耐切割性聚乙烯纱线
    42.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116324056A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202180065214.5

    申请日:2021-12-29

    Abstract: 本发明涉及一种耐切割性聚乙烯纱线,具体涉及能够制造在具备优秀的耐切割性的同时具备优秀的耐磨性的产品,并且能够制造实际上可应用于高危险性的工业及灾难现场的纤维产品的耐切割性聚乙烯纱线。

    纳米膜、纳米膜组装体及纳米膜的制造方法

    公开(公告)号:CN116096483A

    公开(公告)日:2023-05-09

    申请号:CN202080104271.5

    申请日:2020-08-26

    Abstract: 公开一种纳米膜,由于其防尘性得到提高,因此可有效防止物质、污染物/灰尘等进入印刷电路板(PCB,Printed Circuit Board)、微机电系统(MEMS,Micro‑Electro‑Mechanical System)麦克风等电子设备内部,与此同时其透气度和声音透射率未下降。本公开涉及一种纳米膜,其包括平均直径为0.5μm至20μm的多个孔,其中,每个孔的最大直径为30μm、最小直径为0.1μm,孔隙率为50%至90%。

    聚合物电解质膜和包括该聚合物电解质膜的膜-电极组件

    公开(公告)号:CN115868048A

    公开(公告)日:2023-03-28

    申请号:CN202180050228.X

    申请日:2021-11-24

    Abstract: 公开了一种聚合物电解质膜和包括该聚合物电解质膜的膜‑电极组件,所述聚合物电解质膜具有优异的机械性能而在如离子电导率的性能方面不劣化,以保证制造具有湿/干循环为30,000次以上的这种高耐久性的膜‑电极组件,所述湿/干循环根据NEDO方案的加速耐久性试验方法测量。本发明的聚合物电解质膜包括:具有多个孔隙的多孔载体;和包含填充所述孔隙的离聚物的复合层,其中,所述聚合物电解质膜的穿刺初始应变(IS)与该聚合物电解质膜的穿刺最终应变(FS)的比例(IS/FS)为0.4至1.0。

    包封组合物和发光器件
    50.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115820014A

    公开(公告)日:2023-03-21

    申请号:CN202211114765.9

    申请日:2022-09-14

    Inventor: 李珠荣 金炅钟

    Abstract: 本发明提供一种包封组合物和一种发光器件,所述包封组合物包含:单体化合物和引发剂,其中,所述单体化合物包括第一单体和第二单体,其中,所述第一单体由下面的化学式1表示,所述第二单体包括具有两个以上官能团的多官能团单体,所述官能团包括丙烯酸酯基团和甲基丙烯酸酯基团中的至少一种;所述发光器件具有至少一个包括由所述包封组合物形成的有机固化膜的表面。

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