公开(公告)号：KR1020160117417A

公开(公告)日：2016-10-10

申请号：KR1020167017143

申请日：2015-02-03

Applicant: 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤

Inventor： 요키노다카후미 ,  시바야마가츠미 ,  가토가츠히코

IPC: G01J3/28 ,  G01J3/02 ,  G01J3/18

CPC classification number: G01J3/2803 ,  G01J3/0202 ,  G01J3/0256 ,  G01J3/0286 ,  G01J3/0291 ,  G01J3/18 ,  G01J2003/1852

Abstract: 분광기(1A)는, 스템(4) 및캡(5)을가지는패키지(2)와, 스템(4) 상에배치된광학유닛(10A)과, 스템(4)에광학유닛(10A)을고정하는리드핀(3)을구비한다. 광학유닛(10A)은, 캡(5)의광 입사부(6)로부터입사한광을분광함과아울러반사하는분광부(21)와, 분광부(21)에의해서분광됨과아울러반사된광을검출하는광 검출부(31)를가지는광 검출소자(30)와, 분광부(21)와광 검출소자(30)와의사이에공간이형성되도록광 검출소자(30)를지지하는지지체(40)와, 지지체(40)로부터돌출되며, 리드핀(3)이고정된돌출부(11)를가진다. 광학유닛(10A)은, 광학유닛(10A)과스템(4)과의접촉부에서, 스템(4)에대해서이동가능한상태로되어있다.

Abstract translation: 光谱仪1A包括具有杆4和盖5的封装2，设置在杆4上的光学单元10A和用于将光学单元10A固定到杆4的引导销3。光学单元10A包括分散部分 21，用于分散和反射从灯头5的光入射部分6进入的光;光检测元件30，具有用于检测由色散部分21分散和反射的光的光检测部分31;用于支撑光检测的支撑件40 元件30，使得在分散部分21和光检测元件30之间形成空间，以及从支撑件40突出的突起11，引脚3固定到突起11上。光学单元10A可相对于 在光学单元10A和杆4的接触部分中的杆4。

公开(公告)号：KR101588907B1

公开(公告)日：2016-01-26

申请号：KR1020107010496

申请日：2009-03-24

Applicant: 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤

Inventor： 스즈키히사노리 ,  요네타야스히토 ,  오츠카신야 ,  무라마츠마사하루

IPC: H01L27/146 ,  H04N5/335

CPC classification number: H04N5/3692 ,  G01J3/2803 ,  H01L27/14825 ,  H04N5/3535

Abstract: 고체촬상장치(1)는복수의광전변환부(3), 복수의제1 전송부(5), 복수의전하축적부(7), 복수의제2 전송부(9), 및시프트레지스터(11)를구비하고있다. 각광전변환부(3)는평면형상이두 개의장변과두 개의단변에의해형태가만들어지는거의직사각형상을이루는광감응영역(13)과, 광감응영역(13)의평면형상을이루는일방의단변측으로부터타방의단변측을향하는제1 방향을따라높아진전위기울기를형성하는전위기울기형성영역(15)을갖고있다. 각제1 전송부(5)는대응하는광감응영역(13)의평면형상을이루는타방의단변측에배치되어, 대응하는광감응영역(13)으로부터취득한전하를제1 방향으로전송한다. 각전하축적부(7)는대응하는제1 전송부(5)로부터전송된전하를축적한다. 이로인해, 화상처리가복잡하게되는일 없이광감응영역에발생한전하를고속으로독출하는것이가능한고체촬상장치가실현된다.

公开(公告)号：KR1020150119833A

公开(公告)日：2015-10-26

申请号：KR1020157002222

申请日：2014-02-26

Applicant: 오츠카 일렉트로닉스 가부시키가이샤

Inventor： 시라이와히사시

IPC: G01J3/02 ,  G01J3/42

CPC classification number: G01J3/0264 ,  G01J1/44 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0232 ,  G01J3/0262 ,  G01J3/2803 ,  G01J3/42 ,  G01J2001/4406 ,  G01J2001/444 ,  G01J2001/448

Abstract: 분광광도계이며, 수광한광을전기신호로변환해서출력하는광 검출부와, 복수의게인앰프와복수의 AD 컨버터를포함하고, 상기광 검출부로부터의출력신호를, 상기복수의게인앰프를사용해서복수의게인으로증폭시킴과함께, 상기복수의 AD 컨버터를사용해서디지털신호로변환하고, 복수의광량데이터로서출력하는회로부와, 상기회로부로부터의각 광량데이터가포화되었는지여부를판정하는포화판정부와, 상기포화판정부의판정결과에따라, 상기복수의광량데이터중 일부또는전부의광량데이터를사용해서상기수광한광의측정결과를산출하는측정결과산출부를포함하는것을특징으로한다.

