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公开(公告)号：CN102190654A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201110036567.0
申请日：2011-01-31
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 大竹俊裕
IPC: C07D409/14 , C08F16/30 , C08F12/32 , C08L29/10 , C08L25/18
CPC classification number: C07D409/14
Abstract: 本发明提供变形率高并且能够进行具有方向性的变形的刺激响应性化合物、刺激响应性化合物聚合物和使用了它们的致动器，本发明还提供刺激响应性化合物的制造方法。本发明的刺激响应性化合物，其特征在于，具有联噻吩、与所述联噻吩的α位键合的2个1，3-苯并二硫杂环戊基和与所述联噻吩的β位键合的2个具有液晶性的液晶性官能团，液晶性官能团具有聚合性官能团。聚合性官能团优选为乙烯基或丙烯酰基。液晶性官能团优选具有多个环结构。
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公开(公告)号：CN100426141C
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：CN200410088963.8
申请日：2004-11-09
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G03F1/00 , G03F7/20 , G02F1/1335 , G02F1/133 , H01L21/00
CPC classification number: G03F7/0005 , G02F1/133555 , G03F1/50
Abstract: 本发明可藉助简易制造工序得到具有良好的光散射效果的反射层。本发明的曝光用掩模7a用于将膜体51的被加工区域511制作成为粗糙面的曝光处理中。此曝光用掩模7a具有第一区域71和第二区域72。其中第一区域71用作使射向被加工区域511的周边的光透射的透光部81。另一方面，第二区域72，在包含分别设置遮蔽射向被加工区域511的光的遮光部84的多个点区域721的同时，在点区域721以外的区域设置以低于透光部81的光透射率使射向被加工区域511的光透射的半透射部86。
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公开(公告)号：CN1940671A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200610146729.5
申请日：2003-12-11
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1335
Abstract: 本发明提供一种电光装置用基板，其特征在于，具有：基板；在基板上形成的、在表面上具有多个凹部或凸部的基底层；在基底层的上边形成的、具有光反射性的反射层，多个凹部或凸部，被形成为不与基底层的缘端进行交叉。倘采用该电光装置用基板，由于凹凸面已被曝光为使其与基底层的缘端离开，故要形成缘端的侧壁面大体上变成为平坦面。因此，在感光性材料的显影处理时，就可以避免构成基底层的感光性材料的一部分发生剥离或再附着等的缺憾。
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公开(公告)号：CN1293427C
公开(公告)日：2007-01-03
申请号：CN200410087198.8
申请日：2004-11-04
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G02F1/133555 , G03F7/0005 , G03F7/0007
Abstract: 本发明其目的在于在凹凸部分中以比感光性树脂的膜厚浅的深度除去感光性树脂，在凹凸部分以外的部分中不残留感光性树脂地制造电光装置用基板。在电光装置用基板的制造工序中，首先，如图5(a)所示，向第2基板120上边涂敷感光性树脂132。接着，为了形成凹凸部，如图5(b)所示，用第1原版145进行第1次曝光。然后，在凹凸部分以外的部分中，为了一直到膜厚的深度为止都除去感光性树脂，如图5(c)所示，用第2原版148进行第2次曝光。在进行了两次曝光后，进行显影，形成基底层130。
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公开(公告)号：CN1228671C
公开(公告)日：2005-11-23
申请号：CN03110354.5
申请日：2003-04-09
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02B5/08 , G03F7/00
CPC classification number: G02B5/08 , G02B5/0242 , G02B5/0278 , G02B27/0025 , G02F1/133555 , G03F1/00
Abstract: 本发明的课题是，提供用于制造干涉条纹的发生少的光反射膜的掩模、使用该掩模的光反射膜、光反射膜的制造方法、具有干涉条纹的发生少的光反射膜的光学显示装置和具有干涉条纹的发生少的光反射膜的电子装置。使用以RGB点100～2,000个或整个画面为一个单位使光透过部或光不透过部在平面方向随机地排列的用于制造带光反射膜的基板的掩模，作成以RGB点100～2,000个或整个画面为一个单位使该多个凸部或凹部在平面方向随机地排列的带光反射膜的基板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1228670C
公开(公告)日：2005-11-23
申请号：CN03110346.4
申请日：2003-04-09
