一种多孔金刚石的制备方法
    42.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117737708A

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202410151107.X

    申请日:2024-02-02

    Abstract: 一种多孔金刚石的制备方法,本发明为了解决现有制备多孔金刚石的方法成本高昂,难以高效制备的问题。制备方法:一、对金刚石进行清洗,再在900‑950℃温度下通过氢氧等离子体刻蚀处理,完成预处理;二、采用磁控溅射工艺在金刚石上依次镀有钛膜和铁膜;三、将镀有钛‑铁膜的金刚石放入MPCVD装置中,升高气压和功率,以950‑1000℃的温度进行金属催化氢氧等离子体刻蚀;四、将刻蚀后的金刚石浸入混酸溶液中进行高温酸洗处理。本发明直接在金刚石表面制备多孔结构,多孔结构分布更密集更均匀且呈现三维刻蚀结构,多孔结构普通孔隙直径约1‑20μm,大孔孔隙直径约50μm以上,大幅提升了金刚石的比表面积。

    一种在Mo衬底上制备具有规则晶型的纳米金刚石颗粒的方法

    公开(公告)号:CN114657533B

    公开(公告)日:2023-04-28

    申请号:CN202210360654.X

    申请日:2022-04-07

    Abstract: 一种在Mo衬底上制备具有规则晶型的纳米金刚石颗粒的方法,本发明是为了解决现有以金属衬底,采用CVD法制备纳米金刚石得到的纳米金刚石数量少、形状不规则的问题。制备具有规则晶型的纳米金刚石颗粒的方法:一、清洗Mo片及Mo托;二、将Mo片放置在MPCVD装置的沉积系统腔体内,Mo托放置在Mo片上,抽真空后通入H2和CH4,调节微波功率,进行气相沉积,得到带有纳米金刚石的Mo片;三、关闭沉积系统,冷却后将带有纳米金刚石的Mo片放入去离子水中超声,得到纳米金刚石分散液。本发明通过Mo托将等离子体位置提高,使等离子体边缘远离Mo片,减小H等离子体刻蚀,在Mo衬底上制备得到了具有规则晶型的纳米金刚石颗粒。

    利用金刚石NV色心原位表征异质界面状态的方法

    公开(公告)号:CN111584382B

    公开(公告)日:2023-02-24

    申请号:CN202010345111.1

    申请日:2020-04-27

    Abstract: 利用金刚石NV色心原位表征异质界面状态的方法,本发明属于半导体材料及器件技术领域,它要解决现有在异质结两相相接界面处电荷状态分布、电子输运特性难以采用常规方法进行精确测量的问题。表征方法:一、对金刚石基底进行清洗;二、通过CVD法在金刚石基底表面生长NV色心层;三、使用显微镜聚焦到金刚石上生长的NV色心层,测得测试点处的第一次拉曼光谱;四、在生长NV色心层的金刚石表面生长待测的异质结;五、再次测得测试点处的拉曼光谱;将测试点处的第一次拉曼光谱与第二次拉曼光谱进行对比。本发明通过在界面连接处的金刚石亚表面层使用MPCVD法生长含有NV色心的薄层,能够准确的表征出异质界面状态的改变。

    一种金刚石微流道的制备方法
    49.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115367695A

    公开(公告)日:2022-11-22

    申请号:CN202211027028.5

    申请日:2022-08-25

    Abstract: 一种金刚石微流道的制备方法,本发明的目的是为了解决金刚石微流道加工困难,封闭微流道引入其余材料进行键合,密封性不好的问题。制备方法:一、金刚石预处理;二、按照微流道图案进行光刻;三、采用磁控溅射工艺在金刚石表面镀铁膜;四、金属催化等离子体刻蚀;五、控制生长舱内甲烷体积含量为8%~10%,调整输入微波功率和反应舱气压,控制生长温度为950~980℃,使微流道横向生长;六、残余金属清洗。本发明金刚石微流道的制备方法中金属催化等离子体刻蚀工艺简单,刻蚀速度快,能够一次性同时刻蚀多条通道,对金刚石不产生烧蚀作用,金刚石原位横向生长闭合微流道,无需引入其余材料进行键合,密封性更好。

    利用固态碳源的无气流MPCVD单晶金刚石生长方法

    公开(公告)号:CN112877773A

    公开(公告)日:2021-06-01

    申请号:CN202110034019.8

    申请日:2021-01-13

    Abstract: 利用固态碳源的无气流MPCVD单晶金刚石生长方法,本发明要解决现有MPCVD法单晶金刚石生长工艺中需要消耗大量高纯氢气,碳源利用率较低的问题。单晶金刚石生长方法:一、清洗金刚石籽晶;二、将单晶金刚石籽晶放置于样品台中心的样品托上,将固态碳源放置于单晶金刚石籽晶的四周;三、将反应舱内抽真空,随后通入高纯氢气,并升高气压与微波功率;四、在无气流稳定生长过程中,采用光谱仪对反应舱内的等离子体进行监控,通过调节微波功率来调节固态碳源表面的温度;五、结束生长。本发明在无气流生长过程中,原子氢刻蚀固态碳源产生碳氢基团,随后通过热扩散粒子输运到金刚石籽晶表面,此过程持续循环进行,实现单晶金刚石的快速生长。

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