改进的闭塞器及其制备方法

    公开(公告)号:CN105873766A

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201480053368.2

    申请日:2014-07-31

    CPC classification number: B41J2/17596 B41J2/14201 B41J2202/05 F16K99/0048

    Abstract: 本发明涉及一种用于打印头的闭塞器装置(1),包括:闭塞器组件(3),闭塞器组件具有能够沿着至少一个移动方向(X)在第一位置和第二位置之间运动的阀表面(6),在第一位置中阀表面(6)与参考表面(A)具有一定距离,在第二位置中阀表面(6)接触参考表面(A);致动器(2),致动器被固定至闭塞器组件(3),并且能够被操作以在第一位置和第二位置之间移动闭塞器组件(3);其特征在于,闭塞器组件(3)包括可调节的耦接件(11),该耦接件被构造成允许阀表面(6)相对于参考表面(A)调节其定向,由此确保改善各表面之间的接合。

    喷墨记录方法
    34.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104144788B

    公开(公告)日:2016-06-29

    申请号:CN201380011973.9

    申请日:2013-03-01

    Inventor: 饭岛裕隆

    Abstract: 一种喷墨记录装置,其具有内置加热器的喷墨记录头、内置加热器的罐内部与大气连通的油墨罐和使喷墨记录头与油墨罐连通的油墨供给路线。一种喷墨记录方法,其包括:将所述油墨罐内在25℃下的粘度为1.0×103~1.0×106mPa·s的活性光线固化型喷墨油墨加热至A℃的工序;将所述喷墨油墨供给至喷墨记录头的工序;将喷墨记录头的所述喷墨油墨设为70℃以上且低于120℃的范围的温度B℃,向记录介质喷出的工序;对记录介质照射活性光线的工序,A℃为比B℃高5~30℃的温度。

    喷墨头及打印机
    36.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105667088A

    公开(公告)日:2016-06-15

    申请号:CN201510873166.9

    申请日:2015-12-02

    Inventor: 铃木伊左雄

    Abstract: 本公开涉及喷墨头及打印机。技术问题:在现有的喷墨头的吐出口的排列中,不能够兼顾浓度印刷和印刷速度。解决方案:根据一实施方式,提供一种喷墨头,其具备:基板;压电体,在该基板上具有在与喷嘴排列方向交叉的方向上排成多列的、沿所述喷嘴排列方向相隔一节距而平行的多个分隔壁;框体,在该压电体的外侧设于所述基板上;以及喷嘴板,其具有多个吐出口,该多个吐出口在由该框体以及所述多个分隔壁而形成为多列的压力室的每列处在所述喷嘴排列方向上各错开半个节距而形成,并分别在每个所述压力室处以与所述节距相同的节距沿所述交叉的方向形成。

    流体喷射设备和使液体在流体喷射设备中循环的方法

    公开(公告)号:CN103381708B

    公开(公告)日:2016-06-15

    申请号:CN201310140984.9

    申请日:2013-04-22

    Abstract: 流体喷射设备包括流体歧管、耦合到流体歧管的基板、以及设置在流体歧管与基板之间的流体分配结构。流体歧管包括流体供应室和流体返回室。基板限定流动路径,所述流动路径包括用于接收流体的流动路径入口、用于喷射流体液滴的喷嘴和用于引导走未喷射流体的流动路径出口。流体分配结构包括流体供应通道,其包括流体地耦合到流体供应室的供应入口和流体地耦合到流动路径的供应出口。流体分配结构还包括流体旁路通道,其包括流体地耦合到流体供应室的旁路入口、流体地耦合到流体返回室的旁路出口、以及在旁路入口与旁路出口之间向流体旁路通道提供补充流动阻力的流动抑制器。流动抑制器包括收敛-发散式狭道区段。

    液体喷射头以及液体喷射装置

    公开(公告)号:CN104070804B

    公开(公告)日:2016-04-27

    申请号:CN201410108474.8

    申请日:2014-03-21

    Inventor: 矢崎士郎

    CPC classification number: B41J2/14201 B41J2/14233 B41J2002/14491

    Abstract: 本发明提供液体喷射头以及液体喷射装置,能够减少压电元件驱动时的应力集中从而抑制构成部件的损伤。压电体层(28)以覆盖流路形成部件(15)中的多个压力室(22)的开口部的状态一体地形成,在与该压电体层中的相邻的压力室之间对应的区域,沿压力室的开口的边形成有贯通该压电体层的或者在该压电体层中厚度相对较薄的凹陷(31),该凹陷避开该区域中的沿压力室的角(30)的区域而形成。

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