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公开(公告)号：KR1020160052754A
公开(公告)日：2016-05-12
申请号：KR1020167010483
申请日：2011-05-10
Applicant: 히타치가세이가부시끼가이샤
Abstract: 감광성도전필름(10)은, 필름지지체(1), 유기도전재료를함유하는도전층(2), 및감광성수지층(3)이이 순서로적층된구조를가진다. 감광성도전필름(10)에있어서, 유기도전재료는티오펜유도체의폴리머이면바람직하고, 감광성수지층(3)은, 바인더폴리머, 에틸렌성불포화결합을가지는광중합성화합물, 및광중합개시제를함유하는감광성수지조성물로이루어지는것이면바람직하다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020140111024A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：KR1020147022042
申请日：2013-04-02
Applicant: 히타치가세이가부시끼가이샤
CPC classification number: H05K3/02 , H01L31/1884 , H05K1/092 , H05K2201/0281 , H05K2203/0514 , Y02E10/50 , H01B5/14 , H01B5/16 , H01B7/0027 , H01B13/00 , H01B13/0026
Abstract: 본 발명의 도전 패턴의 형성 방법은, 지지 필름과, 도전성 섬유를 함유하는 도전층과, 감광성 수지를 함유하는 감광성 수지층을 이 순서로 구비하는 감광성 도전 필름을 준비하고, 기재 위에 도전층이 밀착되도록 도전층 및 감광성 수지층을 라미네이트하는 라미네이트 공정과, 상기 기재 위의 감광성 수지층을 노광 및 현상함으로써 도전 패턴을 형성하는 패터닝 공정을 구비한다.
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公开(公告)号：KR101333906B1
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：KR1020127004508
申请日：2009-07-23
Applicant: 히타치가세이가부시끼가이샤
Inventor： 야마자키히로시
IPC: H01B5/14 , G06F3/045 , G02F1/1343
CPC classification number: H05K1/0366 , G02F1/13439 , G02F2202/023 , G02F2202/36 , H05K1/092 , H05K1/097 , Y10T29/49144 , Y10T29/49156 , Y10T29/4916
Abstract: 본 발명과 관련되는 감광성 도전 필름(10)은, 지지 필름(1)과, 그 지지 필름(1) 상에 설치되어 도전성 섬유를 함유하는 도전층(2)과, 그 도전층(2) 상에 설치된 감광성 수지층(3)을 구비한다.
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公开(公告)号：KR1020130114265A
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：KR1020137022959
申请日：2009-07-23
Applicant: 히타치가세이가부시끼가이샤
Inventor： 야마자키히로시
CPC classification number: H05K1/0366 , G02F1/13439 , G02F2202/023 , G02F2202/36 , H05K1/092 , H05K1/097 , Y10T29/49144 , Y10T29/49156 , Y10T29/4916
Abstract: 본 발명과 관련되는 감광성 도전 필름(10)은, 지지 필름(1)과, 그 지지 필름(1) 상에 설치되어 도전성 섬유를 함유하는 도전층(2)과, 그 도전층(2) 상에 설치된 감광성 수지층(3)을 구비한다.
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公开(公告)号：KR1020130055699A
公开(公告)日：2013-05-28
申请号：KR1020137010621
申请日：2012-10-01
Applicant: 히타치가세이가부시끼가이샤
CPC classification number: G06F3/041 , G03F7/0005 , G03F7/027 , G03F7/09 , G03F7/092 , G03F7/095 , G03F7/0952 , G03F7/0955 , G03F7/2022 , G06F3/044 , G06F2203/04112 , H05K1/0274 , H05K1/0313 , H05K1/036 , H05K1/09 , H05K3/06 , H05K2201/0275 , Y10T428/24802 , G02F1/13439 , G03F7/004 , G03F7/0047 , G03F7/26
Abstract: 본 발명의 도전 패턴의 형성 방법은, 기판 상에 형성된 감광성 수지층과, 감광성 수지층의 기판과는 반대측의 면에 형성된 도전막을 포함하는 감광층에, 패턴상으로 활성 광선을 조사하는 제 1 노광 공정과, 산소 존재하에서, 감광층의 적어도 제 1 노광 공정에서의 미노광부의 일부 또는 전부에 활성 광선을 조사하는 제 2 노광 공정과, 제 2 노광 공정 후에 감광층을 현상함으로써 도전 패턴을 형성하는 현상 공정을 구비한다.
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公开(公告)号：KR1020120034810A
公开(公告)日：2012-04-12
申请号：KR1020127004508
申请日：2009-07-23
Applicant: 히타치가세이가부시끼가이샤
Inventor： 야마자키히로시
IPC: H01B5/14 , G06F3/045 , G02F1/1343
CPC classification number: H05K1/0366 , G02F1/13439 , G02F2202/023 , G02F2202/36 , H05K1/092 , H05K1/097 , Y10T29/49144 , Y10T29/49156 , Y10T29/4916
Abstract: 본 발명과 관련되는 감광성 도전 필름(10)은, 지지 필름(1)과, 그 지지 필름(1) 상에 설치되어 도전성 섬유를 함유하는 도전층(2)과, 그 도전층(2) 상에 설치된 감광성 수지층(3)을 구비한다.
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