公开(公告)号：CN104620177A

公开(公告)日：2015-05-13

申请号：CN201380044559.8

申请日：2013-07-19

Applicant: 麦克德米德印刷方案股份有限公司

Inventor： K·P·鲍德温

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/201

Abstract: 提供一种修整在制版过程中产生于光敏印刷坯料内的多个凸纹印刷网点的形状的方法。光可固化层曝光于使用UV LED灯组件的阵列的光化辐射下，UV LED灯组件的应用产生具有从由印刷网点的顶面的所希望的平面性、凸纹印刷网点所希望的肩斜角以及凸纹印刷网点所希望的边缘锐度所组成的组中选择的至少一种几何特征的凸纹印刷网点。

公开(公告)号：CN104597711A

公开(公告)日：2015-05-06

申请号：CN201510078816.0

申请日：2015-02-13

Applicant: 厦门天马微电子有限公司 ,  天马微电子股份有限公司

Inventor： 刘晓敏 ,  张龙 ,  周婷 ,  沈柏平

IPC: G03F1/76 ,  G03F1/50

CPC classification number: G03F1/50 ,  G03F1/76 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/201 ,  G03F7/32 ,  H01L21/0274

Abstract: 本发明提供了一种光罩，包括：一基材；设置在所述基材上的有机膜层，其中，所述有机膜层在紫外偏振光的照射下，能够定向排列；其中，所述光罩具有至少第一区域和第二区域，所述第一区域与第二区域的偏振轴方向具有夹角。上述光罩能通过控制带有区域偏振膜的光罩的紫外光强度，从而实现透射率可调。

公开(公告)号：CN104395832A

公开(公告)日：2015-03-04

申请号：CN201380034909.2

申请日：2013-03-29

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 梶山康一 ,  桥本和重 ,  新井敏成

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/1337

CPC classification number: G02F1/133788 ,  G02F1/1303 ,  G02F1/133753 ,  G02F2001/133757 ,  G03F7/201 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70325 ,  G03F7/70358

Abstract: 本发明提供一种光取向曝光装置及光取向曝光方法。将取向曝光方式适用于多域法时，消除单位图像区域的分割区域中的边界附近的取向混乱。一种光取向曝光装置(100)，其将液晶显示元件的各单位图像区域分割为多个分割区域，并分别向不同方向对各分割区域的取向材料膜进行光取向，所述光取向曝光装置具备：第1掩模(M1)及第1曝光装置(11)，用于单独接近式曝光第1分割区域(Da1)；第2掩模(M2)及第2曝光装置(12)，用于单独接近式曝光与第1分割区域(Da1)相邻的第2分割区域(Da2)；及第3掩模(M3)及第3曝光装置(13)，用于曝光第1分割区域(Da1)与第2分割区域(Da2)的边界附近的第1分割区域(Da1)侧的区域，第3曝光装置(13)相对于被曝光面Bs具备与第1曝光装置(11)或第2曝光装置(12)相同的光照射角度，在第3掩模(M3)的掩模开口与被曝光面(Bs)之间具备聚光机构(20)，其使掩模透射光聚光于边界附近的第1分割区域(Da1)侧的区域。

公开(公告)号：CN102044683B

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：CN201010527869.3

申请日：2010-10-21

Applicant: 通用汽车环球科技运作公司

Inventor： Y-H·赖 ,  G·W·弗莱 ,  J·A·罗克

IPC: H01M8/02 ,  B29C67/20

CPC classification number: G03F7/2014 ,  G03F7/201 ,  G03F7/203 ,  G03F7/70291 ,  H01M8/0221 ,  H01M8/0239 ,  H01M8/0284 ,  H01M8/0286

Abstract: 提供了用于微桁架泡沫材料加工的动态遮蔽方法和一种用于加工辐射固化结构的系统。该系统包括辐射敏感材料，被设置为在暴露于辐射中时进行激发、聚合、交联和离解中的至少一种。至少一个辐射源被设置用于向辐射敏感材料投射辐射束。智能玻璃设备被设置在辐射敏感材料和至少一个辐射源之间。智能玻璃设备包括至少一个可切换层，至少一个可切换层可以选择性地从激活状态到无效状态进行设置。智能玻璃设备被设置用于在激活状态和无效状态中的一种状态时将辐射敏感材料暴露于所需的暴露模式中。还提供了一种用于加工辐射固化结构的方法。

公开(公告)号：CN103459995A

公开(公告)日：2013-12-18

申请号：CN201280001300.0

申请日：2012-09-07

Applicant: 柯正浩

Inventor： 柯正浩

IPC: G01J3/18 ,  G02B6/13

CPC classification number: G01J3/04 ,  G01J3/02 ,  G02B6/12007 ,  G02B6/138 ,  G02B6/29307 ,  G02B6/29308 ,  G02B6/2931 ,  G02B2006/12107 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/201 ,  G03F7/2024 ,  G03F7/203 ,  G03F7/2039 ,  G03F7/30

Abstract: 一种光学波长分光装置（10）包括一第一基板（11）；一输入单元（12），形成于该第一基板（11）上，并具有一狭缝（121）以接收一光学讯号；一光栅（13），形成于该第一基板（11）上，用于从该光学讯号产生一第一光束用于输出；以及一第二基板（15），覆盖在该输入单元（12）和该光栅（13）的顶部上。其中，该输入单元（12）以及该光栅（13）系利用高能量光源曝光从一光阻层形成。

