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公开(公告)号：CN111295291B
公开(公告)日：2021-05-07
申请号：CN201880070718.4
申请日：2018-11-01
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 泽田宏和
IPC: B42D25/346 , B42D25/23 , B42D25/24 , B42D25/29 , G06K7/14 , G06K19/02 , G06K19/06 , G06T7/60 , G07D7/12
Abstract: 本发明的课题在于提供一种难以复制的安全元件及安全系统。本发明的安全元件包括具有多个贯穿孔的薄膜，贯穿孔的平均开口直径为0.1μm～50μm，贯穿孔的至少1个为贯穿孔的面积S1与将贯穿孔的长轴作为直径的圆的面积S0之比S1/S0为0.1以上且小于0.95的贯穿孔A。
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公开(公告)号：CN111295291A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN201880070718.4
申请日：2018-11-01
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 泽田宏和
IPC: B42D25/346 , B42D25/23 , B42D25/24 , B42D25/29 , G06K7/14 , G06K19/02 , G06K19/06 , G06T7/60 , G07D7/12
Abstract: 本发明的课题在于提供一种难以复制的安全元件及安全系统。本发明的安全元件包括具有多个贯穿孔的薄膜，贯穿孔的平均开口直径为0.1μm～50μm，贯穿孔的至少1个为贯穿孔的面积S1与将贯穿孔的长轴作为直径的圆的面积S0之比S1/S0为0.1以上且小于0.95的贯穿孔A。
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公开(公告)号：CN110678257A
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201880034928.8
申请日：2018-06-11
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 泽田宏和
IPC: B01J23/44 , B01J21/04 , B01J21/06 , B01J21/18 , B01J27/24 , B01J29/068 , B01J32/00 , B01J37/02 , C23C28/04 , H01M4/66
Abstract: 本发明提供一种载体与承载物的密合性优异的铝复合材料。本发明的铝复合材料具有：带氧化膜的铝基材，在铝基材表面的至少一部分具有氧化膜；及承载物，承载于带氧化膜的铝基材的表面，氧化膜的平均膜厚为1nm以上且小于100nm，在铝基材的氧化膜侧的表面具有选自由如下凹凸结构构成的组中的至少一种凹凸结构：包含平均开口直径超过5μm且100μm以下的凹部的凹凸结构、包含平均开口直径超过0.5μm且5μm以下的凹部的凹凸结构及包含平均开口直径超过0.01μm且0.5μm以下的凹部的凹凸结构。
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公开(公告)号：CN104487261A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：CN201380039683.5
申请日：2013-07-26
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B41N1/14 , B41N1/083 , B41N3/034 , C25D11/005 , C25D11/08 , C25D11/12 , C25D11/16 , C25D11/24 , C25F3/04
Abstract: 本发明的目的在于提供能够得到制成平版印刷版时耐刷性优异、且显示优异的机上显影性的平版印刷版用原版的耐划伤性优异的平版印刷版用支撑体。本发明的平版印刷版用支撑体为具备铝板和其上的铝的阳极氧化皮膜、且在阳极氧化皮膜中具有从与铝板相反侧的表面向深度方向延伸的微孔的平版印刷版用支撑体，微孔由从阳极氧化皮膜表面延伸至平均深度为75～120nm(深度A)的位置的大直径孔部、和与大直径孔部的底部连通且从连通位置延伸至平均深度为900～2000nm的位置的小直径孔部构成，大直径孔部的阳极氧化皮膜表面中的平均直径为10nm以上且低于30nm，平均直径与深度A满足(深度A/平均直径、)＝超过4.0且为12.0以下的关系，小直径孔部的该连通位置的平均直径大于0且低于10nm。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102686409B
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201080059811.9
申请日：2010-12-22
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B41N1/083 , B41C2210/04 , B41C2210/08 , B41N3/034 , C25D11/08 , C25D11/10 , C25D11/12 , C25D11/18 , C25D11/20 , C25D11/24
