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    レーザ照射装置、薄膜トランジスタの製造方法、プログラムおよび投影マスク
    31.
    发明专利
    レーザ照射装置、薄膜トランジスタの製造方法、プログラムおよび投影マスク 审中-公开

    公开(公告)号：JP2019036635A

    公开(公告)日：2019-03-07

    申请号：JP2017156968

    申请日：2017-08-15

    Applicant: 株式会社ブイ・テクノロジー

    Inventor： 水村 通伸 ,  畑中 誠 ,  新井 敏成

    IPC: H01L21/20 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786 ,  H01L21/268

    Abstract: 【課題】 レーザ光が投影マスクを介して照射された場合には、該投影マスクの形状によって、チャネル領域となる部分に照射されるレーザ光の強度が一定とならない場合があり、その結果、チャネル領域となる部分における結晶化の程度が偏ってしまう。 【解決手段】 本発明の一実施形態におけるレーザ照射装置は、レーザ光を発生する光源と、基板に被着されたアモルファスシリコン薄膜の所定の領域に前記レーザ光を照射する投影レンズと、前記投影レンズ上に配置され、所定の投影パターンで前記レーザ光を透過させる長方形状の透過領域を含む投影マスクパターンと、を備え、前記長方形状の透過領域の短辺は、前記投影マスクパターンを透過したレーザ光の照射エネルギが前記所定の領域において略均一となる長さであることを特徴とする。 【選択図】図9

    レーザ照射装置および薄膜トランジスタの製造方法
    32.
    发明专利
    レーザ照射装置および薄膜トランジスタの製造方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018093154A

    公开(公告)日：2018-06-14

    申请号：JP2016253448

    申请日：2016-12-27

    Applicant: 株式会社ブイ・テクノロジー

    Inventor： 水村 通伸 ,  新井 敏成 ,  畑中 誠 ,  竹下 琢郎

    IPC: H01L21/268 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786 ,  B23K26/066 ,  B23K26/064 ,  H01L21/20

    Abstract: 【課題】ガラス基板に含まれる複数の薄膜トランジスタの特性には、ばらつきが生じてしまう可能性がある。 【解決手段】本発明の一実施形態におけるレーザ照射装置は、レーザ光を発生する光源と、ガラス基板上の複数の薄膜トランジスタの各々に被着されたアモルファスシリコン薄膜の所定の領域に、当該レーザ光を照射する投影レンズと、当該投影レンズ上に設けられ、当該レーザ光が透過する割合である透過率が設定された複数のマスクを含む投影マスクパターンと、を備え、当該投影レンズは、所定の方向に移動する当該ガラス基板上の当該複数の薄膜トランジスタに対して、当該投影マスクパターンに含まれる当該複数のマスクの各々を介して当該レーザ光を照射し、当該投影マスクパターンに含まれる当該複数のマスクの各々は、複数の当該透過率のいずれかが設定される、レーザ照射装置。 【選択図】図1

    レーザアニール装置
    33.
    发明专利
    レーザアニール装置 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018085472A

    公开(公告)日：2018-05-31

    申请号：JP2016228606

    申请日：2016-11-25

    Applicant: 株式会社ブイ・テクノロジー

    Inventor： 新井 敏成 ,  松本 隆徳 ,  竹下 琢郎

    IPC: H01L21/20 ,  H01L21/683 ,  H01L21/677 ,  B65G49/06 ,  H01L21/268

    CPC classification number: B65G49/06 ,  H01L21/20 ,  H01L21/268 ,  H01L21/677 ,  H01L21/683

    Abstract: 【課題】レーザが照射される領域をピンポイントで不活性ガス雰囲気にすることができる。 【解決手段】板状の搬送ステージ11には、吹出孔及び吸引孔がそれぞれ複数形成され、搬送ステージ11の上面11aに隣接して、上面11aと略平行に板状部材が設けられている。吹出孔のうちの平面視において板状部材と重なる領域を含む第1領域に存在する吹出孔から不活性ガスを吹き出し、吹出孔のうちの第1領域以外の第2領域に存在する吹出孔から空気を吹き出す。また、板状部材は、平面視においてレーザ光が基板Wに照射される領域を含む大きさで形成される。 【選択図】 図1

    偏光光照射装置
    35.
    发明专利
    偏光光照射装置 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018004946A

    公开(公告)日：2018-01-11

    申请号：JP2016131791

    申请日：2016-07-01

    Applicant: 株式会社ブイ・テクノロジー

    Inventor： 橋本 和重 ,  新井 敏成

    IPC: G02F1/1337

    CPC classification number: G02F1/1337

    Abstract: 【課題】簡単な構成で、対象物へ照射される積算光量を均一にすることができる。 【解決手段】光源11は、長手方向が前記対象物の走査方向に対して傾いて設けられた複数のランプ11x(発光領域)が2次元状に配列されている。走査方向に隣接する第1ランプと第2ランプとの走査方向と略直交する方向の間隔をPとすると、第1ランプ及び第2ランプの両端は、走査方向と略直交する方向にP/n(nは1以上の整数)だけずれており、第1ランプの第2ランプ側の端と、第2ランプの前記第1ランプ側の端は、走査方向と略直交する方向にP−P/n(nは1以上の整数)だけずれている。また、光源11において、ランプ11xが走査方向にa(aは2以上の整数)個並べられているとすると、第1ランプと、第1ランプと走査方向と略直交する方向に隣接する第3ランプとの間隔は、P×aである。 【選択図】 図4

    走査露光装置及び走査露光方法
    36.
    发明专利
    走査露光装置及び走査露光方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2017219864A

    公开(公告)日：2017-12-14

    申请号：JP2017167435

    申请日：2017-08-31

    Applicant: 株式会社ブイ・テクノロジー

    Inventor： 橋本 和重 ,  新井 敏成

    IPC: G03F7/20 ,  G02F1/1337

    Abstract: 【課題】基板表面における光照射エネルギーの確認をタクトタイムに影響なく行うこと。 【解決手段】走査露光装置1は、基板ステージ2と、光照射装置3と、基板Wの表面と同一高さに照度センサ4Sを支持する照度センサステージ4と、基板ステージ2と照度センサステージ4の走査方向に沿った移動を制御する走査制御手段6とを備える。走査制御手段6は、基板ステージ2を走査して基板Wを光照射装置3によって走査露光する間、照度センサステージ4を基板ステージ2の移動に干渉しない位置に待機させ、走査露光終了後に基板ステージ2を光照射装置3の光照射範囲外に待機させ、照度センサステージ4を走査して光照射装置3によって照度センサ4Sを走査露光する。 【選択図】図2

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