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公开(公告)号：CN100396619C
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：CN200480015439.6
申请日：2004-05-17
Applicant: OTV股份有限公司
IPC: C02F1/32
CPC classification number: B08B9/023 , B08B1/008 , C02F1/325 , C02F2201/3227 , C02F2201/324
Abstract: 本发明涉及用紫外线照射对水进行消毒的装置，其用于安装在用紫外线照射对水进行消毒的设备的开放式通道中，所述消毒装置包括多个形成紫外线灯(3)的纵向部件，所述纵向部件的每个由一紫外线灯和一用透紫外线的透明材料制成的保护护套构成，并且所述纵向部件分布成多个垂直模块，所述多个垂直模块形成一灯架，每个模块由一桁架(1)和至少一滑架(5)构成，在所述桁架(1)上固定有至少两个形成垂直支承件(2)的部件，所述支承件(2)接纳至少一组形成灯(3)的所述部件，所述灯(3)按一个在另一个之上的方式布置在所述桁架(1)的下面，所述滑架(5)平移活动地安装在每个所述桁架(1)上，所述滑架(5)带有所述护套的清洁部件(4)，其特征在于，所述消毒装置包括所述滑架(5)组件的公共传动部件(6)，所述公共传动部件(6)不由所述模块支承。
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公开(公告)号：CN101177315A
公开(公告)日：2008-05-14
申请号：CN200710085406.4
申请日：2007-03-05
Applicant: 塞弗恩.特伦特水净化公司
CPC classification number: C02F1/325 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2201/328 , H01J65/044
Abstract: 一种水消毒设备，其包括用于确定水流的水道和多个紫外线光源，每个光源都包括：细长的紫外线灯单元，其包括至少一个紫外线灯泡，并且确定细长的紫外线灯单元的轴线；微波单元，其包括微波能量源，用于激发所述至少一个紫外线灯泡。在工作时，至少部分所述细长的灯单元与所述水流相遇，并且所述细长的灯单元的轴线与水流垂直。
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公开(公告)号：CN1798705A
公开(公告)日：2006-07-05
申请号：CN200480015439.6
申请日：2004-05-17
Applicant: OTV股份有限公司
IPC: C02F1/32
CPC classification number: B08B9/023 , B08B1/008 , C02F1/325 , C02F2201/3227 , C02F2201/324
Abstract: 本发明涉及用紫外线照射对水进行消毒的装置，其用于安装在用紫外线照射对水进行消毒的设备的开放式通道中，所述消毒装置包括多个形成紫外线灯(3)的纵向部件，所述纵向部件的每个由一紫外线灯和一用透紫外线的透明材料制成的保护护套构成，并且所述纵向部件分布成多个垂直模块，所述多个垂直模块形成一灯架，每个模块由一桁架(1)和至少一滑架(5)构成，在所述桁架(1)上固定有至少两个形成垂直支承件(2)的部件，所述支承件(2)接纳至少一组形成灯(3)的所述部件，所述灯(3)按一个在另一个之上的方式布置在所述桁架(1)的下面，所述滑架(5)平移活动地安装在每个所述桁架(1)上，所述滑架(5)带有所述护套的清洁部件(4)，其特征在于，所述消毒装置包括所述滑架(5)组件的公共传动部件(6)，所述公共传动部件(6)不由所述模块支承。
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公开(公告)号：CN1368940A
公开(公告)日：2002-09-11
申请号：CN00811520.6
申请日：2000-08-11
Applicant: 特洛伊人技术公司
Inventor： 冈·方 , 尤里·劳里辛 , 简·M·马尔斯哈尔克维尔德 , 道格拉斯·彭黑尔
CPC classification number: B08B9/023 , B08B1/008 , C02F1/325 , C02F2201/3223 , C02F2201/324 , Y10S422/906
Abstract: 一种用在包含射线源部件的液体处理系统中的清洗设备,该清洗设备包括:至少一个与射线源部件(150)的外部滑动啮合的清洗套筒(300);一个清洗室(310),它位于该至少一个的清洗套筒内,与射线源部件(150)的外部的一部分相接触,其中充满着清洗液,清洗室包括一个通向清洗套筒外边的开口(370);一个位于开口中的压力均衡构件(355),用来提供开口和清洗套筒的外部之间的密封,该压力均衡构件可以随着经此处的压力梯度而移动;以及沿射线源部件的外部调动该至少一个的清洗套筒的驱动装置。还描述了一种含有该清洗设备的液体处理系统。
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公开(公告)号：CN1081947C
公开(公告)日：2002-04-03
申请号：CN94191814.9
申请日：1994-03-04
Applicant: 特洛伊人技术公司
Inventor： J·M·马斯查克韦德
CPC classification number: B01J19/123 , C02F1/325 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2201/326 , Y10S422/906
Abstract: 一种流体处理系统，包括一个或多个排列在处理区内的辐照区中的辐射源，要处理的流体通过处理区并接受辐照。辐照区有一个闭合的横截面以将流体保持在距辐射源预定的最大距离之内。优选辐照区包括一个减小的垂直于流体流动方向的截面，从而可以提高流体流过辐照区时的速度。这样使得流体以较低的速度进入处理区而以较高的速度通过辐照区，再以较低的速度流出处理区，以尽量减少整个系统的压头损失。进入处理区的流体在进入辐照区之前先通过截面面积减少的进口过渡区，且出辐照区的流体通过一个截面面积增加的出口过渡区。每个过渡区都设计成当流体流速增加或减少时降低压头损失。在辐照区，辐射源被安装在辐射组件上，辐射组件的排列方式提高了维修的便利。辐射组件也可以拥有清洗组合件，当辐射源在辐照区中时清洗组合件能够原位清除污染辐射源的物质。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1289308A
