薄膜形成方法及成膜装置
    33.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102016103A

    公开(公告)日:2011-04-13

    申请号:CN200980105248.1

    申请日:2009-02-10

    CPC classification number: C23C14/562 C23C14/042 C23C14/30

    Abstract: 本发明提供一种薄膜形成方法,该方法是通过在真空中将从成膜源(27)飞来的粒子堆积在衬底(21)上而形成薄膜的方法。具体而言,以由在成膜源(27)与衬底(21)之间设定有运行路径的去路与返路的可动式的环形带(11)限定衬底(21)的表面的成膜区域(DA)的方式在成膜源(27)与衬底(21)之间配置环形带(11)的状态下,将粒子堆积在衬底(21)上。衬底(21)典型地为具有挠性的长条衬底。从卷出辊(23)向卷取辊(26)将粒子堆积在输送中的衬底(21)上。

    薄膜形成装置和薄膜形成方法

    公开(公告)号:CN101889103A

    公开(公告)日:2010-11-17

    申请号:CN200880119323.5

    申请日:2008-11-19

    CPC classification number: C23C14/541 C23C14/562 G11B5/85

    Abstract: 本发明提供一种薄膜形成装置和薄膜形成方法。在使用气体冷却的成膜方法中,达成充分的冷却效果,并且避免气体导入引起的成膜率的降低和对真空泵的过大的负荷。本发明的薄膜形成装置包括在薄膜形成区域(14)中接近基板(7)的背面配置的冷却体(10);将气体向冷却体(10)与基板(7)的背面之间导入的气体导入机构;接近基板(7)的背面,将薄膜形成区域(14)分割为第一薄膜形成区域(14a)和成膜速度比第一薄膜形成区域(14a)低的第二薄膜形成区域(14b),且维持冷却体(10)与基板(7)的间隙的间隙维持机构(11)。冷却条件被设定为第一区域(14a)的冷却量比第二区域(14b)的冷却量大。

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