公开(公告)号：CN1650358A

公开(公告)日：2005-08-03

申请号：CN02829505.6

申请日：2002-11-29

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 宇野和史 ,  滨口慎吾

IPC: G11B7/135

CPC classification number: G11B7/123 ,  G11B7/1353 ,  G11B7/1376 ,  G11B7/13922

Abstract: 本发明公开了一种意于改进对温度变化和光源输出变化的稳定性的准直光学系统，并且其设置有由玻璃粘接结构构成的消色差透镜或者用于抵消焦距变化的安装衍射光栅的塑料透镜，其中玻璃消色差透镜是与光源相反的一侧被粘接，而安装衍射光栅的塑料透镜是面对光源一侧被粘接。

公开(公告)号：CN107615028B

公开(公告)日：2019-12-10

申请号：CN201580079711.5

申请日：2015-05-13

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 宇野和史 ,  笠岛丈夫 ,  有冈孝祐 ,  福田裕幸

IPC: G01K11/32

Abstract: 温度测量装置具有：检测器，其从光入射到光纤的第1端的情况下的后向散射光检测第1斯托克斯成分和第1反斯托克斯成分，从光入射到光纤的第2端的情况下的后向散射光来检测第2斯托克斯成分和第2反斯托克斯成分；校正部，在光纤的包含第1端侧的局部区域的采样点在内的规定区域中，在第1斯托克斯成分及第1反斯托克斯成分与第2反斯托克斯成分之间的相关度中的至少任意一方的大小为阈值以下的情况下，所述校正部将第2反斯托克斯成分置换为与第1斯托克斯成分、第1反斯托克斯成分、第2斯托克斯成分对应的值；以及测量部，其使用第1斯托克斯成分、第1反斯托克斯成分、第2斯托克斯成分和通过校正部被置换后的第2反斯托克斯成分来测量采样点的温度。

公开(公告)号：CN107250936A

公开(公告)日：2017-10-13

申请号：CN201680010341.4

申请日：2016-02-15

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 宇野和史 ,  有冈孝祐 ,  笠嶋丈夫 ,  福田裕幸

IPC: G05B23/02

Abstract: 判定装置具备：模型创建部，创建传感器检测值的基准模型；判定部，判定从规定的时刻到上述基准模型与上述传感器检测值的分歧度超过阈值为止的时间是否比规定的时间短；以及输出部，在判定为短的情况下输出与异常相关的信号。

公开(公告)号：CN102365536B

公开(公告)日：2014-06-11

申请号：CN200980158413.X

申请日：2009-12-22

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 笠屿丈夫 ,  宇野和史 ,  武井文雄

IPC: G01K11/12

CPC classification number: G01K11/32 ,  G01K15/00 ,  G01K2011/324

Abstract: 在温度测定系统和温度测定方法中，高精度地测定温度。包括：输出激光的激光光源(21)；铺设于温度测定区域的光纤(24)以及检测入射到光纤(24)内的激光的后方散射光，取得沿光纤(24)的铺设路径的温度测定区域的温度的测定温度分布，并且修正该测定温度分布，计算修正温度分布的温度测定部(27)；其中，温度测定部(27)为使沿铺设路径的光纤(24)的传递函数与修正温度分布的卷积与测定温度分布之间的平方误差在每次修正时变小，而对该测定温度分布逐次地进行多次修正，并且每当进行各次的修正时将铺设路径的特定点的修正后的温度替换成该特定点的推断温度。

公开(公告)号：CN101310226B

公开(公告)日：2012-06-06

申请号：CN200680039911.9

申请日：2006-06-30

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 吉川浩宁 ,  手塚耕一 ,  宇野和史 ,  岩村康正 ,  山影让

IPC: G03H1/26 ,  G02F1/141 ,  G02B26/06 ,  G03H1/12 ,  G02B26/08 ,  G11B7/0065 ,  G02F1/13 ,  G11B7/1353

CPC classification number: G03H1/12 ,  G03H1/02 ,  G03H2001/0224 ,  G03H2001/2675 ,  G03H2223/13 ,  G03H2225/31 ,  G03H2225/55 ,  G11B7/0065 ,  G11B7/128 ,  G11B7/1362

Abstract: 一种全息记录装置，将从光源射出的相干光分离为信号光和参考光，将一方的信号光由空间光调制器调制后对全息记录介质进行照射，并且将另一方的参考光向所述全息记录介质与所述信号光重叠地照射，由此在该全息记录介质上记录全息图，所述全息记录装置的包括：光相位调制装置，包括多个光学元件(20p，20p’)，并在这些光学元件(20p，20p’)的每一个上产生规定的相位差0、π，所述光学元件可取如下两种状态：使所述参考光向朝向所述全息记录介质的规定方向透过或者反射的打开模式以及将所述参考光导向所述规定的方向以外或者遮挡所述参考光的关闭模式；以及相位调制控制装置，控制每个所述光学元件(20p，20p’)以使每个所述光学元件成为打开模式或者关闭模式，并将所述参考光调制为形成规定的相位图案的光。

