積層体、導電性パターン及び電子回路
    31.
    发明专利
    積層体、導電性パターン及び電子回路 审中-公开
    层压,导电图案和电子电路

    公开(公告)号:JP2016120604A

    公开(公告)日:2016-07-07

    申请号:JP2014260359

    申请日:2014-12-24

    Abstract: 【課題】支持体の上にプライマー層、導電層及び金属めっき層が順次形成された積層体において、エレクトロケミカルマイグレーションが発生しにくいものを提供する。また、この積層体を用いた導電性パターン及び電子回路を提供する。 【解決手段】支持体(A)の上に、プライマー層(B)、導電層(C)及び金属めっき層(D)が順次形成された積層体であって、プライマー層(B)の表面自由エネルギーが20〜45mJ/m 2 であることを特徴とする積層体を用いる。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种层叠体,其具有底涂层,导电层和金属镀层,其依次形成在支撑体上,其中防止了电化学迁移的发生,并提供导电图案和由层压体制备的电子电路 解决方案:层压体具有底涂层(B),导电层(C)和依次形成在载体(A)上的金属镀层(D)),底涂层(B)的表面自由能为20 -45 mJ / m。选择图:无

    積層体、成形品、導電性パターン及び電子回路

    公开(公告)号:JPWO2020040120A1

    公开(公告)日:2021-03-11

    申请号:JP2019032392

    申请日:2019-08-20

    Abstract: 本発明は、ポリフェニレンスルフィド樹脂組成物からなる支持体(A)の上に、プライマー層(X)、金属層(B)及び金属めっき層(C)が順次積層された積層体であり、前記プライマー層(X)がエポキシ基を有する芳香族樹脂(x1)を含有する層である積層体、前記積層体を用いた成形品、導電性パターン及び電子回路を提供する。当該積層体は、ポリフェニレンスルフィドを支持体とし、その上に金属めっき層を設けた積層体であって、金属めっき層との密着性に優れ、かつ、高温環境下に晒された場合であっても、優れた密着性を維持することができる耐熱性も備える。

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