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公开(公告)号：CN103718230A
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201280037921.4
申请日：2012-07-31
CPC classification number: C03C21/002 , C03C15/00
Abstract: 本发明涉及的便携式设备用盖板玻璃的制造方法的构成，是包括在含有碱金属离子的玻璃基板的表面实施印刷处理的印刷处理工序的便携式设备用盖板玻璃的制造方法，其特征在于，利用玻璃基板的表面中在印刷处理工序中被实施印刷处理的印刷区域的水（水滴）的接触角与被印刷的玻璃基板的印刷品质具有相关关系这点，对具有满足该便携式设备用盖板玻璃所需的印刷品质的水接触角的玻璃基板进行印刷处理工序。
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公开(公告)号：CN103502172A
公开(公告)日：2014-01-08
申请号：CN201280022090.3
申请日：2012-05-10
CPC classification number: C03C21/002
Abstract: 本发明涉及的电子设备用保护玻璃的制造方法，其特征在于，包括以下工序：通过使四边形的玻璃基板浸渍于将化学强化盐加热熔融而成的化学强化处理液，对该玻璃基板进行化学强化处理的化学强化工序，以及在上述化学强化工序后，将上述玻璃基板从化学强化处理液中取出后，降低该玻璃基板的温度的冷却工序，在上述冷却工序中，以该化学强化处理液不在该玻璃基板表面固化的方式使其从玻璃基板表面排出。
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公开(公告)号：CN103476725A
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN201280017630.9
申请日：2012-05-02
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 一种电子设备用覆盖玻璃的玻璃基板的制造方法，其特征在于，具有：蚀刻工序，利用酸性的蚀刻溶液对玻璃基板进行蚀刻；和除去工序，以含有金属离子的酸性的电解质溶液除去附着于耐酸性物质上的化合物、即由于蚀刻工序而产生且由于蚀刻工序而成为酸性的氟铝酸碱金属盐。一种电子设备用覆盖玻璃的玻璃基板的制造装置，其特征在于，具有：蚀刻溶液供给机构，利用酸性的蚀刻溶液对玻璃基板进行蚀刻；和除去机构，以含有金属离子的酸性的电解质溶液除去附着于耐酸性物质上的化合物、即由于与蚀刻溶液的接触而产生且由于蚀刻溶液而成为酸性的氟铝酸碱金属盐。
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公开(公告)号：CN1269752C
公开(公告)日：2006-08-16
申请号：CN00120967.1
申请日：2000-08-02
CPC classification number: G02B5/285 , C03C3/078 , C03C3/083 , G02B5/288 , G02B6/29367 , G02B6/2938 , G02B7/008
Abstract: 一种玻璃基质用作WDM滤光器，滤光器是在玻璃基质上有一种光学多层膜，玻璃的成分与光学多层膜有关，需保证滤光器能稳定地进行光波长多路组合/多路分离操作。该玻璃含有SiO2作为玻璃网络形成物并在-30℃至+70℃的温度范围内具有平均线性热膨胀系数为100×10-7/K至130×10-7/K。除SiO2之外，该玻璃还可含有TiO2、Al2O3和R2O(R＝碱金属元素)并且有硬度适用于光学多层膜。
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公开(公告)号：CN1256720C
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：CN200410058904.6
申请日：1998-06-04
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/7315 , C03C3/078 , C03C3/087 , C03C3/095 , G11B5/6011 , G11B5/82 , G11B23/0028
Abstract: 一种用于信息存储媒体的基片是用杨氏系数为100GPa以上，液相温度为1350℃以下的玻璃制造的.本发明的目的是谋求磁盘的旋转高速化，克服使用以往的玻璃基片(用于信息存储媒体的基片)存在的难于稳定确保飞行高度的问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1558398A
公开(公告)日：2004-12-29
申请号：CN200410058904.6
申请日：1998-06-04
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/7315 , C03C3/078 , C03C3/087 , C03C3/095 , G11B5/6011 , G11B5/82 , G11B23/0028
Abstract: 一种用于信息存储媒体的基片是用杨氏系数为100GPa以上，液相温度为1350℃以下的玻璃制造的。本发明的目的是谋求磁盘的旋转高速化，克服使用以往的玻璃基片(用于信息存储媒体的基片)存在的难于稳定确保飞行高度的问题。
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公开(公告)号：CN1170273C
公开(公告)日：2004-10-06
申请号：CN98800744.4
申请日：1998-06-04
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/7315 , C03C3/078 , C03C3/087 , C03C3/095 , G11B5/6011 , G11B5/82 , G11B23/0028
Abstract: 一种用于信息存储媒体的基片是用杨氏系数为100GPa以上，液相温度为1350℃以下的玻璃制造的。本发明的目的是谋求磁盘的旋转高速化，克服使用以往的玻璃基片(用于信息存储媒体的基片)存在的难于稳定确保飞行高度的问题。
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公开(公告)号：CN115116486A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210846546.3
申请日：2019-03-28
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本申请涉及退火处理用板材、退火处理用板材的制造方法以及基板的制造方法。退火处理用板材被用于板状的坯料的退火处理，其是按照从两侧夹持上述坯料的方式所层积的2个以上的板材中的一个，其特征在于，具有至少一个主表面与上述坯料接触的一对主表面，具备在上述主表面开口并贯通上述板材的1个或2个以上的贯通孔。
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公开(公告)号：CN109923083B
公开(公告)日：2022-07-26
申请号：CN201780069628.9
申请日：2017-11-14
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 提供一种磁记录介质基板用玻璃，其为非晶态的氧化物玻璃，该非晶态的氧化物玻璃中，以摩尔％表示，SiO2含量为45～68％、Al2O3含量为5～20％、SiO2与Al2O3的总含量为60～80％、B2O3含量为0～5％、MgO含量为3～28％、CaO含量为0～18％、BaO和SrO的总含量为0～2％、碱土金属氧化物的总含量为12～30％、碱金属氧化物的总含量为3.5～15％，包含选自Sn氧化物和Ce氧化物组成的组中的至少一种，Sn氧化物和Ce氧化物的总含量为0.05～2.00％，该非晶态的氧化物玻璃的玻璃化转变温度为625℃以上、杨氏模量为83GPa以上、比重为2.85以下、且100～300℃的平均线性膨胀系数为48×10‑7/℃以上。
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公开(公告)号：CN102531384B
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201110444201.7
申请日：2011-12-27
Applicant: 安瀚视特股份有限公司 , HOYA株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种玻璃盖片及其制造方法，其在实现压缩层测定的容易化的同时，即使通过短时间的处理也可以充分发挥离子交换性能，由此能够高效地进行制造，能够提高机械强度。本发明涉及一种玻璃盖片，其在主表面具有压缩应力层，作为玻璃组成，其含有SiO2：50～70摩尔％、Al2O3：3～20摩尔％、Na2O：5～25摩尔％、Li2O：多于0摩尔％且为2.5摩尔％以下、K2O：0～5.5摩尔％和B2O3：0～小于3摩尔％；另外涉及一种玻璃盖片的制造方法，该方法包括以下工序：(1)将玻璃原料熔融而得到熔融玻璃；(2)通过下拉法将所得到的熔融玻璃成型为板状，得到玻璃基板；(3)在所得到的玻璃基板表面形成压缩应力层。
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