公开(公告)号：CN103403621A

公开(公告)日：2013-11-20

申请号：CN201180068248.6

申请日：2011-12-20

Applicant: 尤利塔股份公司

Inventor： H.索拉克 ,  F.克鲁贝

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/201 ,  G03F7/70408

Abstract: 一种用于向光敏层中印刷周期性特征的期望图案的方法和设备，包括步骤：提供承载所述层的衬底，提供掩膜，将衬底布置成使得其相对于衬底在与之正交的第一平面中具有倾斜角，提供用于对所述掩膜图案进行照明的基本准直光，从而在分隔开泰伯距离的泰伯平面之间产生由一范围的横向强度分布组成的透射光场，并且使得所述透射光场在第一平面中具有强度包络，用所述光对掩膜进行照明同时使衬底在平行于第一平面且平行于衬底的方向上相对于掩膜移位，其中，所述倾斜角和所述强度包络被布置成使得所述层暴露于横向强度分布的范围的平均。

公开(公告)号：CN102782445A

公开(公告)日：2012-11-14

申请号：CN201180011111.7

申请日：2011-02-11

Applicant: 麦克德米德印刷方案股份有限公司

Inventor： D·A·雷基亚 ,  T·戈奇克

IPC: G01B11/00 ,  G01N21/55

CPC classification number: B41N1/06 ,  B41C1/055 ,  B41M1/04 ,  B41N1/12 ,  G03F7/09 ,  G03F7/201 ,  G03F7/2012 ,  G03F7/202 ,  Y10T428/24521

Abstract: 本发明提供一种由感光印刷版坯料制造凸纹图像印刷元件的方法。通过激光对具有置于至少一层光可固化层上的激光可烧蚀层的感光印刷版坯料进行烧蚀，以产生原位光掩模。接着透过此原位光掩模将印刷版坯料曝露于至少一种光化辐射源下，以有选择地使部分光可固化层交联并固化。在曝光步骤期间，对扩散进入到至少一层该光可固化层内的空气进行限制；并且在曝光步骤期间，优选来自至少一种光化辐射源的照明的类型、功率和入射角中的至少一个条件发生改变。所得的凸纹图像包含多个圆点，并且多个圆点的圆点形状可在各种不同基材(包括瓦楞纸板)上提供最适的印刷性能。

公开(公告)号：CN101995598A

公开(公告)日：2011-03-30

申请号：CN201010248400.6

申请日：2010-08-09

Applicant: JDS尤尼弗思公司

Inventor： 大卫·M.·西蒙 ,  谭金龙

IPC: G02B5/30 ,  G02B1/12 ,  G03F1/14

CPC classification number: G02B27/48 ,  G02B5/3016 ,  G02B5/3083 ,  G03F7/201 ,  G03H2001/2276 ,  G03H2240/11 ,  G03H2250/38

Abstract: 本发明提供一种制造包括具有空间上变化的倾角的液晶层的光学元件的方法，包括：使用线性光聚合的聚合物层涂覆衬底，使用线偏振紫外光以斜角照射线性光聚合的聚合物层，以及在所照射的线性光聚合的聚合物层的表面上涂敷一层液晶材料。液晶材料在其倾角和线偏振紫外光的总剂量之间有预定的关系。使用至少一个剂量的线偏振紫外光照射线性光聚合的聚合物层，所述至少一个剂量的线偏振紫外光足以引起在具有比相邻区域更大的面内双折射率的液晶层内形成多个离散区域。

公开(公告)号：CN101636671A

公开(公告)日：2010-01-27

申请号：CN200880008970.9

申请日：2008-03-19

Applicant: 木本股份有限公司

Inventor： 饵取英树

IPC: G02B5/02 ,  B29C33/38 ,  B29C33/42 ,  G02B3/00 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/13357 ,  B29L11/00

CPC classification number: G02B5/0278 ,  B29C33/3842 ,  B29C33/424 ,  G02B3/0012 ,  G02B5/021 ,  G02B5/0226 ,  G02B5/0242 ,  G02B5/0268 ,  G02F1/1303 ,  G02F1/133707 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/2008 ,  G03F7/201 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/7035 ,  G03F7/70533

Abstract: 本发明提供一种使用光掩模，可轻易且以高精度形成所希望的凹凸形状的表面凹凸的制作方法。在包含感光性树脂组合物的感光膜(10)的一侧，相对于感光膜(10)隔着间隔而配置具有光透射部与光不透射部的掩模构件(20)，在掩模构件(20)的感光膜(10)的相反侧配置光扩散构件(30)。从配置在光扩散构件(30)的掩模构件(20)的相反侧的光源照射光，通过光扩散构件(30)与掩模构件(20)的光透射部而将感光膜(10)进行曝光。利用显影来除去感光膜(10)的曝光部或未曝光部，在感光膜(10)制作取决于曝光部或未曝光部的形状的凹凸。在进行曝光时，控制光扩散构件(30)的浊度等曝光条件，控制曝光部或未曝光部的形状。

公开(公告)号：CN100536072C

公开(公告)日：2009-09-02

申请号：CN200680012357.5

申请日：2006-11-06

Applicant: 韩国科学技术院

Inventor： 全振完 ,  尹浚宝 ,  林宏树

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/201 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/7035 ,  G03F7/70383 ,  Y10T428/24802

Abstract: 一种在基板上制造聚合物或抗蚀剂图案的方法，包括在基板上涂敷光敏聚合物或抗蚀剂以形成聚合物或抗蚀剂层，确定聚合物或抗蚀剂层需要曝光的部分，将光调节层放置在照射于聚合物或抗蚀剂层上的光的光路上，并调节光调节层以调节照射于聚合物或抗蚀剂层上的光的方向或强度。根据该方法，通过在实行光刻工艺时调节入射光的方向和强度，很容易制造分别具有三维结构的聚合物或抗蚀剂图案、金属膜图案、金属图案结构以及聚合物模具，所述结构具有多种斜度或形状。