：CN201210099808.0

申请日：2012-04-06

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 额田克己 ,  山田涉 ,  佐佐木知也 ,  岩馆侑子 ,  梶原贤志

IPC: C07C217/76 ,  C07C213/06 ,  G03G5/04 ,  G03G5/06 ,  G03G5/147 ,  G03G21/18 ,  G03G15/00

CPC classification number: C07C217/76 ,  C07C251/86 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/18 ,  G03G5/0592 ,  G03G5/0614 ,  G03G5/14769 ,  G03G5/14791 ,  G03G15/75

Abstract: 本发明提供了化合物、电荷输送膜、光电转换装置及使用该化合物的电子照相感光体、电子照相感光体的制造方法、处理盒和图像形成装置，所述化合物由下式(I)表示：其中，在式(I)中，F表示电荷输送骨架，L表示包含-(CH2)n-O-基团的二价连接基团，m表示1～8的整数，并且n表示3～6的整数。

公开(公告)号：CN104076624A

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：CN201310464150.3

申请日：2013-10-08

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 平方昌记 ,  胜原秀弥 ,  岩永刚 ,  鸟越诚之 ,  今井孝史 ,  佐佐木知也 ,  桥场成人 ,  井手健太

IPC: G03G5/047 ,  G03G5/147 ,  G03G21/18 ,  G03G15/00

Abstract: 本发明提供了一种电子照相感光体，其包括：导电性基体；有机感光层，该有机感光层提供在所述导电性基体上；以及无机保护层，该无机保护层提供在所述有机感光层上以便于与所述有机感光层接触，其中所述有机感光层在与所述无机保护层接触的表面一侧区域上至少包括电荷输送材料和二氧化硅颗粒。本发明还提供了包括该电子照相感光体的处理盒和成像装置。在本发明的电子照相感光体中，无机保护层的破裂和残余电位的产生受到抑制。

公开(公告)号：CN102955382A

公开(公告)日：2013-03-06

申请号：CN201210061737.5

申请日：2012-03-09

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 山田涉 ,  额田克己 ,  土井孝次 ,  岩馆侑子 ,  佐佐木知也

IPC: G03G5/04 ,  G03G5/06 ,  G03G5/147 ,  H01L51/00 ,  G03G21/18 ,  G03G15/00

CPC classification number: H01L51/0043 ,  G03G5/0592 ,  G03G5/0614 ,  G03G5/071 ,  G03G2215/00957 ,  H01L51/0035 ,  H01L51/004 ,  H01L51/0042 ,  H01L51/424

Abstract: 本发明涉及电荷输送膜、光电转换器件、电子照片感光体、处理盒和图像形成设备。所述电荷输送膜包含由式(I)表示的化合物的聚合物：(Ra)n-Fa-Xa-Fa’-(Ra’)n’(I)其中，Fa和Fa’独立地表示包含芳香环的电荷输送子单元，Ra和Ra’独立地表示与所述电荷输送子单元的芳香环直接结合的-CH＝CH2或由式(a)表示的基团，，Xa表示亚烷基或其中亚烷基与选自-O-、-S-和酯基的基团组合的二价基团，n和n’独立地表示0以上的整数(其中，n和n’不同时为0)，L表示与所述电荷输送子单元的芳香环结合的由*-(CH2)n”-O-CH2-表示的连接基团，其中，n”为1或2，所述连接基团在*处与所述电荷输送子单元的芳香环结合。