평면형 광파 회로 기반의 집적 광학 칩
    31.
    发明公开
    평면형 광파 회로 기반의 집적 광학 칩 有权
    基于平面灯电路的集成光学芯片

    公开(公告)号:KR1020170011941A

    公开(公告)日:2017-02-02

    申请号:KR1020150136577

    申请日:2015-09-25

    Inventor: 김정원 김철

    Abstract: 일실시예에서, 집적광학칩은기판, 상기기판의일면상에형성된평면형광파회로기반의복수의광학컴포넌트, 및상기기판의상기일면상에형성되고, 상기복수의광학컴포넌트를서로연결하는복수의광도파로를포함한다. 일실시예에서, 상기복수의광학컴포넌트는비선형손실특성을가지는포화흡수체를포함한다. 상기포화흡수체는, 상기기판의상기일면상에형성되는코어층, 상기코어층의적어도일부를감싸는오버클래딩층, 및상기오버클래딩층의적어도일부상에형성되고상기코어층의적어도일부를도파하는광의감쇠장과상호작용하도록배치되는포화흡수층을포함할수 있다.

    감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체 및 그 제조 방법, 그리고 이를 이용한 펄스 레이저 장치, 그리고 이를 이용한 펄스 레이저
    32.
    发明公开
    감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체 및 그 제조 방법, 그리고 이를 이용한 펄스 레이저 장치, 그리고 이를 이용한 펄스 레이저 无效
    光波导型可饱和吸收体采用现场交互及其制造方法,使用其的脉冲激光装置和使用其的脉冲激光

    公开(公告)号:KR1020160094247A

    公开(公告)日:2016-08-09

    申请号:KR1020150088966

    申请日:2015-06-23

    Inventor: 김정원 김철

    CPC classification number: H01S3/11

    Abstract: 본발명은광도파로형포화흡수체에관한것으로서, 더욱상세하게는펨토초레이저공진기(cavity)내에모드잠금(mode-locking) 구현을위해설치되어사용되는감쇠장상호작용을이용한광도파로형포화흡수체및 그제조방법그리고이를이용한펨토초레이저에관한것이다. 이와같은목적을달성하기위한본 발명은감쇠장과상호작용하는광도파로형포화흡수체를제조하는방법으로서, (a) 웨이퍼상에배열식광도파로를제작하는단계; (b) 단계 (a)에서제작된배열식광도파로를진행하는빛의감쇠장이표면에누설되도록상기배열식광도파로의상부를일정한간격을두고선택적으로제거하고, 상기제거된부분을포함한일정한간격을가지는배열식광도파로상부에포화흡수물질을코팅하여일정한간격을가지는배열식포화흡수체를제작하는단계; 및 (c) 단계 (b)에서제작된배열식포화흡수체를다이싱하여개별분리시키는단계를포함한다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种光波导型可饱和吸收体,更具体地,涉及一种使用ev逝场相互作用的光波导型可饱和吸收体,其被安装用于实现飞秒激光腔中的模式锁定; 其制造方法和使用该方法的飞秒激光。 使用ev逝场相互作用制造光波导型可饱和吸收体的方法包括:(a)在晶片上制造排列型光波导的步骤; (b)以规定的间隔有选择地去除配置型光波导的上部的步骤,以使在步骤(a)中制造的布置型光波导上进行的渐逝光场泄漏到 光波导,并且包括去除部分的布置型光波导的上部并且具有可饱和吸收材料的预定间隔,从而以预定间隔制造布置型可饱和吸收体; 和(c)将在步骤(b)中制造的布置型可饱和吸收体切割成单独分离的步骤。 根据本发明,能够使用基板处理技术来实现使用ev逝场相互作用的光波导型可饱和吸收体的批量生产。

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