长条光学层压体的制造方法及液晶面板

    公开(公告)号:CN101611335B

    公开(公告)日:2011-12-14

    申请号:CN200880004283.X

    申请日:2008-01-16

    Abstract: 本发明的目的是提供对比度高且能应用于大型显示装置的光学层压体的制造方法。本发明的光学层压体的制造方法包括以下工序:工序1,在长条基材的表面上涂布和干燥含双折射材料和溶剂的涂布液,形成在波长590nm下的厚度方向的双折射率(Δnxz[590])为0.02以上的双折射膜,从而制作包含该基材和该双折射膜的长条片材(A)的工序;工序2,拉伸含有二色性物质的亲水性聚合物的长条薄膜,使得相对于原长度的拉伸倍率为3倍~5倍且缩幅比为55%以下,从而制作长条起偏振器(B)的工序;工序3,在工序2中获得的长条起偏振器(B)的一个面上层压工序1中获得的长条片材(A),从而制作长条光学层压体的工序。

    液晶面板及液晶显示装置
    32.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101529319A

    公开(公告)日:2009-09-09

    申请号:CN200780039992.7

    申请日:2007-10-16

    Abstract: 本发明的液晶面板,其特征在于,该液晶面板具备液晶单元、配置于该液晶单元一侧的第一偏振片和配置于该液晶单元另一侧的第二偏振片,其中,第一偏振片及第二偏振片中的至少一方的偏振片用二色性物质染色,并且二色性比为40~100。上述第一偏振片及第二偏振片中的至少一方的偏振片优选显示偏振度为99%以上且单片透射率为35%~45%的偏振特性。上述第一偏振片及第二偏振片中的至少一方的偏振片优选显示Δnxy为0.015~0.030的双折射性。本发明的液晶面板由于具备上述偏振片,因此斜向对比度高、图像显示特性优异。

    液晶面板和液晶显示装置
    33.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101299117A

    公开(公告)日:2008-11-05

    申请号:CN200810092814.7

    申请日:2008-05-04

    Abstract: 本发明提供液晶面板和液晶显示装置。根据本发明的实施方案的液晶面板以从观察者侧开始的规定顺序包含:第一偏振器;第一光学补偿层;液晶单元;第二光学补偿层;和第二偏振器,其中:第一光学补偿层具有等于或小于40×10-12(m2/N)的光弹性系数的绝对值,具有90nm至200nm的面内延迟Δnd,具有表达式(1)Δnd(380)=Δnd(550)=Δnd(780)和(2)nx>ny≥nz的关系,并且在第一偏振器的液晶单元侧上起着保护层的作用;并且第二光学补偿层具有表达式(3)Rth(380)>Rth(550)>Rth(780)和(4)nx=ny>nz的关系。

    附有光学补偿层的偏振镜、使用附有光学补偿层的偏振镜的液晶面板、液晶显示装置以及图像显示装置

    公开(公告)号:CN101292181A

    公开(公告)日:2008-10-22

    申请号:CN200680039254.8

    申请日:2006-10-11

    Abstract: 本发明提供一种附有光学补偿层的偏振镜以及使用上述附有光学补偿层的偏振镜的液晶面板、液晶显示装置及图像显示装置,该附有光学补偿层的偏振镜有助于薄型化,使可视角特性提高,并实现高对比度,防止干扰不均或热不均,抑制色彩偏移,实现良好的色再现性,且可有效防止黑色显示时的漏光。本发明的附有光学补偿层的偏振镜依次具有偏振器、第1光学补偿层、胶粘剂层及第2光学补偿层,该第1光学补偿层具有nx>ny=nz的折射率分布,并表现出面内相位差Re1越靠近短波长侧越小的波长分散特性,且该面内相位差Re1为90~160nm,该第2光学补偿层为涂布层,具有nx=ny>nz的折射率分布,其面内相位差Re2为0~20nm,且其厚度方向的相位差Rth2为30~300nm,其厚度为0.5~10μm。

    导电性膜
    35.
    发明公开
    导电性膜 审中-实审

    公开(公告)号:CN115699219A

    公开(公告)日:2023-02-03

    申请号:CN202180037118.X

    申请日:2021-05-18

    Abstract: 本发明提供一种导电性膜,其是在包含金属纳米线的透明导电层上形成金属膜而构成的导电性膜,且在供于蚀刻工序时导电性也不易降低。本发明的导电性膜依次具备金属层、透明导电层、和基材,该透明导电层包含金属纳米线和聚合物基质,该金属纳米线的一部分从该透明导电层向金属层侧突出,该透明导电层的厚度为30nm~150nm。

    透明导电性膜
    36.
    发明公开
    透明导电性膜 审中-实审

    公开(公告)号:CN115175812A

    公开(公告)日:2022-10-11

    申请号:CN202180016742.1

    申请日:2021-02-16

    Abstract: 本发明提供一种具备包含金属填料的透明导电层的、低电阻的透明导电性膜。本发明的透明导电性膜具备基材及配置于该基材的至少单侧的透明导电层,该透明导电层包含金属填料,透明导电层的厚度方向上的上述金属填料的存在分布的半幅值为5nm~75nm。在一个实施方式中,上述金属填料为金属纳米线。

    透明导电性膜的制造方法
    37.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114467155A

    公开(公告)日:2022-05-10

    申请号:CN202080069179.X

    申请日:2020-09-28

    Abstract: 本发明提供制造即使包含金属纳米线、导电各向异性也小的透明导电性膜的方法。本发明的透明导电性膜的制造方法是具备基材、和配置于该基材的一侧的透明导电层的透明导电性膜的制造方法,上述透明导电性膜的制造方法包括:涂布工序,该工序中一边运送长条状的该基材,一边在该基材上涂布包含金属纳米线的透明导电层形成用组合物而形成涂布层;以及送风工序,该工序中从该涂布层的上方送风。在一个实施方式中,上述送风工序中的送风包含相对于上述涂布层面大致垂直的方向的送风。

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