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公开(公告)号：CN113391515A
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN202110243881.X
申请日：2021-03-05
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供一种光掩模坯料，其在通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而形成转印图案时能够缩短过蚀刻时间，可以形成具有良好的截面形状、满足图案形成用薄膜或转印图案中所要求的耐清洗性、且满足要求的线边缘粗糙度的转印图案。所述光掩模坯料在透明基板上具有图案形成用薄膜，其中，光掩模坯料是用于形成光掩模的原版，所述光掩模通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而在透明基板上具有转印图案，图案形成用薄膜含有过渡金属和硅，图案形成用薄膜具有柱状结构、且包含上层及下层，构成上层中的柱状结构的粒子的平均尺寸小于构成下层中的柱状结构的粒子的平均尺寸。
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公开(公告)号：CN111258175A
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201911179769.3
申请日：2019-11-27
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供在通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而形成转印图案时能够缩短过蚀刻时间、可以形成具有良好的截面形状的转印图案的光掩模坯料。所述光掩模坯料在透明基板上具有图案形成用薄膜，其中，光掩模坯料是用于形成光掩模的原版，所述光掩模通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而在透明基板上具有转印图案，图案形成用薄膜含有过渡金属和硅，图案形成用薄膜具有柱状结构。
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公开(公告)号：CN101419398A
公开(公告)日：2009-04-29
申请号：CN200810177861.1
申请日：2008-06-12
Applicant: HOYA株式会社 , HOYA电子马来西亚有限公司
Abstract: 一种带有抗蚀剂膜的掩模坯板的制造方法，包括：一边从具有向一方向延伸的抗蚀剂液供给口的涂敷喷嘴中吐出抗蚀剂液、一边向与所述一方向相交叉的方向使所述涂敷喷嘴及基板的被涂敷面相对地扫描、在所述被涂敷面上涂敷所述抗蚀剂液的抗蚀剂液涂敷工序；其包括：准备在基板的主表面的除了沿周边的外周部之外的区域具有用于形成掩模图案的薄膜的基板的工序；和以下工序，所述工序为，以所述基板的主表面的沿着周边的外周部分的基板表面的露出面为接液开始部位，在使所述涂敷喷嘴的前端部接近所述基板表面的露出面，使所述抗蚀剂液接液所述基板表面的露出面时，在使所述涂敷喷嘴的前端部与所述基板表面的露出面之间的间隔相对小的状态下开始接液，然后将所述涂敷喷嘴的前端部与所述基板表面的露出面之间的间隔扩展到相对大的状态，结束接液。
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公开(公告)号：WO2007138747A1
公开(公告)日：2007-12-06
申请号：PCT/JP2007/000573
申请日：2007-05-29
IPC: H01L21/027 , G03F1/08 , H01L21/304
Abstract: 基板上に転写パターンとなる転写パターン用薄膜とレジスト膜が形成されたマスクブランクスにおいて、レジスト膜のみを剥離して転写パターン用薄膜と基板とを再利用可能とするレジスト膜剥離方法、マスクブランクスの製造方法、および転写マスクの製造方法を提供することを目的に以下の構成を採用する。基板(１１)上に遮光膜(１２)、および露光、現像前のレジスト膜(１４)が形成されたマスクブランクス(１)において、レジスト膜(１４)に膜厚むらが大きいなどの不具合が発生した場合、あるいは、マスクブランクス(１)の状態で長期間保存しておいたためレジスト膜(１４)の感度が変化した場合には、レジスト膜(１４)をオゾン水と接触させてレジスト膜(１４)を剥離するオゾン水処理を行う。そして、再度、レジスト膜(１４)を形成して、基板(１１)および遮光膜(１２)を再利用する。
Abstract translation: 提供一种抗蚀剂膜剥离方法，其中使用具有作为转印图案的转印图案薄膜和形成在基板上的抗蚀剂膜的掩模坯料，并且允许转印图案薄膜和基板通过仅剥离 抗蚀膜。 还提供了掩模空白制造方法和转印掩模制造方法。 在掩模坯料（1）中，在基板（11）上形成曝光和显影之前的遮光膜（12）和抗蚀剂膜（14）。 当产生抗蚀剂膜（14）厚度不均匀的问题时，或者由于在掩模坯料（1）的状态下由于长期保存而改变抗蚀剂膜（14）的灵敏度时，进行臭氧水处理 通过使抗蚀剂膜（14）与臭氧水接触来剥离抗蚀剂膜（14）。 然后，再次形成抗蚀膜（14），再次使用基板（11）和遮光膜（12）。
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