公开(公告)号：KR101415808B1

公开(公告)日：2014-07-04

申请号：KR1020110110552

申请日：2011-10-27

Applicant: 캐논 가부시끼가이샤

Inventor： 고바야시히사노리 ,  고모리신 ,  오바라미쯔히로

IPC: G01J3/46 ,  G01J3/18 ,  G01J3/02

CPC classification number: G01J3/502 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0237 ,  G01J3/0248 ,  G01J3/04 ,  G01J3/20 ,  G01J3/28 ,  G01J3/2803 ,  G01J3/50 ,  G01J2003/2866

Abstract: 분광 측색 장치는 측벽을 포함하는 하우징을 포함한다. 측벽의 외측 면은 리니어 센서를 조정면에 부착한 상태에서, 이동됨으로써 리니어 센서의 위치를 조정할 수 있는 조정면이다. 리니어 센서는 조정면에 맞닿은 상태에서 하우징의 측벽에 의해 지지되고, 오목면 반사형 회절 소자에 의해 분광되어 개구부를 통과하는 광속을 수광한다. 조정면은 오목면 반사형 회절 소자의 로우랜드 원 중 리니어 센서가 수광하는 광속이 통과하는 부분에 있어서의 접선과 평행한다.

公开(公告)号：KR1020140053948A

公开(公告)日：2014-05-08

申请号：KR1020147000593

申请日：2012-07-11

Applicant: 소니 주식회사

Inventor： 요코가와소조

IPC: H01L27/146

CPC classification number: H01L27/14621 ,  G01J3/0259 ,  G01J3/027 ,  G01J3/12 ,  G01J3/18 ,  G01J3/2803 ,  G01J3/2823 ,  G01J2003/1213 ,  G01J2003/2806 ,  G01J2003/2816 ,  G01J2003/282 ,  G01J2003/2826 ,  G02B5/008 ,  G02B5/201 ,  H01L27/14629 ,  H04N5/332 ,  H04N5/374 ,  H04N5/378 ,  H04N9/07

Abstract: 본 기술은, 고감도이면서 높은 파장 분해능을 갖는 가시·근적외선용의 분광·촬상 디바이스를 실현하는 것이 가능하고, 공간 해상도가 높은 2차원 분광 매핑을 가능하게 하는 고체 촬상 소자 및 촬상 시스템을 제공할 수 있는 고체 촬상 소자 및 촬상 시스템에 관한 것이다. 2차원 화소 어레이와, 2차원 화소 어레이의 화소 영역에 대향하도록 배치되고, 검출하여야 할 파장보다도 짧은 주기적인 미세 패턴을 갖는 분광 기능을 구비한 복수종류의 필터를 가지며, 각 필터는, 2차원 화소 어레이의 각 화소의 광전 변환 소자보다도 크고, 인접하는 복수의 광전 변환 소자군에 대해 1종류의 필터가 배치되어 하나의 유닛을 형성하고, 복수종류의 필터는, 인접하는 유닛군에 대해 배치되어 필터 뱅크를 형성하고, 필터 뱅크가 2차원 화소 어레이의 화소 영역에 대향하도록, NxM유닛(단, N, M은 1 이상의 정수) 배치되어 있다.