公开(公告)号：CN102365536A

公开(公告)日：2012-02-29

申请号：CN200980158413.X

申请日：2009-12-22

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 笠屿丈夫 ,  宇野和史 ,  武井文雄

IPC: G01K11/12

CPC classification number: G01K11/32 ,  G01K15/00 ,  G01K2011/324

Abstract: 在温度测定系统和温度测定方法中，高精度地测定温度。包括：输出激光的激光光源(21)；铺设于温度测定区域的光纤(24)以及检测入射到光纤(24)内的激光的后方散射光，取得沿光纤(24)的铺设路径的温度测定区域的温度的测定温度分布，并且修正该测定温度分布，计算修正温度分布的温度测定部(27)；其中，温度测定部(27)为使沿铺设路径的光纤(24)的传递函数与修正温度分布的卷积与测定温度分布之间的平方误差在每次修正时变小，而对该测定温度分布逐次地进行多次修正，并且每当进行各次的修正时将铺设路径的特定点的修正后的温度替换成该特定点的推断温度。

公开(公告)号：CN101449215A

公开(公告)日：2009-06-03

申请号：CN200680054702.1

申请日：2006-06-09

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 宇野和史 ,  手塚耕一 ,  吉川浩宁 ,  岩村康正 ,  山影让

IPC: G03H1/26 ,  G11B7/0065 ,  G11B7/135

CPC classification number: G03H1/26 ,  G03H1/0465 ,  G03H1/265 ,  G11B7/0065 ,  G11B7/00772 ,  G11B7/08564 ,  G11B7/1362 ,  G11B7/1381

Abstract: 全息记录装置以固定的入射角(θs)向全息记录介质(B)照射记录光(S)，并且在可变地控制对全息记录介质(B)的入射角(θr)的情况下向所述记录光(S)的照射部位(p)照射参考光(S)，从而对全息图进行复用记录，其中包括：至少一个可变反射单元(10)，其通过反射将参考光(R)引向照射部位(p)，并绕预定轴(x)摆动，以使该参考光(R)的入射角(θr)改变；以及遮光单元(11)，其与可变反射单元(10)一体地摆动，并部分地遮挡参考光，以使得所述参考光(R)的入射角(θr)越大，该参考光(R)的光束直径就越小。

公开(公告)号：CN100419869C

公开(公告)日：2008-09-17

申请号：CN200610058094.3

申请日：2006-02-28

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 山影让 ,  金冈利知 ,  内田昭嘉 ,  宇野和史 ,  吉川浩宁

IPC: G11B7/0065 ,  G11B7/125 ,  G03H1/22

CPC classification number: G11B7/00772 ,  G11B7/0065 ,  G11B7/1392

Abstract: 记录和再现装置。一种记录和再现装置包括：用于发射激光束的光源；用于使用信息光束照射介质的信息光束照射单元；以及参考光束照射单元，用于使用参考光束照射该介质以在该介质上形成特定散斑图案。该参考光束照射单元包括：散射板，其设置在激光束通过的光路上并且生成参考光束；旋转控制器，用于使散射板旋转；以及识别信息检测器，用于检测预先形成在该散射板的表面上的识别信息。该散射板包括其中形成有不同识别信息的多个编码存储区和由该识别信息指定的多个散射图案生成区。基于检测到的识别信息对散射板的位置进行控制，使得在输出该激光束时期望的散射图案生成区落在该激光束通过的位置上。

公开(公告)号：CN101111805A

公开(公告)日：2008-01-23

申请号：CN200580047395.X

申请日：2005-01-27

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 吉川浩宁 ,  手塚耕一 ,  宇野和史

IPC: G03H1/04 ,  G11B7/0065 ,  G11B7/135 ,  G11C13/04

CPC classification number: G03H1/0404 ,  G03H1/0402 ,  G03H2001/0415 ,  G03H2223/13 ,  G03H2223/17 ,  G03H2225/24 ,  G03H2250/42 ,  G11B7/0065 ,  G11B7/1395 ,  G11C13/042

Abstract: 全息图记录装置(A1)包括：光源(1)，射出可干涉的光束；以及空间光调制器(5A)，将来自该光源(1)的光束的一部分调制成含有二维信息的记录光；全息图记录装置(A1)将光束的其他一部分用作与记录光发生干涉的参照光，并向全息图记录介质(B)照射该记录光和参照光，在全息图记录装置(A1)中，在光源(1)与空间光调制器(5A)之间配置有半透光性的光学元件(4)，该光学元件(4)使光束的一部分作为透过光向空间光调制器(5A)行进，同时使光束的其他一部分作为反射光向全息图记录介质(B)行进，并且记录光和参照光在由光学元件(4)分离为透过光和反射光之后通过同一光路(L)照射到全息图记录介质(B)上。

公开(公告)号：CN100353426C

公开(公告)日：2007-12-05

申请号：CN200510103269.3

申请日：2005-09-20

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 宇野和史 ,  手塚耕一 ,  吉川浩宁

IPC: G11B7/00 ,  G11B7/24 ,  G11B7/0065

CPC classification number: G11B7/0065 ,  G03H1/0252 ,  G03H1/26 ,  G03H2250/42 ,  G11B7/00781 ,  G11B7/0938 ,  G11B7/24044 ,  G11B7/256

Abstract: 全息记录介质包括全息记录层和层叠在全息记录层上的透明衬底层。记录层记录记录光束和参考光束的干涉图案。透明衬底层有面对全息记录层的内表面，并且该表面形成有用于沿规定引导方向引导记录光束和参考光束的追踪区域。追踪区域的反射率比透明衬底层的内表面中的剩余区域的反射率高。