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02B5/08 , G03F7/00
CPC classification number: G02B5/021 , G02B5/0242 , G02B5/0289 , G02F1/133553 , G02F2203/03 , G03F1/50
Abstract: 本发明的课题是，提供用于制造干涉条纹的发生少的带光反射膜的基板的掩模、使用该掩模而形成的带光反射膜的基板、光反射膜的制造方法、具有干涉条纹的发生少的带光反射膜的基板的电光装置和具有干涉条纹的发生少的带光反射膜的基板的电子装置。作成带光反射膜的基板，以比点区域的数目少的点部分为一个单位形成光透过部或光不透过部，并且在该单位内不规则地排列，同时使用包含多个该单位的掩模，使在基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，同时使该多个凸部或凹部的平面形状成为相互重叠的圆和相互重叠的多边形或其中的某一种平面形状，并且使多个凸部或凹部在平面方向随机地排列。
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公开(公告)号：CN1614510A
公开(公告)日：2005-05-11
申请号：CN200410087198.8
申请日：2004-11-04
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G02F1/133555 , G03F7/0005 , G03F7/0007
Abstract: 本发明其目的在于在凹凸部分中以比感光性树脂的膜厚浅的深度除去感光性树脂，在凹凸部分以外的部分中不残留感光性树脂地制造电光装置用基板。在电光装置用基板的制造工序中，首先，如图5(a)所示，向第2基板120上边涂敷感光性树脂132。接着，为了形成凹凸部，如图5(b)所示，用第1原版145进行第1次曝光。然后，在凹凸部分以外的部分中，为了一直到膜厚的深度为止都除去感光性树脂，如图5(c)所示，用第2原版148进行第2次曝光。在进行了两次曝光后，进行显影，形成基底层130。
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公开(公告)号：CN1591112A
公开(公告)日：2005-03-09
申请号：CN200410057036.X
申请日：2004-08-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 大竹俊裕
IPC: G02F1/1333 , G02F1/133 , G03F7/20
CPC classification number: G02F1/133555
Abstract: 在电光装置用基板或电光装置中，通过变更基底层的图形形状，使基底层难于剥离，由此抑制反射膜的不良的发生，提高产品的合格率。本发明的电光装置用基板的特征在于：在基板上形成相互叠层配置的反射膜(213)和基底层(212)，排列包含反射膜和基底层的一部分的多个像素区域，在每个像素区域设置不形成反射膜的透过开口部(213a)和配置在与该透过开口部平面看重叠的位置上的不形成基底层的基底开口部(212a)，在相邻的上述像素区域间，基底开口部相互连续。
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公开(公告)号：CN1450391A
公开(公告)日：2003-10-22
申请号：CN03110346.4
申请日：2003-04-09
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02B5/08 , G03F7/00
CPC classification number: G02B5/021 , G02B5/0242 , G02B5/0289 , G02F1/133553 , G02F2203/03 , G03F1/50
Abstract: 本发明的课题是，提供用于制造干涉条纹的发生少的带光反射膜的基板的掩模、使用该掩模而形成的带光反射膜的基板、光反射膜的制造方法、具有干涉条纹的发生少的带光反射膜的基板的电光装置和具有干涉条纹的发生少的带光反射膜的基板的电子装置。作成带光反射膜的基板，以比点区域的数目少的点部分为一个单位形成光透过部或光不透过部，并且在该单位内不规则地排列，同时使用包含多个该单位的掩模，使在基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，同时使该多个凸部或凹部的平面形状成为相互重叠的圆和相互重叠的多边形或其中的某一种平面形状，并且使多个凸部或凹部在平面方向随机地排列。
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公开(公告)号：CN1392443A
公开(公告)日：2003-01-22
申请号：CN02123147.8
申请日：2002-06-19
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1335 , G03F1/00 , G02B5/10 , G02B1/04
CPC classification number: G02B5/201 , G02F1/133553
Abstract: 本发明的课题是，提供用于制造干涉条纹产生得少的附有光反射膜的基板的掩模、使用它的附有光反射膜的基板、光反射膜的制造方法、具有干涉条纹产生得少的附有光反射膜的基板的电光器件，以及具有干涉条纹产生得少的附有光反射膜的基板的电子装置。以如下方式制作附有光反射膜的基板：以比点区数少的点数为一个单元形成透光部或不透光部，并且将其在该单元内不规则地排列，同时使用含有多个该单元的掩模，使在基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，以及将该多个凸部或凹部的平面形状制成独立的圆和多边形，或者某一方的平面形状，并且在平面方向随机排列多个凸部或凹部。
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