公开(公告)号：KR101389171B1

公开(公告)日：2014-04-24

申请号：KR1020127015975

申请日：2008-06-05

Applicant: 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤

Inventor： 시바야마가츠미 ,  테이크만헬무트 ,  요키노다카후미 ,  스즈키도모후미 ,  힐러디에트마르 ,  스탈케르울리치

IPC: G01J3/02

CPC classification number: G01J3/02 ,  G01J3/0202 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0256 ,  G01J3/0259 ,  G01J3/0262 ,  G01J3/18 ,  G01J3/2803

Abstract: 분광 모듈(1)은 본체부(2)가 판 형상이기 때문에, 본체부(2)의 박형화에 의해 소형화를 도모할 수 있다. 또한, 본체부(2)가 판 형상이기 때문에, 예를 들어 웨이퍼 프로세스를 이용하여 분광 모듈(1)을 제조할 수 있다. 즉, 다수의 본체부(2)가 되는 유리 웨이퍼에 대해 매트릭스 형상으로 렌즈부(3), 회절층(4), 반사층(6) 및 광검출 소자(7)를 마련하고, 당해 유리 웨이퍼를 다이싱하는 것에 의해 분광 모듈(1)을 다수 제조할 수 있다. 이와 같이 하여, 분광 모듈(1)을 용이하게 대량 생산하는 것이 가능하게 된다.

公开(公告)号：KR1020130028844A

公开(公告)日：2013-03-20

申请号：KR1020120025378

申请日：2012-03-13

Applicant: 가부시끼가이샤 도시바

Inventor： 후지이다까요시 ,  콘노유사꾸 ,  가네꼬마꼬또 ,  야마자끼유이찌로 ,  와따비끼미쯔또시 ,  요시노기미노리 ,  이이다유스께

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G01J3/42 ,  G01J3/2803 ,  G01J5/0007 ,  G01N21/95607

Abstract: PURPOSE: A pattern inspection apparatus and a method thereof are provided to improve throughput by using a spectroscope and a collimator. CONSTITUTION: A collimator irradiates line beam to a wafer(21). A spectroscope splits the line beam reflected from the wafer. A 2D detector outputs a signal including the spectrum information of the line beam. A comparison unit(18) compares the spectrum information. A judgment unit(19) determines the defect of the wafer. [Reference numerals] (18) Comparison unit; (19) Judgment unit

Abstract translation: 目的：提供图案检查装置及其方法，以通过使用分光器和准直器来提高生产率。 构成：准直仪将线束照射到晶片（21）。 分光镜分离从晶片反射的线束。 2D检测器输出包括线束的频谱信息的信号。 比较单元（18）比较频谱信息。 判断单元（19）确定晶片的缺陷。 （附图标记）（18）比较单元; （19）判决单位

公开(公告)号：KR1020120103480A

公开(公告)日：2012-09-19

申请号：KR1020120023733

申请日：2012-03-08

Applicant: 오츠카 일렉트로닉스 가부시키가이샤

Inventor： 사노히로유끼 ,  다구찌구니까즈

IPC: G01J3/36

CPC classification number: G01J3/0291 ,  G01J3/0218 ,  G01J3/0232 ,  G01J3/0262 ,  G01J3/027 ,  G01J3/18 ,  G01J3/2803

Abstract: PURPOSE: A device and a method for measuring spectral characteristics are provided to stably measuring the spectral characteristics even when an environment is changed a lot. CONSTITUTION: A method for measuring spectral characteristics is as follows. As to a device for measuring spectrums, the light in a second wavelength range which is a part of a first wavelength range is incident(S100). The characteristic information showing stray light components is obtained from the part corresponding to the range except for the second wavelength range among a first spectrum(S102). The characteristic information is extrapolated until the second wavelength range among the first wavelength range(S124). A pattern showing the stray light components is obtained in the device for measuring the spectrums(S126). [Reference numerals] (AA) Obtaining a stray light pattern; (BB) Finish; (S100) Preparing incident light for obtaining a stray light spectrum; (S102) Obtaining a spectrum measured in a measuring machine; (S104) Obtaining the strength of a signal detected in the correction area of a photodetector; (S110) Forming a state that the light is blocked to the measuring machine; (S112) Obtaining a dark spectrum detected from the measuring machine; (S120) Reducing a dark spectrum from the measured spectrum; (S122) The interpolation is performed using the value of a short wavelength from a cutoff wave length; (S124) The extrapolation is performed using an approximation function; (S126) Obtaining a stray light pattern by standardizing a stray light spectrum