公开(公告)日：2001-03-28
申请号：CN99802586.0
申请日：1999-01-27
Applicant: 肯尼思·雷·布里尔 , 德文·布伦科·格雷托雷克斯 , 蒂莫西·约翰·普林斯
Inventor： 肯尼思·雷·布里尔 , 德文·布伦特·格雷托雷克斯 , 蒂莫西·约翰·普林斯
CPC classification number: C02F1/325 , C02F2201/3223 , C02F2201/324
Abstract: 一种液体处理设备,该设备包括:一有一液体进口和一液体出口的壳体和连接该进口与该出口、供液体在其中流动的一通道;一照射器,该照射器有一透明照射窗,用来照射并处理在该通道中流动的液体;以及该通道中的一清洁装置,该清洁装置沿该窗的至少一部分移动、从而周期清扫该窗的至少一部分,该清洁装置受在该通道中流动的液体的推动。
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公开(公告)号：CN1176632A
公开(公告)日：1998-03-18
申请号：CN95196078.4
申请日：1995-11-06
Applicant: 卡尔根卡本加拿大公司
Inventor： 罗纳德·C·哈利特
CPC classification number: A61L2/10 , B01J19/123 , C02F1/325 , C02F2201/3223 , C02F2201/324 , C02F2201/328 , Y10S422/906
Abstract: 本发明涉及一个用于紫外线灯反应器的改进冷却系统,其产生的辐射处理一种流体介质,例如水、空气或溶液。特别是,该反应器系统适合于利用紫外线发射灯处理流体中的杂质,其中紫外线发射灯一般在超过300度的高温下工作。
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公开(公告)号：CN1176631A
公开(公告)日：1998-03-18
申请号：CN95195666.3
申请日：1995-02-18
Applicant: 沃垦过氧化反应系统有限公司
Inventor： 罗纳德·L·彼得森
CPC classification number: C02F1/325 , A23L3/00 , A23L3/28 , B01J19/0053 , B01J19/0073 , B01J19/123 , B01J2219/00247 , C02F2201/324
Abstract: 一种可更换的擦拭卡盘,它可保持在现有技术中公知的往复运动式刮削器内,后者在筒形反应室内部被轴向推动,以去除反应室内表面和沿反应室长度方向延伸的较小的同轴线管的外表面上的反应产物。该可更换的擦拭卡盘呈环形,有成45°的切口,以便径向稍稍扩张以容纳较小的管子,并与之紧紧地滑动配合,从而刮去较小管子上的任何沉积物。擦拭卡盘上有一凹槽用以容纳一O形环。
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公开(公告)号：CN1121320A
公开(公告)日：1996-04-24
申请号：CN94191814.9
申请日：1994-03-04
Applicant: 特洛伊人技术公司
Inventor： J·M·马斯查克韦德
CPC classification number: B01J19/123 , C02F1/325 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2201/326 , Y10S422/906
Abstract: 一种流体处理系统，包括一个或多个排列在处理区内的辐照区中的辐射源，要处理的流体通过处理区并接受辐照。辐照区有一个闭合的横截面以将流体保持在距辐射源预定的最大距离之内。优选辐照区包括一个减小的垂直于流体流动方向的截面，从而可以提高流体流过辐射区时的速度。这样使得流体以较低的速度进入处理区而以较高的速度通过辐照区，再以较低的速度流出处理区，以尽量减少整个系统的压头损失。进入处理区的流体在进入辐射区之前先通过截面面积减少的进口过渡区，且出辐照区的流体通过一个截面面积增加的出口过渡区。每个过渡区都设计成当流体流速增加或减少时降低压头损失。在辐照区，辐射源被安装在辐射组件上，辐射组件的排列方式提高了维修的便利。辐射组件也可以拥有清洗组合件，当辐射源在辐照区中时清洗组合件能够原位清除污染辐射源的物质。
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公开(公告)号：CN109133281A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201811295010.7
申请日：2018-11-01
Applicant: 广州新奥环境技术有限公司
CPC classification number: C02F1/50 , C02F1/32 , C02F1/76 , C02F2201/002 , C02F2201/007 , C02F2201/324 , C02F2201/326
Abstract: 本发明涉及一种MODS消毒系统，用于水处理消毒，包括消毒液制备模块、UV消毒模块及中控系统。上述的MODS消毒系统先将设有消毒液制备模块所制备的消毒液投放入污水内，然后污水与消毒液所形成的混合液经过UV消毒模块，利用紫外光照射次氯酸钠消毒液生成一种氧化性非常强的活性氧，活性氧的氧化性很强可以快速杀灭水中的微生物，同时经过UV消毒模块的过程中紫外线会进行快速杀菌，由于照射的时间很短，部分次氯酸钠消毒液仍然以游离氯的形式存在于水体当中，保证持续的杀菌效果，本申请不需要设置独立的接触消毒池，能保证持续的杀菌效果，避免因为二次污染或者微生活复活现象引起的水质超标问题，该系统的运行成本低于传统的消毒工艺，占地面积小。
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