Abstract: 本发明的目的在于提供可以得到制成平版印刷版时暂停印刷的脱墨能力及耐刷性优异、且显示优异的机上显影性的平版印刷版用原版的耐划伤性优异的平版印刷版用支撑体。本发明的平版印刷版用支撑体为包括铝板、在该铝板上形成的铝的阳极氧化覆膜，在该阳极氧化覆膜中具有从与该铝板相反侧的表面向深度方向延伸的微孔的平版印刷版用支撑体，该微孔由大直径孔部和小直径孔部构成，所述大直径孔部具有规定的从阳极氧化覆膜表面至深5～60nm(深度A)的位置延伸的平均直径，所述小直径孔部与该大直径孔部的底部连通，具有规定的从连通位置至深900～2000nm延伸的平均直径。
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公开(公告)号：CN101745613B
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN200910224954.X
申请日：2009-11-26
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种平版印刷版用铝合金板的制造装置，其能够防止由于在熔融金属的底部附近移动的TiB2凝聚粒子的混入以外的原因而导致的连续铸造板的故障。铝合金板的连续铸造轧制装置至少具备：在内部具有熔融金属流路的熔融金属供给喷嘴；从该熔融金属供给喷嘴被供给铝合金熔融金属的一对冷却辊；以及向该熔融金属供给喷嘴供给铝合金熔融金属的容器，所述铝合金板的连续铸造轧制装置的特征在于，在所述熔融金属供给喷嘴的上游侧设有用于捕获在铝合金熔融金属的表层存在的异物的机构。
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公开(公告)号：CN101332494B
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN200810110288.2
申请日：2008-06-26
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B22D11/003 , B21B1/463 , B21B2003/001 , B22D11/045 , B22D11/0622 , B22D11/103 , B22D11/116 , B22D11/181
Abstract: 本发明公开一种通过连续铸造工艺、制造平版印刷版支撑体用铝合金带的方法，包括步骤：把铝熔化物连续地通过过滤装置、连接到过滤装置的流槽、连接到流槽的液面控制装置、和连接到液面控制装置的熔化物供应喷嘴，其中通过熔化铝原材料获得铝熔化物，然后在熔化的铝原材料中添加和熔化含钛和硼的铝合金，并且铝熔化物通过流槽所需的以秒计的时间t满足下面的条件(1)：t≥270×1.2×D，其中D是流槽中的熔化物的以米计的深度。本方法能够防止形成黑条，即使当长时间执行铸造时也能够防止形成黑条。
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公开(公告)号：CN102686409A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201080059811.9
申请日：2010-12-22
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B41N1/083 , B41C2210/04 , B41C2210/08 , B41N3/034 , C25D11/08 , C25D11/10 , C25D11/12 , C25D11/18 , C25D11/20 , C25D11/24
Abstract: 本发明的目的在于提供可以得到制成平版印刷版时暂停印刷的脱墨能力及耐刷性优异、且显示优异的机上显影性的平版印刷版用原版的耐划伤性优异的平版印刷版用支撑体。本发明的平版印刷版用支撑体为包括铝板、在该铝板上形成的铝的阳极氧化覆膜，在该阳极氧化覆膜中具有从与该铝板相反侧的表面向深度方向延伸的微孔的平版印刷版用支撑体，该微孔由大直径孔部和小直径孔部构成，所述大直径孔部具有规定的从阳极氧化覆膜表面至深5～60nm(深度A)的位置延伸的平均直径，所述小直径孔部与该大直径孔部的底部连通，具有规定的从连通位置至深900～2000nm延伸的平均直径。
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公开(公告)号：CN1895908B
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200610105528.0
申请日：2006-07-14
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 一种平版印刷版用支持体及其制造方法，其由含有Fe、Si、Ti和B的熔融铝合金制备，在自表面20μm内的表层，不存在TiB2粒子，或者当有TiB2粒子存在时，TiB2粒子中宽度不到100μm的粒子为95％以上，对存在于表层的晶粒的宽度是平均值为20～200μm、最大值为2000μm以下的铝合金板的表面，至少实施包括碱蚀刻处理和之后的电化学粗面化处理的粗面化处理而得到，关于自粗面化处理后的表面20μm内的表层中的Fe和Si各自的浓度，高浓度部分的浓度和低浓度部分的浓度差的值相对于低浓度部分的浓度的值的比都为20％以下，熔融Al含有95质量％以上Al、30～5000ppmFe、300～2000ppmSi、1～500ppmCu，精冷轧后的铝合金板的固溶Fe量为20ppm以上，固溶Si量为20ppm以上，固溶Cu量为总Cu量的70质量％以上。
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