Abstract translation: 目的：提供一种用于测量光谱特性的装置和方法，以便即使当环境发生很大变化时也能稳定地测量光谱特性。 构成：用于测量光谱特性的方法如下。 对于用于测量光谱的装置，入射了作为第一波长范围的一部分的第二波长范围的光（S100）。 显示杂散光分量的特征信息从对应于第一光谱中的第二波长范围之外的范围的部分获得（S102）。 特征信息被外推直到第一波长范围内的第二波长范围（S124）。 在用于测量光谱的装置中获得显示杂散光成分的图案（S126）。 （附图标记）（AA）获得杂散光图案; （BB）完成; （S100）准备入射光以获得杂散光谱; （S102）获取测定机中测定的光谱; （S104）获得在光电检测器的校正区域中检测到的信号的强度; （S110）形成光被阻挡到测量机的状态; （S112）获取从测量机检测到的暗谱; （S120）从测量光谱中减少暗谱; （S122）使用截止波长的短波长的值进行插值; （S124）外推使用近似函数进行; （S126）通过标准化杂散光谱获得杂散光图案

公开(公告)号：KR1020120088654A

公开(公告)日：2012-08-08

申请号：KR1020127004913

申请日：2010-07-28

Applicant: 엔이씨 솔루션 이노베이터 가부시키가이샤

Inventor： 가미무라,이뻬이

IPC: G01J3/51 ,  G01J3/36 ,  G01J3/02 ,  G01J3/18 ,  G01J3/28 ,  G02B5/18 ,  G02B5/20 ,  G02B27/10 ,  G02B27/42

CPC classification number: G01J3/18 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0256 ,  G01J3/1895 ,  G01J3/2803 ,  G01J3/36 ,  G01J3/51 ,  G02B5/1809 ,  G02B5/204 ,  G02B27/1013 ,  G02B27/1086 ,  G02B27/4244

Abstract: 투과되는 광을 분광하는 필터 부재(1)와, 복수의 수광 소자를 갖는 광 검출기(2)를 구비하고 있다. 필터 부재(1)는 광 투과성을 갖는 기판과, 기판의 한쪽 면 위에 제1 금속 재료로 형성된 복수의 볼록부와, 제1 금속 재료보다도 굴절률이 높은 제2 금속 재료에 의해, 복수의 볼록부와 함께 기판의 한쪽 면을 덮도록 형성된 금속막을 구비하고 있다. 복수의 볼록부는 인접하는 볼록부 간에 존재하는 금속막이 회절 격자가 되고, 볼록부가 도파로가 되도록 배치된다. 회절 격자의 격자 주기, 볼록부의 높이 및 금속막의 두께 중 적어도 1개는, 필터 부재를 투과하는 광의 파장이 부분마다 변화되도록, 부분마다 다른 값으로 설정되어 있다. 광 검출기(2)는 복수의 수광 소자(21) 각각이, 필터 부재(1)를 투과되는 광을 수광하도록 배치되어 있다.

公开(公告)号：KR1020110082111A

公开(公告)日：2011-07-18

申请号：KR1020107028824

申请日：2009-06-05

Applicant: 고꾸리쯔 다이가꾸 호우징 도요하시 기쥬쯔 가가꾸 다이가꾸

Inventor： 사와다가즈아키 ,  이시이히로야스 ,  마루야마유키

IPC: G01J3/32 ,  G01N21/64

CPC classification number: G01J3/32 ,  G01J3/02 ,  G01J3/027 ,  G01J3/2803 ,  G01J3/4406 ,  H01L27/14609

Abstract: 형광분석법에 있어서 검사대상인 ＤＮＡ 등으로부터 발생하고 있는 형광을 높은 정밀도로 검출하는 것데 적절한 신규 구성의 분광장치를 제안한다.
분광 대상광에 있어서 게이트 전압의 값으로 특정되는 파장이상의 파장성분의 빛의 세기에 대응하는 전하량을 출력하는 분광 센서 본체(21)와, 상기 분광 센서 본체(21)로부터 출력된 전하량에 따른 전압을 출력하는 플로팅 디퓨젼부(51)를 구비하여 이루어지는 분광장치(10)로서, 플로팅 디퓨젼부(51)는 직렬로 연결된 복수의 전하웰(53, 55)을 구비하고 전하웰 별로 출력전압이 검출된다.